【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术一般地涉及发射光谱学，更具体地涉及一种使用火花放电的发射光谱分析的方法和装置。在使用火花放电的发射光谱分析中，进行分析前，通常对样品表面施加火花放电以对被分析样品的表面作预处理，从而减少样品表面或其内部小的裂痕和/或针孔和/或附在那里的杂质对分析结果的有害影响，改进了分析精度。为了进行5秒的分析，该预处理需要进行10秒以上的高能量火花放电。这种用于样品预处理的火花放电被称做“预备放电”。进行的预备放电越多，分析的精度变得越高。足够次数的预备放电施加于样品表面后，用于分析的火花放电再施加到由预备放电预处理过的样品表面。这种用于分析的放电被称做“分析放电”。用于预备放电所需的时间比用于分析放电所需的时间长的理由是，被每一个在一次分析操作中产生的火花放电触及的样品表面位置是不确定的。因此整个样品表面都必须事先由预备放电进行处理。所做的分析越精确，预备放电需要的时间越长。因此，本专利技术的主要目的是提供一种用于发射光谱分析的、利用火花放电作为一种光源的方法和装置，与常规的方法和仪器相比本专利技术不仅能大量缩短分析所需的时间而且能大大改进分析的精度。分析放电...
【技术保护点】
一种对包含被分析元素的样品进行发射光谱分析的方法，包括：以周期脉冲的形式提供能量，每一脉冲波形包括一较高的能量部分和一与所述的较高的能量部分连续的较低的能量部分，所述的较高的能量部分提供足够数量的能量用以汽化包含在所述样品中的所述的元素 ，而所述的较低的能量部分提供足够数量的能量使所述的被汽化的元素发光；把每一个所述脉冲的能量集中到所述样品上以及，用光谱学方法测量由所述被汽化元素发射的所述的光。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：福井勋，林修三，深山隆男，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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