发射光谱分析稀有金属中碳、硫、磷的方法及新光源设备技术

一种发射光谱分析稀有金属中碳、硫、磷的方法：首先将被测样品置入电极穴中；选定对应值的大电容并入控制电路中；充入氩气并启动光源发生装置，激发高能量大火花，在高能量大火花下激励样品使之辐射。一种实现该方法的新光源设备，包括光源发生装置及其一对发射电极，光源发生装置内置的控制电路包括：一电源，其一路输出接至两阻隔高频保护电源电感的一端，该电感的另一端并入一大电容；电源的另一路输出接高压变压器，高压变压器的次级线圈再接至电感可调的高频变压器，高频变压器的次级线圈一端经保护电路接至分析间隙的一端，其另一端接至分析间隙的另一端。该设备还配有一带有上下气孔的旋流气室，在旋流气室的两相对侧各开一进气口。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种发射光谱分析稀有金属中碳、硫、磷的方法及其新光源设备。
技术介绍
对于稀有金属中碳、硫、磷(C、S、P)的光谱分析方法，直到目前为止，国内外主要方法是用真空光量计火花分析钢中或油(2)中的C、S、P，其缺陷是对于有色和稀有金属中的C、S、P分析灵敏度相对较低，而且常受多谱线和大背景的干扰和影响。在现有对稀有难熔及稀土光谱分析中常采用一套系统设备，如图4所示由光源设备的火花放电光源装置201’激励电极202’产生电弧、火花，激发电极穴2021’中的被测物质中的等离子体，通过光谱分析仪4’对其进行拍摄、统计、分析，工作中同时通入Ar气(可由Ar气罐3’提供)使电弧、火花与外围氧气隔离，以在火花激发中用作防氧化气氛保护。通常的做法是采用一上下直通式气氛控制箱1’，直接由一口通入Ar气，另一口出气(图中箭头指示的为气路走向)，而形成对火花的包围，但相对来说，这种直通式气氛控制箱耗气量大，每分钟用气量为20升/分，且对电容火花放电保护力度有限；连续工作性差，每检测一次需要停机更换电极穴中的被测物质后用Ar气洗涤再启动。上述的现有光源设备的火花放电光源装置202’是由内置控本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发射光谱分析稀有金属中碳、硫、磷的方法，其特征在于方法如下：１）将被测稀有金属样品置入电极穴中；２）根据测定对象选定对应值的大电容并入光源发生装置的控制电路中；３）由气氛控制室的进气口充入氩气并同时启动光源发生装 置，在氩气气氛保护下激发高能量大电容火花，在高能量大火花下激励样品使之辐射。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：钱伯仁，张宝泰，李秉才，刘湘生，潘元海，王长华，张福来，
申请(专利权)人：北京有色金属研究总院，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]