进窑炉前清洁上釉装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及瓦片加工技术领域，公开了一种进窑炉前清洁上釉装置，依次包括清洁机构、第一翻转机构、喷雾机构、第二翻转机构和上釉机构；还包括传送架，传送架包括支架和设置在支架上传送带；清洁机构、喷雾机构和上釉机构均位于传送带的上方。本实用新型专利技术结构简单，对瓦片进窑前进行清洁、上釉，提高瓦片烧制的质量。

【技术实现步骤摘要】
进窑炉前清洁上釉装置
本技术涉及瓦片加工
，具体涉及一种进窑炉前清洁上釉装置。
技术介绍
瓦片是重要的屋面防水材料，一般用泥土烧成，也有用水泥等材料制成的，形状有拱形的、平的或半个圆筒形的等。瓦片的现有的生产技术具体包括：原料粉碎、烘干、压制成型和上釉烤制。在对瓦片的原料压制成型瓦片毛坯时，瓦片毛坯上会产生颗粒等杂质，在上釉料时，由于颗粒等杂质的阻挡，釉料难以均匀的喷涂在瓦片毛坯上，导致烧制成型的瓦片的釉色不均匀，降低瓦片的质量。为了提高瓦片上的釉色，需要对压制成型的瓦片毛坯进行清理，以提高瓦片上釉的质量。
技术实现思路
本技术意在提供一种进窑炉前清洁上釉装置，对瓦片表面的颗粒等杂质进行清理，以使得喷涂在瓦片上的釉料均匀。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种进窑炉前清洁上釉装置，依次包括清洁机构、第一翻转机构、喷雾机构、第二翻转机构和上釉机构；还包括传送架，传送架包括支架和设置在支架上传送带；清洁机构、喷雾机构和上釉机构均位于传送带的上方。本技术的原理以及有益效果：(1)现有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于，依次包括清洁机构、第一翻转机构、喷雾机构、第二翻转机构和上釉机构；还包括传送架，传送架包括支架和设置在支架上传送带；清洁机构、喷雾机构和上釉机构均位于传送带的上方。/n

【技术特征摘要】
1.一种进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于，依次包括清洁机构、第一翻转机构、喷雾机构、第二翻转机构和上釉机构；还包括传送架，传送架包括支架和设置在支架上传送带；清洁机构、喷雾机构和上釉机构均位于传送带的上方。


2.根据权利要求1所述的进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于：所述清洁机构包括中空的除尘壳，除尘壳的下部开口，除尘口的顶部开设有气口，除尘壳上固定有与气口连通的负压泵，还包括固定在支架上的风机，风机的出口朝向传送带。


3.根据权利要求1所述的进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于：所述第一翻转机构和第二翻转机构均包括若干转动架，转动架通过支撑轴固定连接，支撑轴上固定有若干驱动件，驱动件的下方设置有固定在驱动件的输出轴上的压板，压板下方设置有第二传送带，其中一个传送架的外侧壁固定有从齿轮，从齿轮啮合有主齿轮，主齿轮由驱动件驱动。


4.根据权利要求1所述的进窑炉前清洁上釉装置，其特征在于：所述喷雾机构包括中空的...

【专利技术属性】
技术研发人员：范华明，
申请(专利权)人：重庆恒隆陶瓷制品有限公司，
类型：新型
国别省市：重庆;50