进窑炉前清洁上釉装置制造方法及图纸

技术编号:25944218 阅读:23 留言:0更新日期:2020-10-17 03:36
本实用新型专利技术涉及瓦片加工技术领域,公开了一种进窑炉前清洁上釉装置,依次包括清洁机构、第一翻转机构、喷雾机构、第二翻转机构和上釉机构;还包括传送架,传送架包括支架和设置在支架上传送带;清洁机构、喷雾机构和上釉机构均位于传送带的上方。本实用新型专利技术结构简单,对瓦片进窑前进行清洁、上釉,提高瓦片烧制的质量。

【技术实现步骤摘要】
进窑炉前清洁上釉装置
本技术涉及瓦片加工
,具体涉及一种进窑炉前清洁上釉装置。
技术介绍
瓦片是重要的屋面防水材料,一般用泥土烧成,也有用水泥等材料制成的,形状有拱形的、平的或半个圆筒形的等。瓦片的现有的生产技术具体包括:原料粉碎、烘干、压制成型和上釉烤制。在对瓦片的原料压制成型瓦片毛坯时,瓦片毛坯上会产生颗粒等杂质,在上釉料时,由于颗粒等杂质的阻挡,釉料难以均匀的喷涂在瓦片毛坯上,导致烧制成型的瓦片的釉色不均匀,降低瓦片的质量。为了提高瓦片上的釉色,需要对压制成型的瓦片毛坯进行清理,以提高瓦片上釉的质量。
技术实现思路
本技术意在提供一种进窑炉前清洁上釉装置,对瓦片表面的颗粒等杂质进行清理,以使得喷涂在瓦片上的釉料均匀。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种进窑炉前清洁上釉装置,依次包括清洁机构、第一翻转机构、喷雾机构、第二翻转机构和上釉机构;还包括传送架,传送架包括支架和设置在支架上传送带;清洁机构、喷雾机构和上釉机构均位于传送带的上方。本技术的原理以及有益效果:(1)现有技术中,可以通过风机来对瓦片毛坯进行处理,但是,对于瓦片毛坯的另一面进行清理时,一般通过人工翻面,工作效率较低。本方案中,通过清洁机构对毛坯进行第一次清理,然后通过第一翻转机构对瓦片毛坯进行翻面,然后通过喷雾机构对瓦片毛坯的另一面进行清理,喷雾机构喷出的水蒸汽遇到瓦片毛坯冷凝,冷凝后的水滴会将瓦片另一面的颗粒等杂质带走,如此提高瓦片两面的清理效果。(2)水蒸汽对瓦片进行湿润,使得瓦片表面的粘性提高,经过上釉机构时,釉料更容易粘附在瓦片的表面。由于经过了清洁机构和喷雾机构的处理,将瓦片表面的颗粒去除,如此在上釉机构对瓦片毛坯上釉时,釉料更为均匀的喷涂在瓦片毛坯上。综上所述,通过本方案,可对瓦片毛坯进行均匀上釉料。进一步,所述清洁机构包括中空的除尘壳,除尘壳的下部开口,除尘口的顶部开设有气口,除尘壳上固定有与气口连通的负压泵,还包括固定在支架上的风机,风机的出口朝向传送带。有益效果:通过负压泵和除尘壳的配合将瓦片毛坯的一面进行颗粒杂质除尘,然后通过风机吹的风进一步将瓦片毛坯上的颗粒杂质吹走,提高除杂效果。进一步,所述第一翻转机构和第二翻转机构均包括若干转动架,转动架通过支撑轴固定连接,支撑轴上固定有若干驱动件,驱动件的下方设置有固定在驱动件的输出轴上的压板,压板下方设置有第二传送带,其中一个传送架的外侧壁固定有从齿轮,从齿轮啮合有主齿轮,主齿轮由驱动件驱动。有益效果:现有技术中通过人工翻面的工作效率较低,通过驱动件、压板将瓦片毛坯压紧,然后再翻转,使得瓦片毛坯翻面,提高瓦片毛坯翻面的效率,以便于对瓦片毛坯的另一面进行除杂。进一步,所述喷雾机构包括中空的喷雾罩,喷雾罩的下部开口,喷雾罩上固定有朝向传送带的喷雾喷头。有益效果:通过喷雾喷头将水蒸汽喷出,使得瓦片毛坯整体均能够接触水蒸汽,以便于水蒸汽使得瓦片毛坯湿润,以便于瓦片毛坯上釉料。进一步,所述上釉机构包括中空的喷釉壳,喷釉壳的下部开口,喷釉壳上固定有朝向传送带的喷釉喷头。有益效果:通过喷釉喷头对瓦片毛坯进行喷釉料,与人工涂抹相比,工作效率更高。进一步,所述喷釉壳下方设置有固定在支架上的倾斜板,倾斜板上固定有第二喷釉喷头。有益效果:通过第二喷釉喷头对瓦片毛坯的两面进行上釉料,减少了瓦片毛坯进行翻面的工作,提高了瓦片毛坯上釉料的工作效率。进一步,所述倾斜板的下方设置有釉料收集箱,釉料收集箱的上部设置有接收口。有益效果:对于的釉料通过倾斜板进行引流,并且使得釉料进入到釉料收集箱内,如此对釉料进行收集,以便于釉料回收利用。进一步,所述除尘壳的横截面为梯形,梯形的下部直径大于下部直径。有益效果:梯形的下部直径大于上部直径,负压泵对除尘壳进行抽气时,扩大负压的作用面,保证瓦片毛坯上的杂质能够被抽走。进一步,所述压板的下表面固定有缓冲层。有益效果:通过缓冲层对压板进行缓冲,减少压板对瓦片毛坯的损坏。进一步:所述转动架至少为两个。有益效果:转动架至少为两个,保证翻转机构的转动平衡,并使得翻转机构的翻转更为稳定。附图说明图1为本技术实施例一中进窑炉前清洁上釉装置的轴测图;图2为本技术实施例一中清洁机构的俯视图;图3为本技术实施例一中清洁机构的剖视图;图4为本技术实施例一中喷雾机构的剖视图;图5为本技术实施例一中第一翻转机构和第二翻转机构的剖视图;图6为本技术实施例一、二中上釉机构的剖视图;图7为图6的B-B向剖视图。具体实施方式下面通过具体实施方式进一步详细说明:说明书附图中的附图标记包括:传送架1、主动辊101、电机110、皮带102、滑轨103、支撑杆105、张紧辊106、支撑板107、喷釉壳2、喷釉喷头21、倾斜板22、第二喷釉喷头23、釉料收集箱24、转动架3、支撑轴31、气缸32、压板33、从齿轮34、单相电机35、主齿轮36、转动台37、转动槽38、辊轴39、从动辊391、喷雾壳4、喷雾喷头41、风机5、除尘壳6、气口61、负压泵62。实施例一:基本如附图1所示,一种进窑炉前清洁上釉装置,从左至右依次包括清洁机构、第一翻转机构、喷雾机构、第二翻转机构和上釉机构。如附图2和附图3所示,还包括传送架1,传送架1包括支架和设置在支架上的传送带,传送带包括两根皮带102、位于支架左侧的张紧辊106和位于支架右侧的主动辊101,两根皮带102分别套设在张紧辊106和主动辊101的两侧,张紧辊106和主动辊101均转动连接在支架上,主动辊101焊接在电机110的输出轴上,电机110通过紧固螺栓固定在支架上。两根皮带102的下方均设置有滑轨103,滑轨103对皮带102进行支撑,滑轨103的底部焊接固定有若干支撑板107,支撑板107的两端位于支架的两侧,支撑板107两端的下方均设置有焊接固定在支架上的支撑杆105,支撑杆105与支撑板107的两端焊接固定。如附图2和附图3所示,清洁机构包括通过紧固螺栓固定在支架上的除尘壳6,除尘壳6位于皮带102的上方,除尘壳6的下部开口且除尘壳6的横截面为梯形,梯形的下部直径大于上部直径,除尘壳6的顶壁上开有气口61,除尘壳6的顶壁上通过紧固螺栓固定有负压泵62,负压泵62的进气口61通过管道与气口61连通。除尘壳6的右侧设置有风机5,风机5位于皮带102的上方且风机5的出气口61朝向皮带102,风机5通过紧固螺栓固定在支架上。附图4所示,第一翻转机构和第二翻转机构均包括三个圆形的转动架3,转动架3的上部和下部均焊接固定有两根支撑轴31,两根支撑轴31沿转动架3的径向均布,上部两根支撑轴31之间焊接固定有若干连接板,连接板的两侧均通过紧固螺栓固定有驱动件,本实施例中,驱动件为气缸32本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种进窑炉前清洁上釉装置,其特征在于,依次包括清洁机构、第一翻转机构、喷雾机构、第二翻转机构和上釉机构;还包括传送架,传送架包括支架和设置在支架上传送带;清洁机构、喷雾机构和上釉机构均位于传送带的上方。/n

【技术特征摘要】
1.一种进窑炉前清洁上釉装置,其特征在于,依次包括清洁机构、第一翻转机构、喷雾机构、第二翻转机构和上釉机构;还包括传送架,传送架包括支架和设置在支架上传送带;清洁机构、喷雾机构和上釉机构均位于传送带的上方。


2.根据权利要求1所述的进窑炉前清洁上釉装置,其特征在于:所述清洁机构包括中空的除尘壳,除尘壳的下部开口,除尘口的顶部开设有气口,除尘壳上固定有与气口连通的负压泵,还包括固定在支架上的风机,风机的出口朝向传送带。


3.根据权利要求1所述的进窑炉前清洁上釉装置,其特征在于:所述第一翻转机构和第二翻转机构均包括若干转动架,转动架通过支撑轴固定连接,支撑轴上固定有若干驱动件,驱动件的下方设置有固定在驱动件的输出轴上的压板,压板下方设置有第二传送带,其中一个传送架的外侧壁固定有从齿轮,从齿轮啮合有主齿轮,主齿轮由驱动件驱动。


4.根据权利要求1所述的进窑炉前清洁上釉装置,其特征在于:所述喷雾机构包括中空的...

【专利技术属性】
技术研发人员:范华明
申请(专利权)人:重庆恒隆陶瓷制品有限公司
类型:新型
国别省市:重庆;50

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