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本实用新型涉及瓦片加工技术领域，公开了一种进窑炉前清洁上釉装置，依次包括清洁机构、第一翻转机构、喷雾机构、第二翻转机构和上釉机构；还包括传送架，传送架包括支架和设置在支架上传送带；清洁机构、喷雾机构和上釉机构均位于传送带的上方。本实用新型结...
该专利属于重庆恒隆陶瓷制品有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆恒隆陶瓷制品有限公司授权不得商用。

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