一种超高真空环境多功能样品台及样品原位图案化的方法技术

本发明专利技术公开了一种超高真空环境多功能样品台及样品原位图案化的方法，包括加热台、加热单元和存样台；加热台设于加热单元上方，存样台位于加热单元后端通过直流电源连接样品托板、电刷实现样品托板直流加热；通过直流电源连接加热丝实现样品托板的热辐射加热和电子束轰击加热；将材料沉积于掩膜板托板下的样品托板上。本发明专利技术结构简单、易于维护，具备多种样品加热模式，同时还具有原位的样品图案化功能，且两种功能可可独立也可同时工作。大大减少了器件加工的工序，也减小了器件加工过程中对样品本身性能的破坏。能满足实验室需求。

【技术实现步骤摘要】
一种超高真空环境多功能样品台及样品原位图案化的方法
本专利技术涉及真空
，特别是一种用于超高真空环境的多功能样品台及样品原位图案化的方法。
技术介绍
超高真空环境是指压强处于10-6-10-8Pa范围的真空环境。在超高真空环境中，残余分子密度极小，分子平均自由程远大于容器特征尺寸，这使得样品清洁表面不易受分子吸附污染，即可维持较长时间的清洁表面。真空技术在半导体工业、航空航天、表面科学研究等领域有广泛应用。特别是对微电子产业中芯片的制造与加工中，有着重要作用。因此，发展用于超高真空环境的设备显得尤为重要。在超高真空技术中，样品处理技术十分关键。在样品处理中，应用最广泛的就是给样品加热或退火。其主要作用包括：1)去除基底表面物理吸附的杂质，形成洁净表面；2)使表面原子获得动能，形成新的表面重构；3)在材料沉积过程中，控制基底温度，调控其结构和物相的形成。并且，对于不同材料种类的样品和不同温度需求，可采取的加热方式也不同。一般来说，对于低于1000℃的需求，主要采用辐射加热；对于高于1000℃的需求，采用电子束轰击加热；特别地，对于具本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于超高真空环境的多功能样品台，其特征在于，包括加热台(101)、加热单元(102)和存样台(103)；所述加热台(101)设于加热单元(102)上方，存样台(103)位于加热单元(102)后端；/n所述加热台(101)包括金属台(201)、位于金属台(201)上的电刷(206)、样品托板(207)、掩膜板托板(301)和测温单元(208)；所述电刷(206)、样品托板(207)与直流电源连接，测温单元(208)与样品托板(207)连接；/n所述加热单元(102)包括热屏蔽板(211)、位于屏蔽板(211)上方的陶瓷板(213)和加热丝(212)；所述加热丝(212)与直流电源连接；/...

【技术特征摘要】
1.一种用于超高真空环境的多功能样品台，其特征在于，包括加热台(101)、加热单元(102)和存样台(103)；所述加热台(101)设于加热单元(102)上方，存样台(103)位于加热单元(102)后端；
所述加热台(101)包括金属台(201)、位于金属台(201)上的电刷(206)、样品托板(207)、掩膜板托板(301)和测温单元(208)；所述电刷(206)、样品托板(207)与直流电源连接，测温单元(208)与样品托板(207)连接；
所述加热单元(102)包括热屏蔽板(211)、位于屏蔽板(211)上方的陶瓷板(213)和加热丝(212)；所述加热丝(212)与直流电源连接；
所述存样台(103)包括一个用于放置样品托板的框形架，和其一侧连接一块用于放置加热台(101)和加热单元(102)的平板；
通过直流电源连接样品托板(207)和电刷(206)，实现样品托板(207)直流加热；通过直流电源连接加热丝(212)，实现样品托板(207)的热辐射加热；通过直流电源连接加热丝(212)，高压电源连接样品托板(207)实现样品托板(207)的电子束轰击加热；将材料沉积于掩膜板托板(301)下的样品托板(207)上。


2.根据权利要求1所述的一种用于超高真空环境的多功能样品台，其特征在于，所述样品卡槽(214)具有双层插槽，分别独立安装载有样品的样品托板(207)和嵌入有阴影掩膜板(320)的掩膜板托板(301)，或同时安装样品托板(207)和掩膜板托板(301)。


3.根据权利要求1所述的一种用于超高真空环境的多功能样品台，其特征在于，所述电刷(206)位于金属台(201)上方，电刷(206)一端连接直流电源，另一端连接样品托板(207)的接...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘毅，吴迪，袁玺惠，闵泰，
申请(专利权)人：西安交通大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61