掩模版修复设备制造技术

本申请提供一种掩模版修复设备，掩模版修复设备包括研磨机构，在研磨机构中，导向头的第一端部与所述第二驱动组件连接，第二端部抵接研磨带，第二驱动组件用于驱动导向头摆动以调整研磨带的研磨角度。本申请通过将研磨机构的导向头设置为可摆动的方式，提高了研磨机构的研磨效果。

【技术实现步骤摘要】
掩模版修复设备
本申请涉及一种显示
，特别涉及一种掩模版修复设备。
技术介绍
在掩模版的表面修复设备中，当出现顽固的纤维和金属类异物时，由于镭射机构无法进行清除，因此只能人为进行研磨，但手动研磨的修复效率低而且对于掩模版不平整表面处的异物研磨效果差，比如凹面处的异物研磨不到。
技术实现思路
本申请实施例提供一种掩模版修复设备，以解决现有的掩模版表面修复设备对掩模版的修复效果差的技术问题。本申请实施例提供一种掩模版修复设备，其包括：研磨机构，所述研磨机构用于对掩模版上的异物进行研磨处理；所述研磨机构包括：驱动控制模组，所述驱动控制模组包括腔体、连接于所述腔体的第一驱动组件、第二驱动组件和多个滚轮，所述腔体面向所述掩模版的一侧凹设形成一凹槽，所述第一驱动组件与至少一所述滚轮连接且用于驱动所述滚轮转动，所述滚轮位于所述凹槽的外周侧；研磨带，所述研磨带用于研磨所述异物，所述研磨带围绕并搭接在所述滚轮上；以及导向头，所述导向头设置在所述凹槽内并延伸出所述凹槽，所述导向头位于所述研磨本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模版修复设备，其特征在于，包括：/n研磨机构，所述研磨机构用于对掩模版上的异物进行研磨处理；/n所述研磨机构包括：/n驱动控制模组，所述驱动控制模组包括腔体、连接于所述腔体的第一驱动组件、第二驱动组件和多个滚轮，所述腔体面向所述掩模版的一侧凹设形成一凹槽，所述第一驱动组件与至少一所述滚轮连接且用于驱动所述滚轮转动，所述滚轮位于所述凹槽的外周侧；/n研磨带，所述研磨带用于研磨所述异物，所述研磨带围绕并搭接在所述滚轮上；以及/n导向头，所述导向头设置在所述凹槽内并延伸出所述凹槽，所述导向头位于所述研磨带形成的圈内，所述导向头包括相对设置的第一端部和第二端部，所述第一端部设置在所述凹槽内，...

【技术特征摘要】
1.一种掩模版修复设备，其特征在于，包括：
研磨机构，所述研磨机构用于对掩模版上的异物进行研磨处理；
所述研磨机构包括：
驱动控制模组，所述驱动控制模组包括腔体、连接于所述腔体的第一驱动组件、第二驱动组件和多个滚轮，所述腔体面向所述掩模版的一侧凹设形成一凹槽，所述第一驱动组件与至少一所述滚轮连接且用于驱动所述滚轮转动，所述滚轮位于所述凹槽的外周侧；
研磨带，所述研磨带用于研磨所述异物，所述研磨带围绕并搭接在所述滚轮上；以及
导向头，所述导向头设置在所述凹槽内并延伸出所述凹槽，所述导向头位于所述研磨带形成的圈内，所述导向头包括相对设置的第一端部和第二端部，所述第一端部设置在所述凹槽内，所述第二端部设置在所述凹槽外，所述第一端部与所述第二驱动组件连接，所述第二端部抵接所述研磨带，所述第二驱动组件用于驱动所述导向头摆动以调整所述研磨带的研磨角度。


2.根据权利要求1所述的掩模版修复设备，其特征在于，所述第一端部开设一固定孔，所述固定孔固定设置一连接轴，所述第二驱动组件连接所述连接轴。


3.根据权利要求1所述的掩模版修复设备，其特征在于，所述掩模版修复设备包括移送机构，所述移送机构包括第一移位模块、第二移位模块和第三移位模块，所述第一移位模块用于驱动所述研磨机构沿着第一方向移动，所述第二移位模块用于驱动所述研磨机构沿着第二方向移动，所述第三移位模块用于驱动所述研磨机构沿着第三方向移动；
所述第二移动模块滑动设置在所述第一移位模块上，所述第三移动模块滑动设置在所述第二移动模块上，所述第一方向、所述第二方向和所述第三方向两两垂直。


4.根据权利要求3所述的掩模版修复设备，其特征在于，所述研磨机构还包括一用于感测导向头与所述研磨带的接触处压力的压力传感器，所述压力传感器设置在所述腔体上，所述第二端部上开设一固定槽，所述压力传感器的感测端设置在所述固定槽内；
所述第三方向为上下方向，所述压力传感器与所述第三移动模块电连接。


5.根据权利要求1所述的掩模版修复设备，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈策，许亮，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42