本实用新型专利技术公开了一种金属卷材真空镀膜设备，包括加热真空腔体、多弧离子沉膜腔体、放卷装置、收卷装置、加热装置、多弧离子靶、抽真空装置和控制系统，金属卷材一端从放卷装置上引出顺序经过加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体并最终缠绕于收卷装置上收卷，加热装置能给加热真空腔体内部空间加热到设定温度，多弧离子靶固定安装于多弧离子沉膜腔体内并能够将有色金属沉积在金属带表面形成彩色镀膜，抽真空装置给加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体抽真空到指定的真空度，控制系统控制放卷装置、收卷装置、加热装置、多弧离子靶和抽真空装置运行，本实用新型专利技术能在卷材表面形成牢固的镀膜层，且镀膜色彩鲜艳、美观，本实用新型专利技术还节省设备占用空间。
【技术实现步骤摘要】
金属卷材真空镀膜设备
本技术涉及一种真空镀膜设备，特别涉及一种金属卷材真空镀膜设备。
技术介绍
目前金属卷材进行真空镀膜时，都是将是采用一个真空腔体，多弧离子靶安装在这个腔体侧壁上，在腔体内设置放卷和收卷装置，进行放卷和收卷的同时对料带进行沉膜，实现真空镀膜，这种镀膜方式，镀膜牢固度差，容易脱落，且镀膜表面色彩不够鲜艳，整体美观性不足，腔体内真空度难以掌控，容易出现镀膜后产品氧化变色。
技术实现思路
为了克服上述缺陷，本技术提供了一种金属卷材真空镀膜设备，该金属卷材真空镀膜设备能够提高真空镀膜的牢固度，且镀膜色彩鲜艳、美观。本技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是：一种金属卷材真空镀膜设备，包括加热真空腔体、多弧离子沉膜腔体、放卷装置、收卷装置、加热装置、多弧离子靶、抽真空装置和控制系统，所述金属卷材一端从放卷装置上引出顺序经过加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体并最终缠绕于收卷装置上收卷，加热装置能够给加热真空腔体内部空间加热到设定温度，多弧离子靶固定安装于多弧离子沉膜腔体内并能够将有色金属沉积在金属带表面形成彩色镀膜，抽真空装置给加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体抽真空到指定的真空度，控制系统控制放卷装置、收卷装置、加热装置、多弧离子靶和抽真空装置运行。作为本技术的进一步改进，还设有放卷真空腔体和收卷真空腔体，放卷真空腔体通过连接通道与加热真空腔体一侧连通，加热真空腔体另一侧通过连接通道与多弧离子沉膜腔体一侧连通，多弧离子沉膜腔体另一侧通过连接通道与收卷真空腔体连通，放卷装置和收卷装置分别安装于放卷真空腔体和收卷真空腔体内，抽真空装置能够给放卷真空腔体和收卷真空腔体抽真空。作为本技术的进一步改进，还设有保护气体提供装置，所述保护气体提供装置能够给多弧离子沉膜腔体内充保护气体。作为本技术的进一步改进，所述多弧离子沉膜腔体包括第一多弧离子沉膜腔体和第二多弧离子沉膜腔体，其中第一多弧离子沉膜腔体通过连接通道与第二多弧离子沉膜腔体连通，保护气体提供装置包括第一保护气体提供装置和第二保护气体提供装置，第一保护气体提供装置给第一多弧离子沉膜腔体提供Ar气，第二保护气体提供装置给第二多弧离子沉膜腔体提供Ar气、N2气、C2H2或O2气中的一种或多种组合，多弧离子靶能够给第一多弧离子沉膜腔体内料带沉积Cr膜，多弧离子靶能够给第二多弧离子沉膜腔体内料带沉积TiN膜。作为本技术的进一步改进，第二保护气体提供装置包括保护气体供气管路和混气装置，各保护气体管路内分别充有不同的保护气体，各个保护气体供气管路与混气装置进气口连通，混气装置的出气口通过管路与第二多弧离子沉膜腔体连通，混气装置能够将多种保护气体混合均匀。作为本技术的进一步改进，所述保护气体提供装置的充气管路上还设有流量计，流量计能够感应充气管路内气体流量信息并传信于控制系统，控制系统控制保护气体提供装置的启停。作为本技术的进一步改进，所述加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体内部上端设有两个传动辊，加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体内部下端设有一个传动辊，金属带顺序绕过一个上端传动辊、下端传动辊和另一个上端传动辊形成沿加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体长度方向延伸的转向的输送，加热装置固定安装于加热真空腔体两侧，金属带恰位于两个加热装置之间，多个多弧离子靶间隔排列于多弧离子沉膜腔体两侧，金属带恰位于多个多弧离子靶之间。作为本技术的进一步改进，所述加热装置为电加热管，加热装置能够给加热真空腔体内温度加热到180-220℃。作为本技术的进一步改进，所述放卷装置包括放卷料盘、放料辊和放料压辊，所述放料辊和放料压辊圆周外侧表面能够紧密接触的相对转动，放料盘上引出的料带经过放料辊和放料压辊之间向前输送，收卷装置包括收卷料盘、收料辊和收料压辊，所述收料辊和收料压辊圆周外侧表面能够紧密接触的相对转动，料带经过收料辊和收料压辊之间并最终缠绕于收卷料盘上。作为本技术的进一步改进，还设有设备底座，所述放卷真空腔体、加热真空腔体、多弧离子沉膜腔体和收卷真空腔体顺序固定安装于底座上。本技术的有益效果是：本技术通过设置多个真空腔体，通过连接管道连通，料带在各个真空腔体内通过连接管道进行传输，传输过程中先经过加热，然后进入充有Ar气的第一多弧离子沉膜腔体沉积Cr膜为钢卷打底提高膜层附着力，然后进入充有N2、N2和C2H2的混合气或O2气体的第二多弧离子沉膜腔体，沉积有色金属膜，使得钢卷表面会变成所需颜色的彩色色泽，采用本技术的真空镀膜设备能够在卷材表面形成牢固的镀膜层，且镀膜色彩鲜艳、美观，本技术还节省设备占用空间。附图说明图1为本技术的结构原理主视图。具体实施方式实施例：一种金属卷材真空镀膜设备，包括加热真空腔体2、多弧离子沉膜腔体、放卷装置6、收卷装置7、加热装置8、多弧离子靶9、抽真空装置10和控制系统，所述金属卷材一端从放卷装置6上引出顺序经过加热真空腔体2和多弧离子沉膜腔体并最终缠绕于收卷装置7上收卷，加热装置8能够给加热真空腔体2内部空间加热到设定温度，多弧离子靶9固定安装于多弧离子沉膜腔体内并能够将有色金属沉积在金属带表面形成彩色镀膜，抽真空装置10给加热真空腔体2和多弧离子沉膜腔体抽真空到指定的真空度，控制系统控制放卷装置6、收卷装置7、加热装置8、多弧离子靶9和抽真空装置10运行。金属卷材的料带从放卷装置6上引出后顺序经过加热真空腔体2和多弧离子沉膜腔体最终由收卷装置7收料，料带在加热真空腔体2内被加热后，在多弧离子沉膜腔体内沉积有色金属膜，使得料带表面会变成有色的色泽，根据不同的颜色要求沉积不同的有色金属即可，料带在真空腔体内进行加热和沉膜不会发生氧化变色，其中抽真空装置10可以为真空泵。还设有放卷真空腔体1和收卷真空腔体5，放卷真空腔体1通过连接通道14与加热真空腔体2一侧连通，加热真空腔体2另一侧通过连接通道14与多弧离子沉膜腔体一侧连通，多弧离子沉膜腔体另一侧通过连接通道14与收卷真空腔体5连通，放卷装置6和收卷装置7分别安装于放卷真空腔体1和收卷真空腔体5内，抽真空装置10能够给放卷真空腔体1和收卷真空腔体5抽真空。通过放卷真空腔体1和收卷真空腔体5容纳放卷装置6和收卷装置7，使得卷材在整个镀膜过程中始终都处于真空腔体内，有效保证了镀膜时真空度，保证了镀膜效果，避免有外界空气进入多弧离子沉膜腔体。还设有保护气体提供装置，所述保护气体提供装置能够给多弧离子沉膜腔体内充保护气体。镀膜过程中多弧离子沉膜腔体内充满保护气体，能够保持多弧离子沉膜腔体气压稳定，实现空气充分排出，可以起到防止金属料带氧化的效果。所述多弧离子沉膜腔体包括第一多弧离子沉膜腔体3和第二多弧离子沉膜腔体4，其中第一多弧离子沉膜腔体3通过连接通道14与第二多弧离子沉膜腔体4连通，保护气体提供装置包括第一保护气体提供装置和第二保护气体提供装置，第一保护气体提供装置给第一多弧离子沉膜腔体3提供Ar气，第二保护气体本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：包括加热真空腔体(2)、多弧离子沉膜腔体、放卷装置(6)、收卷装置(7)、加热装置(8)、多弧离子靶(9)、抽真空装置(10)和控制系统，所述金属卷材一端从放卷装置上引出顺序经过加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体并最终缠绕于收卷装置上收卷，加热装置能够给加热真空腔体内部空间加热到设定温度，多弧离子靶固定安装于多弧离子沉膜腔体内并能够将有色金属沉积在金属带表面形成彩色镀膜，抽真空装置给加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体抽真空到指定的真空度，控制系统控制放卷装置、收卷装置、加热装置、多弧离子靶和抽真空装置运行。/n
【技术特征摘要】
1.一种金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：包括加热真空腔体(2)、多弧离子沉膜腔体、放卷装置(6)、收卷装置(7)、加热装置(8)、多弧离子靶(9)、抽真空装置(10)和控制系统，所述金属卷材一端从放卷装置上引出顺序经过加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体并最终缠绕于收卷装置上收卷，加热装置能够给加热真空腔体内部空间加热到设定温度，多弧离子靶固定安装于多弧离子沉膜腔体内并能够将有色金属沉积在金属带表面形成彩色镀膜，抽真空装置给加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体抽真空到指定的真空度，控制系统控制放卷装置、收卷装置、加热装置、多弧离子靶和抽真空装置运行。
2.根据权利要求1所述的金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：还设有放卷真空腔体(1)和收卷真空腔体(5)，放卷真空腔体通过连接通道(14)与加热真空腔体一侧连通，加热真空腔体另一侧通过连接通道与多弧离子沉膜腔体一侧连通，多弧离子沉膜腔体另一侧通过连接通道与收卷真空腔体连通，放卷装置和收卷装置分别安装于放卷真空腔体和收卷真空腔体内，抽真空装置能够给放卷真空腔体和收卷真空腔体抽真空。
3.根据权利要求1所述的金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：还设有保护气体提供装置，所述保护气体提供装置能够给多弧离子沉膜腔体内充保护气体。
4.根据权利要求3所述的金属卷材真空镀膜设备，其特征在于：所述多弧离子沉膜腔体包括第一多弧离子沉膜腔体(3)和第二多弧离子沉膜腔体(4)，其中第一多弧离子沉膜腔体通过连接通道与第二多弧离子沉膜腔体连通，保护气体提供装置包括第一保护气体提供装置和第二保护气体提供装置，第一保护气体提供装置给第一多弧离子沉膜腔体提供Ar气，第二保护气体提供装置给第二多弧离子沉膜腔体提供Ar气、N2气、C2H2或O2气中的一种或多种组合，多弧离子靶能够给第一多弧离子沉膜腔体内料带沉积Cr膜，多弧离子靶能够给第二多弧离子沉膜腔体内料带沉积TiN膜。
5.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：成林，
申请(专利权)人：昆山浦元真空技术工程有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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