有掩膜功能的卷对卷真空镀膜设备制造技术

技术编号:36119755 阅读:14 留言:0更新日期:2022-12-28 14:24
本发明专利技术公开了一种有掩膜功能的卷对卷真空镀膜设备,包括真空腔体、安装于真空腔体内的放卷辊、收卷辊、掩膜装置、放卷驱动装置、收卷驱动装置和磁控溅射靶和控制系统,放卷辊上引出的料带能够绕过掩膜装置一侧表面后缠绕于收卷辊上,放卷驱动装置和收卷驱动装置分别驱动放卷辊和收卷辊转动进行放料和收料,掩膜装置上形成有镂空图形,磁控溅射靶能朝向掩膜装置表面方向溅射镀膜材料,磁控溅射靶溅射的镀膜材料能穿过掩膜装置的镂空图形附着于绕经镀膜装置的料带表面形成镀膜层,控制系统控制真空腔体、放卷驱动装置、收卷驱动装置和磁控溅射靶启停工作,本发明专利技术降低了柔性材料图形镀膜生产成本,提高了柔性材料图形镀膜生产效率。率。率。

【技术实现步骤摘要】
有掩膜功能的卷对卷真空镀膜设备


[0001]本专利技术涉及一种真空镀膜工艺,特别涉及一种有掩膜功能的卷对卷真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]卷对卷真空镀膜设备主要是在各种塑料薄膜、织物、铝箔、铜箔等柔性材料表面真空镀制多种功能性膜层的设备,传统卷对卷真空镀膜设备只能在柔性材料表面进行整面镀膜,对于需要在柔性材料表面镀膜形成图形的需求时,目前的工艺是先用传统卷对卷真空镀膜设备在柔性材料表面整面镀膜,然后再使用激光或者蚀刻的办法把材料表面部分镀膜去除,进而使保留的镀膜层在柔性材料表面形成图形效果,该种工艺复杂,生产成本高,生产效率低,还容易出现加工不良。

技术实现思路

[0003]为了克服上述缺陷,本专利技术提供了一种有掩膜功能的卷对卷真空镀膜设备,采用有掩膜功能的卷对卷真空镀膜设备可以直接在柔性材料表面真空镀制有图形的膜层,避免了二次加工,提高了生产效率。
[0004]本专利技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是:一种有掩膜功能的卷对卷真空镀膜设备,包括真空腔体、放卷辊、收卷辊、掩膜装置、放卷驱动装置、收卷驱动装置、磁控溅射靶和控制系统,所述掩膜装置安装于真空腔体内,掩膜装置上形成有镂空图形,放卷辊和收卷辊分别能够转动的安装于真空腔体内,放卷辊上引出的料带能够绕过掩膜装置一侧表面后缠绕于收卷辊上,放卷驱动装置和收卷驱动装置分别驱动放卷辊和收卷辊转动进行放料和收料,至少一个磁控溅射靶固定安装于真空腔体内,且磁控溅射靶设于掩膜装置另一侧,磁控溅射靶能够朝向掩膜装置表面方向溅射镀膜材料,所述磁控溅射靶溅射的镀膜材料能够穿过掩膜装置的镂空图形附着于绕经镀膜装置的料带表面形成镀膜层,控制系统控制真空腔体形成符合设计要求的真空度以及控制放卷驱动装置、收卷驱动装置和磁控溅射靶启停工作。
[0005]作为本专利技术的进一步改进,所述掩膜装置为圆环形的掩膜辊,镂空图形形成预掩膜辊圆周面上,放卷辊引出的料带绕经掩膜辊圆周外侧表面,磁控溅射靶设于掩膜辊环形结构内部。
[0006]作为本专利技术的进一步改进,所述掩膜辊能够转动的设于真空腔体内,还设有掩膜驱动辊和掩膜驱动装置,所述掩膜驱动辊能够转动的安装于真空腔体内,掩膜驱动装置驱动掩膜辊转动,所述掩膜驱动辊与掩膜辊圆周外侧表面紧密接触,控制系统控制掩膜驱动装置启停工作。
[0007]作为本专利技术的进一步改进,所述掩膜驱动辊为两个,掩膜驱动装置包括变频伺服电机、磁流体密封座和同步皮带机构,所述变频伺服电机通过磁流体密封座固定安装于真空腔体内,变频伺服电机驱动两个掩膜驱动辊同步同向转动,两个掩膜驱动辊对称托持于
掩膜辊下方表面。
[0008]作为本专利技术的进一步改进,所述掩膜辊轴向两端分别形成有环形凸缘,掩膜驱动辊轴向两端分别形成有槽型轮,所述掩膜辊轴向两端的环形凸缘插设于掩膜驱动辊轴向两端的槽型轮的槽口内。
[0009]作为本专利技术的进一步改进,所述磁控溅射靶为圆柱形磁控溅射靶或平面磁控溅射靶,两个或两个以上的磁控溅射靶沿掩膜辊圆周内侧均匀间隔分布,各个磁控溅射靶的靶面与掩膜辊的内侧辊面正对。
[0010]作为本专利技术的进一步改进,真空腔体内还固定设有屏蔽罩,所述屏蔽罩与掩膜辊内侧壁之间共同形成供磁控溅射靶容纳的空间。
[0011]作为本专利技术的进一步改进,所述真空腔体内还能够转动的设有第一辅助辊和第二辅助辊,所述第一辅助辊和第二辅助辊平行间隔的设于掩膜辊一侧,放卷辊上引出的料带经过第一辅助辊转向后缠绕于掩膜辊表面,从掩膜辊表面引出的料带经过第二辅助辊转向后缠绕于收卷辊上。
[0012]作为本专利技术的进一步改进,所述真空腔体内还能够转动的设有第一张力传感器辊和第二张力传感器辊,所述放卷辊上引出的料带绕经第一张力传感器辊并进行转向,料带进入收卷辊前绕经第二张力传感器辊转向,所述第一张力传感器辊和第二张力传感器辊分别能够检测绕经其的料带张力,第一张力传感器辊和第二张力传感器辊分别能够将检测信号传输给控制系统。
[0013]作为本专利技术的进一步改进,所述真空腔体内还能够转动的设有第一展平辊和第二展平辊,从放卷辊上引出的料带绕经第一展平辊进行转向,料带绕经第二展平辊转向后进入收料辊。
[0014]本专利技术的有益效果是:本专利技术通过设置具有镂空图形的掩膜装置,由磁控溅射靶在掩膜装置一侧对掩膜装置另一侧的柔性材料进行镀膜,磁控溅射靶溅射的膜料穿过掩膜装置上的镂空图形镀在柔性材料表面形成图形镀膜层,通过将掩膜装置设计成与柔性材料同步转动的掩膜辊,可以实现磁控溅射靶在柔性材料上溅射不连续的图形,形成各个沿料带长度方向间隔排列的图形镀膜,本专利技术避免了传统卷对卷真空镀膜设备整面镀膜后再进行二次加工,大大降低了柔性材料图形镀膜生产成本,提高了柔性材料图形镀膜生产效率,并能够保证成品质量。
附图说明
[0015]图1为本专利技术的结构原理示意图;
[0016]图2为本专利技术的掩膜辊主视图;
[0017]图3位本专利技术的掩膜辊左视图。
具体实施方式
[0018]实施例:一种有掩膜功能的卷对卷真空镀膜设备,包括真空腔体1、放卷辊5、收卷辊6、掩膜装置、放卷驱动装置、收卷驱动装置、磁控溅射靶4和控制系统,所述掩膜装置安装于真空腔体1内,掩膜装置上形成有镂空图形22,放卷辊5和收卷辊6分别能够转动的安装于真空腔体1内,放卷辊5上引出的料带能够绕过掩膜装置一侧表面后缠绕于收卷辊6上,放卷
驱动装置和收卷驱动装置分别驱动放卷辊5和收卷辊6转动进行放料和收料,至少一个磁控溅射靶4固定安装于真空腔体1内,且磁控溅射靶4设于掩膜装置另一侧,磁控溅射靶4能够朝向掩膜装置表面方向溅射镀膜材料,所述磁控溅射靶4溅射的镀膜材料能够穿过掩膜装置的镂空图形22附着于绕经镀膜装置的料带表面形成镀膜层,控制系统控制真空腔体1形成符合设计要求的真空度以及控制放卷驱动装置、收卷驱动装置和磁控溅射靶4启停工作。
[0019]对柔性材料表面镀制图形膜层时,由放卷辊5将柔性材料料带放出,柔性材料的料带绕经掩膜装置表面后,磁控溅射靶4溅射的膜层材料穿过掩膜装置上的镂空图形22溅射在柔性材料表面,在柔性材料表面形成与掩膜装置上镂空图形22对应的图形膜层,镀完图形膜层的料带最终由收卷辊6进行自动收料,其中放卷辊5和收卷辊6分别由气涨轴、伺服电机和磁流体密封座组成,该设备在柔性材料表面直接形成带图形的膜层,无需镀完后在通过激光或蚀刻加工的方式去除多余镀膜形成带图形的膜层,实现了柔性材料高效镀制图形膜层,且避免了柔性材料镀膜后再进行二次加工,降低了生产成本。
[0020]所述掩膜装置为圆环形的掩膜辊2,镂空图形22形成预掩膜辊2圆周面上,放卷辊5引出的料带绕经掩膜辊2圆周外侧表面,磁控溅射靶4设于掩膜辊2环形结构内部。
[0021]通过设置环形的掩膜辊2,内环中用于放置磁控溅射靶4,外环表面用于缠绕柔性材料料带,通过磁控溅射靶4对这个掩膜辊2内环表面进行磁溅射,最终在柔性材料表面形成图形膜层。
[0022]所述掩膜辊2能够转动的设于真空腔体1内本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种有掩膜功能的卷对卷真空镀膜设备,其特征在于:包括真空腔体(1)、放卷辊(5)、收卷辊(6)、掩膜装置、放卷驱动装置、收卷驱动装置、磁控溅射靶(4)和控制系统,所述掩膜装置安装于真空腔体内,掩膜装置上形成有镂空图形(22),放卷辊和收卷辊分别能够转动的安装于真空腔体内,放卷辊上引出的料带能够绕过掩膜装置一侧表面后缠绕于收卷辊上,放卷驱动装置和收卷驱动装置分别驱动放卷辊和收卷辊转动进行放料和收料,至少一个磁控溅射靶固定安装于真空腔体内,且磁控溅射靶设于掩膜装置另一侧,磁控溅射靶能够朝向掩膜装置表面方向溅射镀膜材料,所述磁控溅射靶溅射的镀膜材料能够穿过掩膜装置的镂空图形附着于绕经镀膜装置的料带表面形成镀膜层,控制系统控制真空腔体形成符合设计要求的真空度以及控制放卷驱动装置、收卷驱动装置和磁控溅射靶启停工作。2.根据权利要求1所述的有掩膜功能的卷对卷真空镀膜设备,其特征在于:所述掩膜装置为圆环形的掩膜辊(2),镂空图形形成预掩膜辊圆周面上,放卷辊引出的料带绕经掩膜辊圆周外侧表面,磁控溅射靶设于掩膜辊环形结构内部。3.根据权利要求2所述的有掩膜功能的卷对卷真空镀膜设备,其特征在于:所述掩膜辊能够转动的设于真空腔体内,还设有掩膜驱动辊(3)和掩膜驱动装置,所述掩膜驱动辊能够转动的安装于真空腔体内,掩膜驱动装置驱动掩膜辊转动,所述掩膜驱动辊与掩膜辊圆周外侧表面紧密接触,控制系统控制掩膜驱动装置启停工作。4.根据权利要求3所述的有掩膜功能的卷对卷真空镀膜设备,其特征在于:所述掩膜驱动辊为两个,掩膜驱动装置包括变频伺服电机、磁流体密封座和同步皮带机构,所述变频伺服电机通过磁流体密封座固定安装于真空腔体内,变频伺服电机驱动两个掩膜驱动辊同步同向转动,两个掩膜驱动辊对称托持于掩膜辊下方表面。5.根据权利要求4...

【专利技术属性】
技术研发人员:成林
申请(专利权)人:昆山浦元真空技术工程有限公司
类型:发明
国别省市:

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