一种高压离子轰击的真空镀膜机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种高压离子轰击的真空镀膜机，包括镀膜机主体，镀膜机主体的下端固定连接有四个底脚，且四个底脚呈左右对称分布，镀膜机主体的上内壁与下内壁之间固定连接有两个支柱，两个支柱的对立端均开设有滑槽，两个滑槽内均滑动安装有控温组件，镀膜机主体的下内壁前端固定连接有电机固定台与轴固定架，电机固定台的上端固定连接有上料组件，镀膜机主体的下内壁中部固定连接有镀膜装置，镀膜机主体的后内壁固定连接有定位板，镀膜机主体的前端可拆卸连接有外壳，本实用新型专利技术通过设置上料组件，达到自动化上料、省时省力的目的；本实用新型专利技术通过设置控温组件，达到主动控温、保证镀膜质量的目的。保证镀膜质量的目的。保证镀膜质量的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种高压离子轰击的真空镀膜机


[0001]本技术涉及镀膜机
，特别涉及一种高压离子轰击的真空镀膜机。

技术介绍

[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
[0003]现有的真空镀膜机在使用过程中，随着温度越高，晶粒粗大，降低了膜层的硬度，没有控温装置，无法保证真空镀膜机镀膜的质量，降低了真空镀膜机镀膜的效率，且需要人工手动放料，费时费力，不能完全实现自动化。故此，我们提出一种高压离子轰击的真空镀膜机。

技术实现思路

[0004]本技术的主要目的在于提供一种高压离子轰击的真空镀膜机，可以有效解决
技术介绍
中的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术采取的技术方案为：
[0006]一种高压离子轰击的真空镀膜机，包括镀膜机主体，所述镀膜机主体的下端固定连接有四个底脚，且四个底脚呈左右对称分布，所述镀膜机主体的上内壁与下内壁之间固定连接有两个支柱，两个所述支柱的对立端均开设有滑槽，两个所述滑槽内均滑动安装有控温组件，所述镀膜机主体的下内壁前端固定连接有电机固定台与轴固定架，所述电机固定台的上端固定连接有上料组件，所述镀膜机主体的下内壁中部固定连接有镀膜装置，所述镀膜机主体的后内壁固定连接有定位板，所述镀膜机主体的前端可拆卸连接有外壳。
[0007]优选的，所述控温组件包括第一电机，所述第一电机的输出端贯穿支柱并固定连接有螺纹杆，所述螺纹杆的外表面螺纹连接有螺纹套块，所述螺纹套块靠近镀膜机主体的一端固定连接有温控板，所述温控板靠近镀膜机主体的一端固定连接有温控管。
[0008]优选的，所述螺纹套块的尺寸与滑槽的尺寸相适配，所述温控管呈波浪形结构。
[0009]优选的，所述上料组件包括第二电机与从动轮，所述从动轮设置有两个，所述第二电机的输出端固定连接有主动轮，所述主动轮的右端固定连接有连轴，所述连轴的右端与主动轮固定连接，同侧的主动轮与连轴共同滑动连接有皮带，两个所述皮带的上端均卡接有夹块，两个所述夹块的上端共同固定连接有平台。
[0010]优选的，所述夹块的尺寸与皮带的尺寸相适配，所述连轴与轴固定架转动连接，所述第二电机与电机固定台固定连接。
[0011]优选的，所述平台的尺寸与镀膜装置的尺寸相适配，所述平台的后端与定位板的位置相对应。
[0012]与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：
[0013]一、本技术通过设置上料组件，通过第二电机带动主动轮旋转，主动轮与从动
轮相互配合使皮带向前运动，两根皮带的上端共同固定连接有平台，且在平台的后端设有定位板，防止复位时平台位置偏离，达到自动化上料、省时省力的目的；
[0014]二、本技术通过设置控温组件，通过启动第一电机，使其输出端带动螺纹杆转动，螺纹杆带动其上螺纹连接的螺纹套块在滑槽内滑动，带动温控板上下运动，达到主动控温、保证镀膜质量的目的。
附图说明
[0015]图1为本技术一种高压离子轰击的真空镀膜机的整体结构示意图；
[0016]图2为本技术一种高压离子轰击的真空镀膜机的固定部件的结构示意图；
[0017]图3为本技术一种高压离子轰击的真空镀膜机上料组件的结构示意图；
[0018]图4为本技术一种高压离子轰击的真空镀膜机控温组件的结构示意图。
[0019]图中：1、镀膜机主体；2、底脚；3、支柱；4、控温组件；5、电机固定台；6、上料组件；7、定位板；8、镀膜装置；9、外壳；31、滑槽；41、第一电机；42、螺纹杆；43、螺纹套块；44、温控板；45、温控管；51、轴固定架；61、第二电机；62、主动轮；63、连轴；64、从动轮；65、皮带；66、夹块；67、平台。
具体实施方式
[0020]为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。
[0021]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0022]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0023]如图1
‑
4所示，一种高压离子轰击的真空镀膜机，包括镀膜机主体1，镀膜机主体1的下端固定连接有四个底脚2，且四个底脚2呈左右对称分布，镀膜机主体1的上内壁与下内壁之间固定连接有两个支柱3，两个支柱3的对立端均开设有滑槽31，两个滑槽31内均滑动安装有控温组件4，镀膜机主体1的下内壁前端固定连接有电机固定台5与轴固定架51，电机固定台5的上端固定连接有上料组件6，镀膜机主体1的下内壁中部固定连接有镀膜装置8，镀膜机主体1的后内壁固定连接有定位板7，镀膜机主体1的前端可拆卸连接有外壳9。
[0024]如图3所示，在本实施例中，控温组件4包括第一电机41，第一电机41的输出端贯穿支柱3并固定连接有螺纹杆42，螺纹杆42的外表面螺纹连接有螺纹套块43，螺纹套块43靠近镀膜机主体1的一端固定连接有温控板44，温控板44靠近镀膜机主体1的一端固定连接有温控管45，螺纹套块43的尺寸与滑槽31的尺寸相适配，温控管45呈波浪形结构；在加工过程
中，启动第一电机41，两个第一电机41同时带动对应的螺纹杆42旋转，两个螺纹杆42带动其上螺纹连接的螺纹套块43在滑槽31内滑动，从而对温控板44及温控管45的位置进行调整，使辐射到物料上的温度随着温控板44及温控管45的变化而进行调整，达到及时控温、保证加工质量的目的。
[0025]如图4所示，在本实施例中，上料组件6包括第二电机61与从动轮64，从动轮64设置有两个，第二电机61的输出端固定连接有主动轮62，主动轮62的右端固定连接有连轴63，连轴63的右端与主动轮62固定连接，同侧的主动轮62与连轴63共同滑动连接有皮带65，两个皮带65的上端均卡接有夹块66，两个夹块66的上端共同固定连接有平台67，夹块66的尺寸与皮带65的尺寸相适配，连轴63与轴固定架51转动连接，第二电机61与电机固定台5固定连接，平台67的尺寸与镀膜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高压离子轰击的真空镀膜机，包括镀膜机主体(1)，其特征在于：所述镀膜机主体(1)的下端固定连接有四个底脚(2)，且四个底脚(2)呈左右对称分布，所述镀膜机主体(1)的上内壁与下内壁之间固定连接有两个支柱(3)，两个所述支柱(3)的对立端均开设有滑槽(31)，两个所述滑槽(31)内均滑动安装有控温组件(4)，所述镀膜机主体(1)的下内壁前端固定连接有电机固定台(5)与轴固定架(51)，所述电机固定台(5)的上端固定连接有上料组件(6)，所述镀膜机主体(1)的下内壁中部固定连接有镀膜装置(8)，所述镀膜机主体(1)的后内壁固定连接有定位板(7)，所述镀膜机主体(1)的前端可拆卸连接有外壳(9)。2.根据权利要求1所述的一种高压离子轰击的真空镀膜机，其特征在于：所述控温组件(4)包括第一电机(41)，所述第一电机(41)的输出端贯穿支柱(3)并固定连接有螺纹杆(42)，所述螺纹杆(42)的外表面螺纹连接有螺纹套块(43)，所述螺纹套块(43)靠近镀膜机主体(1)的一端固定连接有温控板(44)，所述温控板(44)靠近镀膜机主体(1)的一端固定连接有温控管(45)。3.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓额，
申请(专利权)人：深圳市仲晶科技有限公司，
类型：新型
国别省市：