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本实用新型公开了一种高压离子轰击的真空镀膜机，包括镀膜机主体，镀膜机主体的下端固定连接有四个底脚，且四个底脚呈左右对称分布，镀膜机主体的上内壁与下内壁之间固定连接有两个支柱，两个支柱的对立端均开设有滑槽，两个滑槽内均滑动安装有控温组件，镀膜...
该专利属于深圳市仲晶科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市仲晶科技有限公司授权不得商用。

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