真空镀膜设备用抽真空机构及真空镀膜设备制造技术

公开一种真空镀膜设备用抽真空机构及真空镀膜设备，真空镀膜设备用抽真空机构包括：冷阱组件，包括具有沿轴向螺旋延伸的冷阱管道的冷阱主体；安装所述冷阱组件的容纳腔室；所述冷阱主体位于所述容纳腔室内；用于连通所述容纳腔室和所述真空镀膜设备的真空腔室的连通通道，所述连通通道沿所述轴向延伸，所述连通通道连通于所述容纳腔室的上游；在一垂直于所述轴向的平面上，所述冷阱主体在该平面上的垂直投影围绕在所述连通通道的垂直投影外侧；连通所述容纳腔室的泵组件。本说明书所提供的真空镀膜设备用抽真空机构及真空镀膜设备，能够节约真空腔室的空间，避免冷阱主体被污染，减小能耗损失，且不占用排气通道。且不占用排气通道。且不占用排气通道。

【技术实现步骤摘要】
真空镀膜设备用抽真空机构及真空镀膜设备


[0001]本说明书涉及真空镀膜
，尤其涉及一种真空镀膜设备用抽真空机构及真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]在高真空获取过程中，通常需要用冷阱来捕捉腔体中的水蒸气或油蒸气。冷阱是一种阻止蒸气或液体从系统进入测量仪器，或从测量仪器进入系统的一种装置，它能提供一个非常低温的表面，在此表面上，分子能够凝聚，并能提高一至二个数量级的真空度。冷阱通常放置于真空腔室和真空泵之间。
[0003]现有技术条件下，冷阱的典型安装方式有两种：
①
、安装于真空腔室内部；
②
、安装于真空腔室至真空泵之间的排气通道上。然而这两种安装方式分别具有以下明显缺陷：
[0004]第
①
种安装方式的缺陷为：1、占用了真空腔室空间，使真空腔室的容积减小；2、冷阱容易被污染，形成新的污染源；3、真空腔室内通常需要加热，而冷阱是制冷，因而造成加热和制冷双重能耗损失。
[0005]第
②
种安装方式的缺陷为：1、占用排气通道，影响排气效率；2、冷阱容易被污染，形成新的污染源。

技术实现思路

[0006]鉴于现有技术的不足，本说明书的一个目的是提供一种真空镀膜设备用抽真空机构及真空镀膜设备，能够节约真空腔室的空间，避免冷阱主体被污染，减小能耗损失，且不占用排气通道。
[0007]为达到上述目的，本说明书实施方式提供一种真空镀膜设备用抽真空机构，包括：
[0008]冷阱组件，包括具有沿轴向螺旋延伸的冷阱管道的冷阱主体；
[0009]安装所述冷阱组件的容纳腔室；所述冷阱主体位于所述容纳腔室内；
[0010]用于连通所述容纳腔室和所述真空镀膜设备的真空腔室的连通通道，所述连通通道沿所述轴向延伸，所述连通通道连通于所述容纳腔室的上游；在一垂直于所述轴向的平面上，所述冷阱主体在该平面上的垂直投影围绕在所述连通通道的垂直投影外侧；
[0011]连通所述容纳腔室的泵组件。
[0012]本说明书实施方式还提供一种真空镀膜设备用抽真空机构，包括：
[0013]冷阱组件，包括具有沿轴向螺旋延伸的冷阱管道的冷阱主体；
[0014]安装所述冷阱组件的容纳腔室，所述冷阱主体位于所述容纳腔室内；
[0015]用于连通所述容纳腔室和所述真空镀膜设备的真空腔室的连通通道，所述连通通道连通于所述容纳腔室的上游，具有通入所述容纳腔室的端口；所述冷阱主体在所述端口所在平面上的垂直投影围绕在所述端口的外侧；
[0016]连通所述容纳腔室的泵组件。
[0017]作为一种优选的实施方式，所述冷阱组件还包括固定安装于所述容纳腔室内承载
所述冷阱主体的第一安装框架；所述第一安装框架在所述平面上的垂直投影围绕在所述连通通道的垂直投影或所述端口外侧。
[0018]作为一种优选的实施方式，所述冷阱主体在所述平面的垂直投影位于所述第一安装框架的垂直投影与所述连通通道的垂直投影之间或所述第一安装框架的垂直投影与所述端口之间。
[0019]作为一种优选的实施方式，所述端口的面积与所述第一安装框架的内壁面在所述端口所在平面上的垂直投影的面积之比为0.5～0.8。
[0020]作为一种优选的实施方式，所述端口的形状为矩形、圆形、或椭圆形中的一种；所述第一安装框架的内壁面在所述端口所在平面上的垂直投影为矩形、圆形、或椭圆形中的一种。
[0021]作为一种优选的实施方式，所述端口为第一矩形，所述第一安装框架的内壁面在所述端口所在平面上的垂直投影为第二矩形；所述第一矩形的面积与所述第二矩形的面积之比为0.5～0.8；进一步地，所述第一矩形的面积与所述第二矩形的面积之比为0.7；
[0022]和/或，
[0023]所述第一矩形的长边长度与所述第二矩形的长边长度之比为0.6～0.9；进一步地，所述第一矩形的长边长度与所述第二矩形的长边长度之比为0.7或0.8。
[0024]作为一种优选的实施方式，所述抽真空机构在所述容纳腔室相对于所述连通通道的另一侧设有第二安装框架，所述泵组件包括连通所述容纳腔室的第一泵体以及安装于所述第二安装框架上的第二泵体；所述第二泵体为调节精度高于第一泵体的分子泵。
[0025]作为一种优选的实施方式，所述端口、所述第一安装框架和所述第二安装框架在所述连通通道的延伸方向上顺次排列。
[0026]作为一种优选的实施方式，所述容纳腔室具有围绕在所述端口周侧的垂直于所述连通通道延伸方向的挡壁，所述冷阱主体被遮挡定位于所述挡壁背离所述连通通道的一侧。
[0027]作为一种优选的实施方式，所述连通通道位于所述真空腔室的侧壁，所述连通通道的延伸方向垂直于所述侧壁。
[0028]本实施方式还提供一种真空镀膜设备，包括用于镀膜的真空腔室、以及用于对所述真空腔室抽真空的抽真空机构，所述抽真空机构为如上任一种实施方式所述的抽真空机构。
[0029]有益效果：
[0030]本实施方式所提供的真空镀膜设备用抽真空机构，设置用于容纳冷阱主体的容纳腔室，而容纳腔室的上游通过连通通道和真空腔室连通，容纳腔室还连通有泵组件，泵组件能对真空腔室抽真空。冷阱主体不设置于真空腔室内，能够节约真空腔室的空间，避免冷阱主体被污染，减小能耗损失。
[0031]在一种实施例中，连通通道沿轴向延伸，在一垂直于轴向的平面上，冷阱主体在该平面上的垂直投影围绕在连通通道的垂直投影外侧，从而泵组件对真空腔室抽真空时，排气通道由连通通道和容纳腔室内径向尺寸与连通通道大小相等的空间组成，冷阱主体不会占用排气通道，从而避免冷阱主体被污染，且不阻碍排气通道能提高排气效率。
[0032]在另一种实施例中，连通通道具有通入容纳腔室的端口，冷阱主体在端口所在平
面上的垂直投影围绕在端口的外侧，从而泵组件对真空腔室抽真空时，排气通道由连通通道和容纳腔室内径向尺寸与端口大小相等的空间组成，冷阱主体不会占用排气通道，从而避免冷阱主体被污染，且不阻碍排气通道能提高排气效率。
[0033]参照后文的说明和附图，详细公开了本专利技术的特定实施方式，指明了本专利技术的原理可以被采用的方式。应该理解，本专利技术的实施方式在范围上并不因而受到限制。
[0034]针对一种实施方式描述和/或示出的特征可以以相同或类似的方式在一个或更多个其它实施方式中使用，与其它实施方式中的特征相组合，或替代其它实施方式中的特征。
[0035]应该强调，术语“包括/包含”在本文使用时指特征、整件、步骤或组件的存在，但并不排除一个或更多个其它特征、整件、步骤或组件的存在或附加。
附图说明
[0036]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备用抽真空机构，包括：冷阱组件，包括具有沿轴向螺旋延伸的冷阱管道的冷阱主体；安装所述冷阱组件的容纳腔室；所述冷阱主体位于所述容纳腔室内；用于连通所述容纳腔室和所述真空镀膜设备的真空腔室的连通通道，所述连通通道沿所述轴向延伸，所述连通通道连通于所述容纳腔室的上游；在一垂直于所述轴向的平面上，所述冷阱主体在该平面上的垂直投影围绕在所述连通通道的垂直投影外侧；连通所述容纳腔室的泵组件。2.一种真空镀膜设备用抽真空机构，包括：冷阱组件，包括具有沿轴向螺旋延伸的冷阱管道的冷阱主体；安装所述冷阱组件的容纳腔室，所述冷阱主体位于所述容纳腔室内；用于连通所述容纳腔室和所述真空镀膜设备的真空腔室的连通通道，所述连通通道连通于所述容纳腔室的上游，具有通入所述容纳腔室的端口；所述冷阱主体在所述端口所在平面上的垂直投影围绕在所述端口的外侧；连通所述容纳腔室的泵组件。3.根据权利要求1或2所述的抽真空机构，所述冷阱组件还包括固定安装于所述容纳腔室内承载所述冷阱主体的第一安装框架；所述第一安装框架在所述平面上的垂直投影围绕在所述连通通道的垂直投影或所述端口外侧。4.根据权利要求3所述的抽真空机构，所述冷阱主体在所述平面的垂直投影位于所述第一安装框架的垂直投影与所述连通通道的垂直投影之间或所述第一安装框架的垂直投影与所述端口之间。5.根据权利要求3所述的抽真空机构，所述端口的面积与所述第一安装框架的内壁面在所述端口所在平面上的垂直投影的面积之比为0.5～0.8。6.根据权利要求3所述的抽真空机构，所述端口的形状...

【专利技术属性】
技术研发人员：王怀民，姜友松，葛鹤龄，
申请(专利权)人：安徽其芒光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：