工业窑炉承烧匣钵制造技术

本实用新型专利技术公开了一种工业窑炉承烧匣钵，它包括一体制成的钵体和三个支脚；其中，所述钵体的上端开口，下端和四周封闭，下端为下端壁，四周为周壁，下端壁和周壁的厚度为4～5mm，所述钵体形成有容置腔；三个支脚位于所述下端壁的底面上，三个支脚的中心连接形成等腰三角形结构。本实用新型专利技术大大减轻了匣钵的重量，从而达到节约天然气的目的。

【技术实现步骤摘要】
工业窑炉承烧匣钵
本技术涉及一种工业窑炉承烧匣钵。
技术介绍
目前，现在一般工业窑炉承烧匣钵，钵体是以莫来石和氧化物结合碳化硅制作而成，厚度大约在15～25mm之间，重量较重，不节约天然气，且匣钵在与化工原料等承烧物使用过程中，产生腐蚀和氧化使匣钵寿命大大缩短，从而提高了购买匣钵成本；传统匣钵膨胀系数大，容易脱落，长期使用会影响化工原料和其他承烧物的纯度。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种工业窑炉承烧匣钵，它大大减轻了匣钵的重量，从而达到节约天然气的目的。本技术解决上述技术问题采取的技术方案是：一种工业窑炉承烧匣钵，它包括一体制成的钵体和三个支脚；其中，所述钵体的上端开口，下端和四周封闭，下端为下端壁，四周为周壁，下端壁和周壁的厚度为4～5mm，所述钵体形成有容置腔；三个支脚位于所述下端壁的底面上，三个支脚的中心连接形成等腰三角形结构。进一步，所述容置腔的横截面为矩形结构。进一步，其中1个支脚位于下端壁的其中一个边的中心处，另外两个支脚分别位于下端壁相对的另外一个边的两端。进一步，所述钵体由反应烧结碳化硅制成。采用了上述技术方案后，本技术的工业窑炉承烧匣钵，由反应烧结碳化硅烧制而成，且壁厚只有4～5mm，大大减轻了匣钵的重量，从而达到节约天然气的目的。使用寿命是传统匣钵10倍以上，在使用过程中不会被化学原料等承烧物腐蚀和氧化，长期使用不会膨胀，钵体不会脱落，从而提高承烧物的质量和纯度。附图说明图1为本技术的工业窑炉承烧匣钵的结构示意图；图2为图1的仰视图。具体实施方式为了使本技术的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本技术作进一步详细的说明。如图1、2所示，一种工业窑炉承烧匣钵，它包括一体制成的钵体1和三个支脚2；其中，所述钵体1的上端开口，下端和四周封闭，下端为下端壁，四周为周壁，下端壁和周壁的厚度为4～5mm，所述钵体1形成有容置腔；三个支脚2位于所述下端壁的底面上，三个支脚2的中心连接形成等腰三角形结构。所述容置腔的横截面为矩形结构。如图2所示，其中1个支脚2位于下端壁的其中一个边的中心处，另外两个支脚2分别位于下端壁相对的另外一个边的两端。支脚2的特定位置的设计加强了钵体1使用稳定性和安全性。所述钵体1由反应烧结碳化硅制成。在本实施例中，工业窑炉承烧匣钵，由反应烧结碳化硅烧制而成，且壁厚只有4～5mm，大大减轻了匣钵的重量，从而达到节约天然气的目的。使用寿命是传统匣钵10倍以上，在使用过程中不会被化学原料等承烧物腐蚀和氧化，长期使用不会膨胀，钵体不会脱落，从而提高承烧物的质量和纯度。以上所述的具体实施例，对本技术解决的技术问题、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本技术的具体实施例而已，并不用于限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。在本技术的描述中，需要理解的是，指示方位或位置关系的术语为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，术语“水平”、“竖直”、“悬垂”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之上或之下可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征之上、上方和上面包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征之下、下方和下面包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种工业窑炉承烧匣钵，其特征在于，它包括一体制成的钵体(1)和三个支脚(2)；其中，/n所述钵体(1)的上端开口，下端和四周封闭，下端为下端壁，四周为周壁，下端壁和周壁的厚度为4～5mm，所述钵体(1)形成有容置腔；/n三个支脚(2)位于所述下端壁的底面上，三个支脚(2)的中心连接形成等腰三角形结构。/n

【技术特征摘要】
1.一种工业窑炉承烧匣钵，其特征在于，它包括一体制成的钵体(1)和三个支脚(2)；其中，
所述钵体(1)的上端开口，下端和四周封闭，下端为下端壁，四周为周壁，下端壁和周壁的厚度为4～5mm，所述钵体(1)形成有容置腔；
三个支脚(2)位于所述下端壁的底面上，三个支脚(2)的中心连接形成等腰三角形结构。


2.根据权利要求1所述的工业窑炉...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟启龙，钟航宇，
申请(专利权)人：湖南仁龙特种陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：湖南;43