一种适用于管状旋转陶瓷靶材的承烧板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种适用于管状旋转陶瓷靶材的承烧板。所述承烧板的上部设有内凹的圆锥斜面，所述圆锥斜面与水平面的倾斜角为15°‑60°，所述圆锥斜面的表面粗糙度为3.2‑16μm。本实用新型专利技术的承烧板能够促进靶材的充分烧结，可极大的降低靶材生坯在烧结时因收缩导致与承烧板的摩擦力，有利于靶材致密化及防止靶材产生变形、开裂等缺陷，极大的提高了靶材的良率及取材率。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于管状旋转陶瓷靶材的承烧板
本技术涉及陶瓷靶材烧结
，具体涉及一种适用于管状旋转陶瓷靶材的承烧板。
技术介绍
陶瓷靶材是一类非常重要的真空镀膜材料，例如ZnO、AZO、GZO、IZO、IGZO、ITO、TiO2、Nb2O5等。陶瓷靶材是一种或多种氧化物粉末经过混合、造粒、成型、烧结而成的陶瓷材料。经过多年的发展，目前，陶瓷靶材的生产虽然大量借鉴了传统陶瓷的制备工艺，但是仍然存在烧结致密度不够、开裂、孔洞等问题，其烧结工艺还有很大的提升空间。传统的工艺在进行管状旋转陶瓷靶材烧结时，生坯的摆放主要是将生坯竖放在氧化铝等承烧板上，然后一起放进烧结炉中进行烧结，由于靶材的长度较短、质量轻、烧结收缩时的摩擦阻力小，因此满足了以往短节距靶材的生产要求。但是，随着管状旋转靶材的长度逐渐要求加长，以减少拼接缝隙数量，这就使得靶材的重量显著增加，收缩时的摩擦阻力较大，导致与承烧板接触的靶材端变形、开裂，影响了良率和取材率。CN201580073047.3公开一种圆筒形靶材的制造方法，将陶瓷成形体的外周面沿着长度方向被托架的接受面支撑本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种适用于管状旋转陶瓷靶材的承烧板，其特征在于，所述承烧板的上部设有内凹的圆锥斜面，所述圆锥斜面与水平面的倾斜角为15°-60°，所述圆锥斜面的表面粗糙度为3.2-16μm。/n

【技术特征摘要】
1.一种适用于管状旋转陶瓷靶材的承烧板，其特征在于，所述承烧板的上部设有内凹的圆锥斜面，所述圆锥斜面与水平面的倾斜角为15°-60°，所述圆锥斜面的表面粗糙度为3.2-16μm。


2.根据权利要求1所述的适用于管状旋转陶瓷靶材的承烧板，其特征在于，所述圆锥斜面与水平面的倾斜角为30°-45°。


3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：雷雨，肖世洪，赵明增，周志宏，许积文，杨永添，周昭宇，周昭寅，
申请(专利权)人：广州市尤特新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44