【技术实现步骤摘要】
一种自动化的原料暂存装置
本技术涉及半导体材料或光伏材料加工
，尤其涉及一种自动化的原料暂存装置。
技术介绍
半导体或光伏材料广泛应用于电子、新能源等行业，半导体和光伏材料通常都需要经过加工处理才能够应用到产品上，CVD技术、扩散工艺或氧化工艺是其中的一种处理方式，其中CVD即化学气相沉积，CVD技术目前已经广泛用于半导体或光伏材料加工，常见的加工设备有PECVD、LPCVD、APCVD等，除了CVD之外还有扩散工艺包括磷扩散、硼扩散等，半导体和光伏中的部分加工工艺需要在高温条件下进行，比如材料的镀膜、扩散、氧化、LPCVD等管式炉上下料，例如超薄硅片，它需要在低压高温氛围下实现化学反应和沉积成膜，现实加工过程中硅片一般通过“送料”花篮进行运输，而花篮中的硅片都是统一朝向摆放的，为了提高硅片在高温炉中的加工质量，一般在进炉前需将硅片进行两两正反叠放，并将正反叠放的硅片放入新的“进炉”花篮中，由于“进炉”花篮与“送料”花篮的规格并不相同，因此需要在进炉前设置一个硅片暂存区域，以实现硅片的正反叠放和硅片的换“篮”。
【技术保护点】
1.一种自动化的原料暂存装置，其特征在于，包括安装框体，安装框体内设有上下料传送结构、缓存装置，上下料传送结构能够进行原料的上下料，缓存装置用于储存原料。/n
【技术特征摘要】
1.一种自动化的原料暂存装置，其特征在于，包括安装框体，安装框体内设有上下料传送结构、缓存装置，上下料传送结构能够进行原料的上下料，缓存装置用于储存原料。
2.根据权利要求1所述的一种自动化的原料暂存装置，其特征在于，安装框体底部设有支撑脚座和万向轮，支撑脚座和万向轮能够进行切换。
3.根据权利要求1所述的一种自动化的原料暂存装置，其特征在于，上下料传送结构包括上料通道、下料通道和升降机构，上料通道内摆放有花篮，上料通道、下料通道通过升降机构的来实现上下料。
4.根据权利要求1所述的一种自动化的原料暂存装置，其特征在于，还包括龙门式抓片装置，龙门式抓片装置能够进行原料的集体搬运，龙门式抓片装置包括抓片装置，抓片装置能够原料的抓取。
5.根据权利要求1所述的一种自动化的原料暂存装置，其特征在于，缓存装置包括至少两排用于放置原料的缓存区域。
6.根据权利要求3所述的一种自动化的原料暂存装置，其特征在于，上料通道包括内含至少一对传送带的第一传送带装置，下料通道包括内含至少一对传送带的第二传送带装置，第一传送带装置与第二传送带装置跨层布置。
7.根据权利要求4所述的一种自动化的原料暂存装置，其特征在于，抓片装置包括壳体和吸盘主体，壳体内安装有一片以上吸盘主体，每一片吸盘主体都能抓取一片原料，使抓片装置能够一次抓取一片以上原料。
8.根据权利要求5所述的一种自动化的原料暂存装置，其特征在于，每两排缓存区域之间的距离大小能够调节。
9.根据权利要求7所述的一种自动化的原料暂存装置，其特征在于，壳体内设有气腔，气腔内设有安装单元，安装单元包括卡块和/或固定轴，壳体上设有负压装置，负压装置能够减小气腔内的气压，负压装置包括与气腔连通的抽气连接口、进气连接口以及气泵，气泵通过抽气连接口往气腔内抽气，气泵通过进气连接口往气腔进气，能够实现气腔内的气体流动，从而形成气腔内负压，气泵上设有电磁开关，吸盘主体包括安装部位和吸附部位，安装部位与安装单元对应，安装部位上设有配对的卡槽和/或安装孔，安装部位利用卡槽和/或安装孔能够连接气腔内的安装单元，吸附部位能够用于吸附原料，吸附部位上设有至少两个环状同心分布且槽深相同的气槽，每个环形气槽的底部皆设有一个气孔，所有气孔呈直线排布在该吸盘的对称面上，且皆位于环形气槽靠近...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘群，庞爱锁，林佳继，朱太荣，林依婷，
申请(专利权)人：深圳市拉普拉斯能源技术有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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