用于支撑环规的装置制造方法及图纸

技术编号:2512644 阅读:205 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种用于支撑环规的装置,该装置在设有圆形凹坑的底座(1)上垂直设有一个立轴(4),立轴(4)的轴心在凹坑直径的延伸线上,立轴(4)上配合有至少一个可绕轴旋转的用于支撑环规的支架,最上端的支架用螺钉(5)轴向定位在立轴(4)上,所述的支架上均设有用于支撑环规的开口。本实用新型专利技术用于支撑对检测深孔的多个截面的气动塞规调校气动量仪的环规,能保证调校精度,提高可靠性和生产效率。(*该技术在2015年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
用于支撑环规的装置
本技术涉及一种机加工检测装置,特别涉及一种对检测深孔的多个截面的气动塞规采用环规调校气动量仪时的用于支撑环规的装置。
技术介绍
在机加工领域中对加工件深孔的加工进行检测,若使用气动塞规同时检测深孔的多个截面来检测深孔的圆柱度,检测前和检测一定时间后,须对布置在气动塞规不同截面的气嘴通过环规来校正气动量仪,目前,一般是由操作者一手拿气动塞规,一手拿环规进行调校气动量仪,这种方式调校气动量仪,由于稳定性较差,不易达到调校精度的要求,影响检测质量,进而影响产品的质量;而且用手拿环规进行调校气动量仪,调校的时间较长,操作者劳动强度较大。
技术实现思路
本技术的目的是针对原有的用手拿环规校正气动量仪时,调校精度低、调校时间长的不足,提供一种用于支撑环规的装置,它能通过不同层的支架支撑住环规进行调校气动量仪,保证调校精度,提高可靠性和生产效率。本技术的目的是这样实现的:设有圆形凹坑的底座上垂直设有一个立轴,立轴的轴心在凹坑直径的延伸线上,立轴上配合有至少一个可绕轴旋转的用于支撑环规的支架,最上端的支架用螺钉轴向定位在立轴上,所述的支架上均设有用于支撑环规的开口。所述立轴为阶梯轴,其底端与底座上基孔配合且轴向定位,其余各阶梯段上分别配合有可绕轴旋转的用于支撑环规的支架。所述立轴底端轴段上设有环槽,螺钉穿过底座插入槽中将立轴轴向定位在底座上。所述轴段上的环槽为“V”型槽。所述螺钉为圆锥头。所述支架上用于支撑环规的开口的底端为半圆,该半圆的直径与环规的直-->径对应,开口的口端大于或等于底端半圆的直径。所述支架的上端面高度分别与气动塞规不同截面气嘴的位置对应。由于采用了上述方案,底座上垂直设有一个立轴,立轴底端与底座上基孔配合,并通过圆锥头螺钉穿过底座插入立轴底端轴段上设置的“V”型环槽槽中,将立轴轴向定位在底座上,保证定位的准确和稳定。立轴上配合有至少一个可绕轴旋转的用于支撑环规的支架,最上端的支架用螺钉轴向定位在立轴上,可防止支架的轴向窜动,保证支架定位的稳定。所述的支架上均设有用于支撑环规的开口,该开口的底端为半圆,半圆的直径与环规的直径对应,开口的口端大于或等于底端半圆的直径,使环规能方便、稳定地放置在支架上,对气动塞规进行调校气动量仪。本技术结构简单,能保证气动量仪的调校精度,提高了可靠性和生产效率。下面结合附图和实施例对本技术作进一步说明。附图说明图1是本技术的一种实施例的结构简图;图2是本技术的俯视图。具体实施方式参见图1、图2,一个设有圆形凹坑的底座1上垂直设有一个立轴4,立轴4位于圆形凹坑旁,其轴心在凹坑直径的延伸线上。所述立轴4为阶梯轴,其底端与底座1上基孔过渡配合,立轴4底端轴段上设有环槽,一个螺钉6与底座1螺纹配合且插入槽中将立轴4轴向定位在底座1上。所述轴段上的环槽为“V”型槽,采用圆锥头的螺钉6与之配合定位最为准确和稳定,采用弧形槽和圆头的螺钉也能达到同样效果。立轴4其余的阶梯段上分别间隙配合有两个可绕轴旋转的用于支撑环规的支架2、3,最上端的支架3用螺钉5轴向定位在立轴4上,两支架2、3可独立地绕立轴4旋转。所述支架2、3上均设有用于支撑环规的开口,开口的底端为半圆,该半圆的直径与环规的直径对应,开口的口端大于或等于底端半圆的直径,既便于放置环规,又能保证环规放置的稳定。所述支架2、3的上端面高度分别与气动塞规不同截面气嘴的位置对应。-->本装置的用于支撑环规的支架的数量,由气动塞规不同截面的数量确定。使用本装置针对布置在气动塞规不同截面的气嘴采用环规调校气动量仪时,将环规放置在与气动塞规的一个截面的气嘴对应的支架2的开口上,用环规单独校正该截面的气动量仪,其余的支架3因不放置环规,暂时旋转开,为放置环规和调校操作留出足够空间;需对支架3所对应的气动塞规的截面的气嘴进行调校时,将支架2旋转开,把环规放置在支架3上,对气动塞规的截面的气嘴进行单独调校。由于本装置放置在工作台上,具有稳定性,操作简单,能保证气动量仪的调校精度,提高了可靠性和生产效率。本文档来自技高网...
用于支撑环规的装置

【技术保护点】
一种用于支撑环规的装置,其特征在于:设有圆形凹坑的底座(1)上垂直设有一个立轴(4),立轴(4)的轴心在凹坑直径的延伸线上,立轴(4)上配合有至少一个可绕轴旋转的用于支撑环规的支架,最上端的支架用螺钉(5)轴向定位在立轴(4)上,所述的支架上均设有用于支撑环规的开口。

【技术特征摘要】
1.一种用于支撑环规的装置,其特征在于:设有圆形凹坑的底座(1)上垂直设有一个立轴(4),立轴(4)的轴心在凹坑直径的延伸线上,立轴(4)上配合有至少一个可绕轴旋转的用于支撑环规的支架,最上端的支架用螺钉(5)轴向定位在立轴(4)上,所述的支架上均设有用于支撑环规的开口。2.根据权利要求1所述的用于支撑环规的装置,其特征在于:所述立轴(4)为阶梯轴,其底端与底座(1)上基孔配合且轴向定位,其余各阶梯段上分别配合有可绕轴旋转的用于支撑环规的支架。3.根据权利要求2所述的用于支撑环规的装置,其特征在于:所述立轴(4)底端轴...

【专利技术属性】
技术研发人员:周帮才陈庆田
申请(专利权)人:长安汽车集团有限责任公司
类型:实用新型
国别省市:85[中国|重庆]

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