使用扫描干涉测量形成复杂表面结构的轮廓以及对其表征制造技术

技术编号:2509228 阅读:203 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种方法,其包括:将可从用于测试对象的第一表面位置的扫描干涉测量信号导出的信息和与测试对象的多个模型相对应的信息相比较,其中,通过一系列用于测试对象的特性而将所述多个模型参数化。与多个模型相对应的信息可包括:与每个测试对象的模型相对应的、有关扫描干涉测量信号的变换(例如,傅立叶变换)的至少一个幅值分量的信息。在第二方面中,所述模型对应于固定表面高度,并且,通过不同于固定表面高度的一系列特性将它们参数化。在第三方面中,所述比较包括:考虑对干涉测量信号的系统贡献。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及使用扫描干涉测量来测量具有诸如薄膜(多个)、不相似材料的离散结构、或由干涉显微镜的光学分辨率而在分辨以下(underresolve)的离散结构的复杂表面结构的对象的表面构形(topography)和/或其它特性。这样的测量与平板显示组件的表征(characterization)、半导体晶片测量、以及就地(insitu)薄膜和不相似材料分析相关。
技术介绍
通常,使用干涉测量技术来测量对象的表面的轮廓(profile)。为此,干涉测量仪将从感兴趣表面反射的测量波前(wavefront)与从参考表面反射的参考波前组合,以产生干涉图(interferogram)。干涉图中的条纹(fringe)指示感兴趣表面和参考表面之间的空间变化。扫描干涉计(interferometer)在类似或大于干涉波前的相干长度的范围上扫描该干涉计的参考和测量腿(leg)之间的光路径(optical path)长度差(OPD),以对于用来测量干涉图的每个相机(camera)像素而产生扫描干涉测量信号。例如,通过使用白光源(其被称为扫描白光干涉测量(SWLI)),可产生有限的相干长度。典型的扫描白光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种方法,其包括:    将可从用于测试对象的第一表面位置的扫描干涉测量信号导出的信息和与测试对象的多个模型相对应的信息相比较,其中,通过一系列用于测试对象的特性而将所述多个模型参数化,    其中,与多个模型相对应的信息包括:与每个测试对象的模型相对应的、有关扫描干涉测量信号的变换的至少一个幅值分量的信息。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:彼得J德格鲁特罗伯特斯托纳泽维尔C德利加
申请(专利权)人:齐戈股份有限公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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