【技术实现步骤摘要】
一种板式PECVD机台的双面镀膜结构
本技术涉及
,具体为一种板式PECVD机台的双面镀膜结构。
技术介绍
PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄,在PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子,就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应,衬底温度通常保持在350℃左右就可以得到良好的SiOx或SiNx薄膜,可以作为集成电路最后的钝化保护层,提高集成电路的可靠性,现有的板式PECVD机台的双面镀膜结构在使用时,无法做到对外框的空间进行调节工作,从而无法做到对等离子的数量进行控制工作,无法做到对不同镀膜效果进行调节工作。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种板式PECVD机台的双面镀膜结构,以解决上述
技术介绍
中提出现有的板式PECVD机台的双面镀膜结构在使用时,无法做到对外框的空间进行调节工作,从而无法做到对等离子的数量进行控制工作,无法做到对不同镀膜效果进行调节工 ...
【技术保护点】
1.一种板式PECVD机台的双面镀膜结构,包括外框(1),其特征在于:所述外框(1)的内部上下两端均安装有石英管(2),所述外框(1)的内部安装有镀膜机构(3),所述外框(1)外壁上下两端均安装有下夹板(4),所述下夹板(4)的外侧转动连接有上夹板(5),所述下夹板(4)和上夹板(5)的内部插接有磁铁(6),所述外框(1)的左侧安装有调节构件(7),所述调节构件(7)的左侧安装有转盘(8),所述外框(1)的内部设置有等离子(9);/n所述调节构件(7)包括支架(701)、定块(702)、螺杆(703)、螺纹管(704)和撑杆(705),所述支架(701)之间固接有定块(70 ...
【技术特征摘要】
1.一种板式PECVD机台的双面镀膜结构,包括外框(1),其特征在于:所述外框(1)的内部上下两端均安装有石英管(2),所述外框(1)的内部安装有镀膜机构(3),所述外框(1)外壁上下两端均安装有下夹板(4),所述下夹板(4)的外侧转动连接有上夹板(5),所述下夹板(4)和上夹板(5)的内部插接有磁铁(6),所述外框(1)的左侧安装有调节构件(7),所述调节构件(7)的左侧安装有转盘(8),所述外框(1)的内部设置有等离子(9);
所述调节构件(7)包括支架(701)、定块(702)、螺杆(703)、螺纹管(704)和撑杆(705),所述支架(701)之间固接有定块(702),所述定块(702)的内部转动连接有螺杆(703),所述螺杆(703)的外壁螺纹连接有螺纹管(704),所述螺纹管(704)的外壁上下两端均转动连接有撑杆(705),所述螺杆(703)与转盘(8)固定相连。
2.根据权利要求1所述的一种板式PECVD机台的双面镀膜结构,其特征在于:所述撑杆(705)为对称设置。
3.根据权利要求1所述的一种板式PECVD机台的双面镀膜结构,其特征在于:所述外框(1)包括第...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈金元,
申请(专利权)人:理想万里晖真空装备泰兴有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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