具有基于Si,C和O的粘接层的复合材料制造技术

技术编号:24963723 阅读:44 留言:0更新日期:2020-07-21 15:04
本发明专利技术涉及一种复合材料,所述复合材料具有通过粘接层彼此结合的基底和聚合物层,该粘接层可通过等离子体辅助化学气相沉积(PE‑CVD)获得,其中至少部分使用前体化合物的混合物,该混合物含有不饱和烃和有机硅化合物。本发明专利技术还涉及制造这种复合材料的方法,密封制品和用途。

Composites with Si, C and O based adhesive layers

【技术实现步骤摘要】
具有基于Si,C和O的粘接层的复合材料本专利技术涉及一种复合材料,其具有通过粘接层相互连接的基底和聚合物层。本专利技术还涉及制造该复合材料的方法、密封制品和用途。现有技术复合材料是相互结合的不同材料构成的物料,所述不同材料的物料特性被组合在一起。它们通常由不同的、相互结合的材料层构成。复合材料尤其适用于在表面为基底提供其他特性。已知由金属和聚合物制成的复合材料,其由于金属成分而具有高硬度并且在聚合物表面上具有高弹性。在其他复合材料中,具有不同特性的各种合成材料被有利地结合在一起。复合材料存在一个基本问题,即不同的材料必须持久且稳定地彼此粘合,为此通常使用粘合剂。当各组分具有非常不同的物理和化学性质时,这就很成问题。连接金属和弹性体时可能会出现这种情况,但连接不同的合成材料时也可能出现这种情况。由这种不同组分制成的复合材料的稳定性常常需要改进,因为粘合剂通常与这些组分之一形成较不稳定的结合。通常而言,在现有技术中,这类复合材料的各层通过材料锁合的方式结合在一起,比如通过胶合或焊接。层的表面也可以被活化以更好地结合,例如通过与底漆化学反应。粘接层可用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种复合材料,其具有通过粘接层彼此结合的基底和聚合物层,所述粘接层可通过等离子体辅助化学气相沉积(PE-CVD)获得,其中至少部分地使用前体化合物的混合物,所述混合物包含不饱和烃和有机硅化合物。/n

【技术特征摘要】
20190111 EP 19151316.7;20191217 EP 19217042.11.一种复合材料,其具有通过粘接层彼此结合的基底和聚合物层,所述粘接层可通过等离子体辅助化学气相沉积(PE-CVD)获得,其中至少部分地使用前体化合物的混合物,所述混合物包含不饱和烃和有机硅化合物。


2.根据权利要求1所述的复合材料,其特征在于,所述基底是金属基底或聚合物基底。


3.根据前述权利要求中至少一项所述的复合材料,其特征在于,所述有机硅化合物是硅氧烷、硅烷或硅酸盐。


4.根据权利要求3所述的复合材料,其特征在于,所述硅氧烷是六甲基二硅氧烷(HMDSO)和/或四甲基硅烷(TMS)。


5.根据前述权利要求中至少一项所述的复合材料,其特征在于,其中所述不饱和烃是乙烯或乙炔。


6.根据前述权利要求中至少一项所述的复合材料,其特征在于,所述粘接层被构造为梯度层,在所述梯度层中,碳的比例朝聚合物层增加,而硅的比例朝聚合物层降低。


7.根据前述权利要求中至少一项所述的复合材料,其特征在于,所述聚合物层可通过将聚合物化合物施加到所述粘接层上并使其交联到所述聚合物层而获得,其中所述粘接层还共价键合到所述聚合物层。


8.根据前述权利要求中至少一项所述的复合材料,其特征在于,所述粘接层的表面和/或所述粘接层整体上包含:
Si:3at%至25at%,特别是4at%至20at%,
C:50at%至90at%,特别是60at%至85at%,
O:5at%至25at%,尤其是10at%至20at%,
其中,Si+C+O的总和优选>90%,
余量优选为H,N和可能的来自基底的其他元素。


9.根据前述权利要求中至少一项所述的复合材料,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:F·冯·弗拉格斯特因A·马克斯坦纳R·克里斯托弗S·鲁兹K·哈尔斯特因K·菲勒Y·费奇M·艾德勒
申请(专利权)人:科德宝两合公司
类型:发明
国别省市:德国;DE

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