一种集成式PECVD制造技术

本实用新型专利技术创造提供了一种集成式PECVD，包括工作台和工作台上设置的气相沉积机构，该气相沉积机构包括工作台上滑动设置的炉体、以及炉体上设置的石英管，所述工作台上设有用于驱动炉体移动的驱动器；所述工作台上对应石英管两端的位置设有用于支撑石英管的支撑机构。本实用新型专利技术创造结构简单，易于使用，稳定性好，可靠性高；通过在连接架上设置导向组件，操作人员在调节支撑架时无需精细操作，大大降低了支撑架的调节难度，提高了支撑机构调节的便捷性，同时导向组件大大提高了支撑架移动的稳定性，有利于防止支撑架发生倾斜，避免支撑架磕碰损坏石英管。

An integrated PECVD

【技术实现步骤摘要】
一种集成式PECVD
本专利技术创造属于气相沉积设备
，尤其是涉及一种集成式PECVD。
技术介绍
气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层。气相沉积技术按照成膜机理，可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积。低压化学气相沉积设备就是一种常用的镀膜制造设备；但现有的PECVD设备普遍体积庞大，操作起来十分不便，工作台上的炉体和石英管均不易调节，容易造成石英管的损坏。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术创造旨在克服上述现有技术中存在的缺陷，提出一种集成式PECVD。为达到上述目的，本专利技术创造的技术方案是这样实现的：一种集成式PECVD，包括工作台和工作台上设置的气相沉积机构，该气相沉积机构包括工作台上滑动设置的炉体、以及炉体上设置的石英管，所述工作台上设有用于驱动炉体移动的驱动器；所述工作台上对应石英管两端的位置设有用于支撑石英管的支撑机构，该支撑机构包括工作台上滑动设置的连接板、以及连接板上设置的连接架，所述连接架上设有可升降调节本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种集成式PECVD，其特征在于：包括工作台和工作台上设置的气相沉积机构，该气相沉积机构包括工作台上滑动设置的炉体、以及炉体上设置的石英管，所述工作台上设有用于驱动炉体移动的驱动器；所述工作台上对应石英管两端的位置设有用于支撑石英管的支撑机构，该支撑机构包括工作台上滑动设置的连接板、以及连接板上设置的连接架，所述连接架上设有可升降调节的支撑架，连接架上对应支撑架中部的位置设有用于限制支撑架移动的导向组件。/n

【技术特征摘要】
1.一种集成式PECVD，其特征在于：包括工作台和工作台上设置的气相沉积机构，该气相沉积机构包括工作台上滑动设置的炉体、以及炉体上设置的石英管，所述工作台上设有用于驱动炉体移动的驱动器；所述工作台上对应石英管两端的位置设有用于支撑石英管的支撑机构，该支撑机构包括工作台上滑动设置的连接板、以及连接板上设置的连接架，所述连接架上设有可升降调节的支撑架，连接架上对应支撑架中部的位置设有用于限制支撑架移动的导向组件。


2.根据权利要求1所述的一种集成式PECVD，其特征在于：所述支撑架包括水平设置的支撑板、以及支撑板上设置的支撑座，该支撑座上设有用于承载石英管的容纳槽；所述连接架上设有用于安装支撑板的螺柱，支撑板上设有与螺柱配合的安装孔，所述螺柱上设有用于调节支撑板高度的调节螺母。


3.根据权利要求1所述的一种集成式PECVD，其特征在于：所述连接架为倒U型结构件，所述导向组件包括连接架中部竖直设置的导向套，该导向套的顶端固定在连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：张文祥，刘雲成，刘冰，周学亮，陈伟，张海媛，
申请(专利权)人：天津中环电炉股份有限公司，
类型：新型
国别省市：天津;12