一种杯坯上外釉的浸釉机构制造技术

本实用新型专利技术涉及陶瓷上釉设备技术领域的一种杯坯上外釉的浸釉机构，该上外釉的浸釉机构，包括浸釉池(1)、溢料槽(2)、支架(3)，所述浸釉池(1)设于支架(3)上，所述溢料槽(2)设于浸釉池(1)内、能相对浸釉池(1)上下活动，所述溢料槽(2)下端面连接有回料管(6)；通过该机构的设计，使得真空吸盘吸住杯内底侧向下浸釉时不再是以真空吸盘与杯内底侧的接触面为上釉参照基准，而是以杯底与浸釉池的底侧接触面既浸釉池底面为参照基准，再根据杯坯整体高度调节溢料槽的高度实现精准上釉；本实用新型专利技术结构简单，从根本原因上解决了传统上釉不精准易倒灌的问题，且方便根据不同杯坯的上釉情况而调节溢料槽相对高度，适用范围广。

A dipping mechanism for outer glaze of cup blank

【技术实现步骤摘要】
一种杯坯上外釉的浸釉机构
本技术属于陶瓷上釉设备
，具体涉及一种杯坯上外釉的浸釉机构。
技术介绍
现有技术的杯坯上外釉机械大都采用一个真空吸盘吸住杯坯内侧底部从而移动杯坯慢慢浸入带有溢料槽的简单浸釉池内，直至杯坯杯口与溢料槽槽口既釉水上平面平齐，即完成外表面的上釉，因此种上釉是以杯坯内侧的底部为基准实现的上釉，而陶瓷杯坯其独特的成型工艺：既通过一个转动成型辊、一个成型模具以及一把削泥刀具构成，转动成型辊通过高速转动将填入成型模具内的泥坯成型成杯体模样，削泥刀具通过布置在成型模具出口处将多余的泥坯切割排出；导致每次成型的杯体总高度可以达到精确的保证，而杯底的厚度却因转动成型辊每次插入成型模具深度的不精确而不同，所以采用真空吸盘吸住杯内底侧并以杯内底侧为上釉参照基准的方法来实现上外釉容易导致浸釉池内釉水倒灌。
技术实现思路
为解决上述现有技术中上釉参照基准不稳定而造成杯坯外侧无法精确上釉的问题，本技术提供一种杯坯上外釉的浸釉机构。为实现上述目的，本技术的技术解决方案是：一种杯坯上外釉的浸釉机构，包括浸釉池、溢料槽、支架，所述浸釉池设于支架上，所述溢料槽设于浸釉池内、能相对浸釉池上下活动，所述溢料槽下端面连接有回料管；这样，在上釉时，可以让真空吸盘吸住杯体慢慢向下浸入直至杯底与浸釉池底面相接触，再调整溢料槽高度确定上釉最高水平线，这种以浸釉池底面和杯体底面为基准，以杯体总高度为上釉高度的上釉方式相比以杯内底侧为基准的上釉方式更加稳定和精确。进一步的，所述溢料槽呈回字型，便于杯体下浸时，釉水从四周迅速溢出。进一步的，所述回料管为圆钢管、且至少设有2根，所述浸釉池底部对应回料管的位置固设有滑动密封套，所述滑动密封套与所述回料管滑动连接，所述回料管通过滑动密封套穿出浸釉池底部连接有升降调节装置。进一步的，所述升降调节装置包括与回料管固定连接的调节板，所述调节板下方设置有连接板，所述连接板固定连接在支架上，所述连接板与调节板间还设有至少2根导向杆，所述导向杆与连接板滑动连接，所述连接板上还转动连接有调节螺杆，所述调节螺杆上端与调节板螺纹连接传动。进一步的，所述滑动密封套包括固定套筒，所述固定套筒内圈上设有不少于2处凹槽环，所述凹槽环内均设置有密封圈。进一步的，所述支架下端设有可调节地脚。本技术的有益效果是：通过本装置的设计，使得真空吸盘吸住杯内底侧向下浸釉时不再是以真空吸盘与杯内底侧的接触面为上釉参照基准，而是以杯底与浸釉池的底侧接触面既浸釉池底面为参照基准，再根据杯坯整体高度调节溢料槽的高度，辅之以回字型的溢料槽便于釉料的快速溢出从而实现精准上釉；本技术结构简单，从根本原因上解决了传统上釉不精准易倒灌的问题，且方便根据不同杯坯的上釉情况而调节溢料槽相对高度，适用范围广。附图说明图1是本技术实施例1的结构示意图。图2是图1的俯视图。图3是图2的A-A向剖视图。图4是本技术实施例2的结构示意图。图5是本技术实施例3的结构示意图。具体实施方式以下将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。为叙述方便，下文中如出现“上”、“下”、“左”、“右”字样，仅表示与附图本身的上、下、左、右方向一致，并不对结构起限定作用。实施例1如图1-3示，本技术的结构为：一种杯坯上外釉的浸釉机构，包括浸釉池1、溢料槽2、支架3，所述浸釉池1设在带有可调节地脚的支架3上方，所述溢料槽2设于浸釉池1内、其底侧连通焊接有至少2根圆钢管式的回料管6，所述浸釉池1底侧上对应回料管6的位置焊接有滑动密封套4，所述滑动密封套4与所述回料管6滑动连接实现溢料槽2的上下活动并使得釉水不会因滑动密封套4与所述回料管6的相对活动而漏釉，所述回料管6通过滑动密封套4穿出浸釉池1底侧，所述回料管6穿出浸釉池1的下端连接有升降调节装置5，所述升降调节装置5通过对回料管6的上下调节实现对溢料槽2的高度调节。具体的，所述滑动密封套4包括固定套筒，所述固定套筒内圈上设有不少于2处凹槽环，所述凹槽环内均设置有密封圈。本实施例中，所述升降调节装置5包括与回料管6固定连接的调节板51，所述回料管6穿过调节板51留出连接口与储釉仓连接，所述调节板51下方设置有连接板53，所述连接板53固定连接在支架3上，所述连接板53与调节板51间还设有至少2根导向杆52，所述导向杆52与连接板53滑动连接、与调节板51固定连接，所述连接板53中部还转动连接有调节螺杆54，所述调节螺杆54下端穿出连接板53设有把手、上端与调节板51螺纹连接传动，既转动调节螺杆54把手时，调节板51带动回料管6向下或向上运动。作为本设计的一种优选技术方案，所述溢料槽2呈回字型，其四直角处下端均焊接连通有回料管6，既溢出的釉水可通过8个面进入溢料槽2，加快了溢出的速度，也使得釉水不易受表面张力的影响而堆积，提高了上釉效率与效果。作为本设计的一种优选技术方案，所述进釉口设于浸釉池1的一侧面紧挨底部的位置，便于新釉水进入浸釉池1时对池内釉水的冲击而使得釉水不宜沉积，提高上釉的效果。具体使用时，先根据已就位的杯坯的底面调整支架3的可调节地脚，使得杯坯底面刚好与浸釉池1底面相接触，再转动升降调节装置5的把手，调节溢料槽2的高度，使得溢料槽2的上端面即釉水的上端面刚好浸泡完全杯坯的外表面而不倒灌进杯内即可。实施例2如图4示，与实施例1的区别在于，所述浸釉池1底面固设有不少于2根导杆11，所述溢料槽2底侧对应导杆11固定设置有滑动密封套4，所述导杆11穿入滑动密封套4进入溢料槽2，所述溢料槽2通过滑动密封套4与导杆11滑动连接实现溢料槽2的上下滑动；所述回料管6为软管，便于储存来应对溢料槽2的上下移动，所述软管从浸釉池1底部穿出浸釉池1、两者交合面打有密封胶；具体的，所述导杆11上、溢料槽2上下两侧设有抱箍用于固定溢料槽2位置的位置。具体使用时，先根据已就位的杯坯的底面调整支架3的可调节地脚，使得杯坯底面刚好与浸釉池1底面相接触，再调节抱箍位置从而调节溢料槽2的高度，使得溢料槽2的上端面即釉水的上端面刚好浸泡完全杯坯的外表面而不倒灌进杯内即可。实施例3如图5示，与实施例2的区别在于，所述浸釉池1底面固设有不少于2根导杆11，所述溢料槽2上对应导杆11的位置焊接有与之间隙配合的套筒21，即导杆11能在套筒21内自由上下活动，所述套筒21顶部高出溢料槽2顶部从而使得釉料不会通过套筒21溢出而是从溢料槽2上端面溢出，所述套筒21高出溢料槽2的顶部侧面设有锁止螺丝用于固定定位好的溢料槽2。具体使用时，先根据已就位的杯坯的底面调整支架3的可调节地脚，使得杯坯底面刚好与浸釉池1底面相接触，再调节锁止螺丝从而调节固定溢料槽2的高度，使得溢料槽2的上端面即釉水的上端面刚好浸泡完全杯坯的外表面而本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种杯坯上外釉的浸釉机构，包括浸釉池(1)、溢料槽(2)、支架(3)，所述浸釉池(1)设于支架(3)上，其特征在于，所述溢料槽(2)设于浸釉池(1)内、能相对浸釉池(1)上下活动，所述溢料槽(2)下端面连接有回料管(6)。/n

【技术特征摘要】
1.一种杯坯上外釉的浸釉机构，包括浸釉池(1)、溢料槽(2)、支架(3)，所述浸釉池(1)设于支架(3)上，其特征在于，所述溢料槽(2)设于浸釉池(1)内、能相对浸釉池(1)上下活动，所述溢料槽(2)下端面连接有回料管(6)。


2.根据权利要求1所述的一种杯坯上外釉的浸釉机构，其特征在于，所述溢料槽(2)呈回字型。


3.根据权利要求2所述的一种杯坯上外釉的浸釉机构，其特征在于，所述回料管(6)为圆钢管、且至少设有2根，所述浸釉池(1)底部对应回料管(6)的位置固设有滑动密封套(4)，所述滑动密封套(4)与所述回料管(6)滑动连接，所述回料管(6)通过滑动密封套(4)穿出浸釉池(1)底部连接有升降调节装置(5)。


4.根据权利要求3所述的一种杯坯上外釉的浸釉机构，其特征在于，所述升降调节装置(5)包括与回料管(6)固定连接的调节板(51)，所述调节板(51)下方设置有连接板(53)，所述连接板(53)固定连接在支架(3)上，所述连接板(53)与调节板(51)间还设有至少2根导向杆(52)，所述导向杆(52)与连接板(53)滑动连接，所述连接板(53)上还转动连接有调节螺杆(54)，所述调节螺杆(54)上端与调节板(51)螺纹连接传动。

【专利技术属性】
技术研发人员：彭稳华，刘建华，刘金卫，
申请(专利权)人：长沙昂卓智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：湖南;43