【技术实现步骤摘要】
一种用于纳米压印光刻设备的空间精密定位平台制备方法
本专利技术涉及纳米压印
，特别是涉及一种基于运动误差约束的用于纳米压印光刻设备的空间精密定位平台制备方法。
技术介绍
纳米压印光刻技术是一种利用“图章”转印，实现批量纳米图形复制的方法，由于其不同于传统光刻加工方式，具有传统光刻加工技术不可比拟的优势。纳米压印光刻设备中，不论采用的是何种压印技术，影响纳米压印光刻设备压印精度的关键因素之一，便是定位平台的定位精度，尤其在多步压印光刻设备中的影响更为明显。传统定位平台的设计方法主要有两种：机械结构堆砌和新型结构设计。机械结构堆砌主要体现在运用传统的伺服电机、滚珠丝杆等器件，组合形成精密定位平台，如现有技术中基于宏微机构联动设计得到的纳米压印装置，这类装置最突出的问题是由于刚性机构之间的装配精度影响，这种结构的定位平台在达到一定定位精度之后无法继续提升，且刚性机构在运动过程中存在摩擦磨损情况，造成机构定位性能无法保证；纳米压印的另一种设计方法为新型结构设计方法，主要体现在采用柔顺机构设计来得到精密定位平台，现有技术...
【技术保护点】
1.一种用于纳米压印光刻设备的空间精密定位平台制备方法，包括如下步骤：/n步骤S1，根据精密定位平台运动所需的运动自由度设计并联原型机构，运用螺旋理论计算得到该并联原型机构的输入输出映射矩阵；/n步骤S2，利用步骤S1获得的输入输出映射矩阵进行精密定位平台建模，得到精密定位平台的拓扑优化模型，利用拓扑优化方法得到得到精密对准平台单元密度分布图；/n步骤S3，根据步骤S2中得到的精密对准定位平台密度图，提取密度值在预设阈值范围之内的得到理论定位平台，并运用三维建模技术得到可用于实际生产的精密定位平台。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于纳米压印光刻设备的空间精密定位平台制备方法，包括如下步骤：
步骤S1，根据精密定位平台运动所需的运动自由度设计并联原型机构，运用螺旋理论计算得到该并联原型机构的输入输出映射矩阵；
步骤S2，利用步骤S1获得的输入输出映射矩阵进行精密定位平台建模，得到精密定位平台的拓扑优化模型，利用拓扑优化方法得到得到精密对准平台单元密度分布图；
步骤S3，根据步骤S2中得到的精密对准定位平台密度图，提取密度值在预设阈值范围之内的得到理论定位平台，并运用三维建模技术得到可用于实际生产的精密定位平台。
2.如权利要求1所述的一种用于纳米压印光刻设备的空间精密定位平台制备方法，其特征在于：于步骤S1中，根据精密定位平台运动所需的运动自由度设计并联原型机构，在不同驱动位移输入条件下，该并联机构的定位平台在三个运动自由度上分别产生的位移大小，通过输入位移和输出位移，分别计算出驱动位移对定位平台各个运动自由度上位移的贡献值，从而获得所述输入输出位移映射矩阵。
3.如权利要求2所述的一种用于纳米压印光刻设备的空间精密定位平台制备方法，其特征在于，步骤S2进一步包括：
步骤S200，将步骤S1中获得的输入输出映射矩阵用于精密定位平台建模，得到精密定位平台的拓扑优化模型；
步骤S201，利用该精密定位平台的拓扑优化模型，在给定输入驱动条件下，比较该驱动条件下定位平台实际输出位移与期望输出位移之间的差值，通过最小化差值，得...
【专利技术属性】
技术研发人员：谢宏威，贺香华，谢德芳，周聪，陈丛桂，
申请(专利权)人：广州大学，
类型：发明
国别省市：广东;44
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