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本发明公开了一种用于纳米压印光刻设备的空间精密定位平台制备方法，包括如下步骤：步骤S1，根据精密定位平台运动所需的运动自由度设计并联原型机构，运用螺旋理论计算得到该并联原型机构的输入输出映射矩阵；步骤S2，利用步骤S1获得的输入输出映射矩阵...
该专利属于广州大学所有，仅供学习研究参考，未经过广州大学授权不得商用。

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