【技术实现步骤摘要】
真空镀膜装置
本技术涉及一种真空镀膜装置，属于真空镀膜机
技术介绍
现有技术中的真空镀膜设备往往一次只能实现每次对单个基材进行镀膜，而且无法同时设定不同的镀膜参数进行实验对比。因此导致真空镀膜设备的真空室利用率低。因此目前急需设计一种真空镀膜装置，能够实现同时对多个基材进行快速镀膜。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术中的不足，提供一种真空镀膜装置，技术方案如下：真空镀膜装置，包括真空镀膜室、固定台，真空镀膜室由腔室隔板分隔为多个镀膜空间，真空镀膜室中部固定有固定架，固定架通过转动轴与电机传动连接；固定台设置在真空镀膜室底部，固定台顶部开设环形凹槽，环形凹槽内嵌入镀膜台，镀膜台上放置基材。与现有技术相比，本技术所达到的有益效果：本技术的真空镀膜装置能同时对多个基材进行镀膜、还可在不同镀膜空间内设定不同的镀膜参数，对基材镀膜进行对比实验。镀膜效率较高。附图说明图1是本技术的真空镀膜装置的主视图；图2是本技术的真空镀
【技术保护点】
1.真空镀膜装置，其特征在于，包括真空镀膜室、固定台，/n所述真空镀膜室由腔室隔板分隔为多个镀膜空间，所述真空镀膜室中部固定有固定架，所述固定架通过转动轴与电机传动连接；/n所述固定台设置在所述真空镀膜室底部，所述固定台顶部开设环形凹槽，所述环形凹槽内嵌入镀膜台，所述镀膜台上放置基材。/n
【技术特征摘要】
1.真空镀膜装置，其特征在于，包括真空镀膜室、固定台，
所述真空镀膜室由腔室隔板分隔为多个镀膜空间，所述真空镀膜室中部固定有固定架，所述固定架通过转动轴与电机传动连接；
所述固定台设置在所述真空镀膜室底部，所述固定台顶部开设环形凹槽，所述环形凹槽内嵌入镀膜台，所述镀膜台上放置基材。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述镀膜台底部固定沿所述环形凹槽移动的多个滑块。
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【专利技术属性】
技术研发人员：蒋贵霞，贾建国，
申请(专利权)人：昆山英利悦电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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