用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器和方法技术

一种用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器。所述清洁度监测器可包括质谱仪、分子聚集和释放单元、以及分析器。所述分子聚集和释放单元被配置为(a)在聚集时期期间聚集存在于所述真空腔室中的有机分子和(b)在释放时期期间朝向所述质谱仪诱导所述有机分子的子集的释放。所述质谱仪被配置为：监测所述真空腔室内的环境，和产生指示所述环境的内容物的检测信号；其中所述检测信号的第一子集指示所述有机分子的所述子集的存在。所述分析器被配置为基于所述检测信号来确定所述真空腔室的清洁度。

Cleanliness monitors and methods for monitoring the cleanliness of vacuum chambers

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器和方法相关申请的交叉引用本申请要求于2017年7月18日提交的美国专利申请第15/653,299号的优先权，为了所有目的，通过引用将上述专利申请的整体内容结合在此。
技术介绍
分子污染是半导体制造业中的基本问题，具体而言是在包括真空腔室的工具(诸如扫描电子显微镜)中的基本问题。有机分子可能起源于真空腔室里面的有机物成分，以及起源于先前安插到真空腔室中的晶片。这些有机分子吸附在受检查晶片的表面上，而形成覆盖表面的小部分的岛状物。这些岛状物可能造成晶片故障。清洁度水平由于维护活动和受检查晶片的释气水平而随时间变化。存在着提供用于监测真空腔室的清洁度的设备和方法的增长的需要。
技术实现思路
可提供一种用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器，所述清洁度监测器可包括：质谱仪；分子聚集和释放单元，所述分子聚集和释放单元被配置为(a)在聚集时期期间聚集可能存在于所述真空腔室中的有机分子和(b)在释放时期期间朝向所述质谱仪诱导所述有机分子的子集的释放；其中所述质谱仪可被配置为监本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器，所述清洁度监测器包括：/n质谱仪，所述质谱仪被配置为监测所述真空腔室内的环境，和产生指示所述环境的内容物的检测信号，其中所述检测信号的第一子集指示有机分子的存在；/n分子聚集和释放单元，所述分子聚集和释放单元被配置为在聚集时期期间聚集存在于所述真空腔室中的有机分子，和在释放时期期间朝向所述质谱仪诱导所述有机分子的子集的释放；和/n分析器，所述分析器被配置为基于所述检测信号来确定所述真空腔室的清洁度。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170718 US 15/653,2991.一种用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器，所述清洁度监测器包括：
质谱仪，所述质谱仪被配置为监测所述真空腔室内的环境，和产生指示所述环境的内容物的检测信号，其中所述检测信号的第一子集指示有机分子的存在；
分子聚集和释放单元，所述分子聚集和释放单元被配置为在聚集时期期间聚集存在于所述真空腔室中的有机分子，和在释放时期期间朝向所述质谱仪诱导所述有机分子的子集的释放；和
分析器，所述分析器被配置为基于所述检测信号来确定所述真空腔室的清洁度。


2.根据权利要求1所述的清洁度监测器，其中所述分子聚集和释放单元包括加热元件，所述加热元件热耦接至所述分子聚集器和释放器的分子聚集器。


3.根据权利要求1所述的清洁度监测器，其中所述分子聚集和释放单元包括分子释放器，所述分子释放器电耦接至所述分子聚集器和释放器的分子聚集器；且其中所述分子释放器被配置为将电流驱动通过所述分子聚集器，由此加热所述分子聚集器。


4.根据权利要求1所述的清洁度监测器，其中所述分子聚集和释放单元包括螺旋形导电体。


5.根据权利要求1所述的清洁度监测器，其中所述分子聚集和释放单元包括螺旋形电绝缘体。


6.根据权利要求1所述的清洁度监测器，其中所述分子聚集和释放单元包括不平滑板。


7.根据权利要求1所述的清洁度监测器，包括流量控制单元，所述流量控制单元用于在所述释放时期期间影响聚集分子的传播。


8.根据权利要求7所述的清洁度监测器，其中所述流量控制单元包括泵，所述泵用于朝向所述质谱仪引导所述聚集分子。


9.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊里特·拉奇尼尔，迈克尔·艾伦，盖伊·伊坦，马根·雅科夫·舒曼，
申请(专利权)人：应用材料以色列公司，
类型：发明
国别省市：以色列;IL