消除扰流的液气分离式涂布机结构制造技术

技术编号:24578349 阅读:51 留言:0更新日期:2020-06-21 00:42
本发明专利技术为一种消除扰流的液气分离式涂布机结构,其包括:杯体,其为杯底部及环绕杯壁,又杯底部包括:第一凹部,其由环绕杯壁、第一环绕内壁、及第一底部所形成,又第一底部与液体回收管相连通;及第二凹部,其由第一环绕内壁、第二环绕内壁、及第二底部所形成,又第二底部与至少一个排气管相连通;涂布模块,其包括:旋转驱动单元,其具有旋转轴心;至少一个升降驱动单元;及载盘;第一杯罩;以及第二杯罩。藉由本发明专利技术的实施,可以达成消除沉流气体的扰流并使气体压力均匀分布的功效。

Structure of liquid gas separation coater to eliminate turbulence

【技术实现步骤摘要】
消除扰流的液气分离式涂布机结构
本专利技术为一种消除扰流的液气分离式涂布机结构,特别为一种应用半导体晶圆片进行光阻剂…等涂布部的消除扰流的液气分离式涂布机结构。
技术介绍
如美国专利US5,962,193所示,其揭露了一种用于通过提供可调节壳体来控制液体涂布设备中的空气流动的方法和设备,所述可调节壳体包括上隔室和下隔室,使得可以调节容纳在其中腔室的高度。随后,可以适当地调节待涂覆的基材和上隔室的内壁之间的间隔,以允许所需量的空气流过。可以防止在旋涂过程中从基板表面抛出的液体涂层颗粒再沉积,然后从上隔室的内壁反弹回到基板表面上。如US6,165,267所示,揭露了一种比现有的旋涂设备需要更少的洁净室空气流的旋转涂布设备,以使洁净室污染最小化。当洁净室空气流的需求降低时,旋转涂布机成形的排气管维持了制程质量。排气管可以降低从晶圆片所延伸的扰流并最小化气流漩涡的形成。排气管道可以符合夹带流线,以使涡流的形成最小化,并在最小的洁净室空气流速下减少过程间污染,在最小洁净室空气流量下减少过程间污染。
技术实现思路
本专利技术为一种消除扰流的液气分离式涂布机结构,其主要是要解决半导体晶圆片进行光阻剂涂布时,因为下降气流的扰流及气体压力不均匀造成涂布不佳,以致影响后续半导体组件制作质量不佳的问题。本专利技术的目的是采用以下技术方案来实现的。本专利技术提供一种消除扰流的液气分离式涂布机结构,其包括:杯体,其为杯底部及由杯底部端部向上延伸的环绕杯壁所形成,其中杯底部包括:第一凹部,其是由环绕杯壁、位于环绕杯壁内侧的第一环绕内壁、及连接于环绕杯壁底部及第一环绕内壁底部的第一底部所形成,又第一底部与液体回收管相连通;及第二凹部,其是由第一环绕内壁、位于第一环绕内壁内侧的第二环绕内壁、及连接于第一环绕内壁底部及第二环绕内壁底部的第二底部所形成,又第二底部与至少一个排气管相连通;涂布模块,其包括:旋转驱动单元,其具有旋转轴心,又旋转轴心贯穿第二环绕内壁所形成的中央穿孔;至少一个升降驱动单元,其驱动旋转驱动单元进行升降动作;及载盘,结合于旋转轴心的顶部,又载盘用以承载待涂布件;第一杯罩,其具有第一开口,第一杯罩的端部与环绕杯壁结合为一体;以及第二杯罩,其具有第二开口,第二杯罩位于第二开口侧的端部结合于第二环绕内壁上,又第二杯罩跨越第一环绕内壁后形成于环绕杯壁与第一环绕内壁间;其中第一底部的位置低于第二底部的水平高度。本专利技术的目的还可采用以下技术措施进一步实现。所述的液气分离式涂布机结构,其设置于涂布机腔室中,该涂布机腔室进气端,在第一控制器的调节控制下,提供下降气流;又于该至少一个排气管端,在第二控制器的调节控制下,排出腔室内的气体。所述的液气分离式涂布机结构,其中该第一底部为斜面,又该液体回收管设置于该斜面的最低处。所述的液气分离式涂布机结构,其中该至少一个排气管为多个排气管且彼此等间距排列。所述的液气分离式涂布机结构,其中该第一杯罩具有第一斜面及第一垂直面,由该第一斜面向外延伸形成。所述的液气分离式涂布机结构,其中该第二杯罩具有第二斜面及第二垂直面,由该第二斜面向外延伸形成。所述的液气分离式涂布机结构,其中该第二垂直面的底部低于该第一环绕内壁的顶部,又该第二垂直面的底部与该第一底部间形成有排气间隙。所述的液气分离式涂布机结构,其中该第二杯罩于该第二开口壁设有向上延伸的环绕凸缘,且该载盘的顶面高于该环绕凸缘。所述的液气分离式涂布机结构,其中该第一开口的直径大于该第二开口的直径。所述的液气分离式涂布机结构,其中该杯底部下方设有多个结合插销。藉由本专利技术的实施,至少可以达成下列的进步功效:一、可以有效消除下降气流的扰流现象。二、可以使涂布腔室的气体压力或气流均匀。三、可以提升光阻涂布的均匀性。为了使任何熟习相关技艺者了解本专利技术的
技术实现思路
并据以实施,且根据本说明书所揭露的内容、申请专利范围及图式,任何熟习相关技艺者可轻易的理解本专利技术相关的目的及优点,因此将在实施方式中详细叙述本专利技术的详细特征以及优点。附图说明图1为本专利技术的一种消除扰流的液气分离式涂布机结构分解实施例图;图2为本专利技术液气分离式涂布机结构设置于涂布机腔室实施例图;图3A为本专利技术的一种杯体实施例图;图3B为本专利技术的一种第一底部为斜面的实施例图;图3C为本专利技术的一种排气管配置的实施例图;图4A为本专利技术的一种涂布模块顶升状态实施例图;图4B为本专利技术的一种涂布模块下降状态实施例图;以及图5为本专利技术的一种液气分离式涂布机结构剖视实施例图。【主要元件符号说明】100:消除扰流的液气分离式涂布机结构10:杯体101:杯底部102:环绕杯壁103:第一凹部104:第二凹部111:第一环绕内壁112:第一底部113:液体回收管121:第二环绕内壁122:第二底部123:排气管20:涂布模块210:旋转驱动单元211:旋转轴心220:升降驱动单元230:载盘30:第一杯罩310:第一开口311:第一斜面312:第一垂直面40:第二杯罩哀甩410:第二开口420:环绕凸缘431:第二斜面432:第二垂直面510:排气间隙520:结合插销900:涂布机腔室910:第一控制器920:第二控制器L1:气体流L2:液体流具体实施方式如图1所示,本实施例为一种消除扰流的液气分离式涂布机结构100,其包括:杯体10;涂布模块20;第一杯罩30;以及第二杯罩40。如图2所示,液气分离式涂布机结构100设置于涂布机腔室900中,涂布机腔室900进气端,在第一控制器910的调节控制下,提供下降气流;又于至少一个排气管123端,在第二控制器920的调节控制下,控制排出涂布机腔室900内的气体。藉由第一控制器910及第二控制器920的制器,可以有效的调节涂布机腔室900内的气体流速及压力。如图3所示,杯体10,其为消除扰流的液气分离式涂布机结构100的基座。为了符合旋转运作的特性,因此杯体10为杯底部101及由杯底部101端部向上延伸的环绕杯壁102所形成。又有关杯底部101的设计,其包括了第一凹部103及第二凹部104。第一凹部103,其为环绕状沟槽。具体而言、第一凹部103是由环绕杯壁102、位于环绕杯壁102内侧的第一环绕内壁111、及连接于环绕杯壁102底部及第一环绕内壁111底部的第一底部112所形成。如图3B所示,为了有效的回收光阻剂,因此将第一底部112与液体回收管113相连通,如此光阻剂就可以藉由液体回收管113进行回收;又为了使光阻剂能够有效的集中,因此可以将第一底部112设计成为斜面;又为了使光阻剂本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种消除扰流的液气分离式涂布机结构,其特征在于,其包括:/n杯体,其为杯底部及由该杯底部端部向上延伸的环绕杯壁所形成,其中该杯底部包括:/n第一凹部,其是由该环绕杯壁、位于该环绕杯壁内侧的第一环绕内壁、及连接于该环绕杯壁底部及该第一环绕内壁底部的第一底部所形成,又该第一底部与液体回收管相连通;及/n第二凹部,其是由该第一环绕内壁、位于该第一环绕内壁内侧的第二环绕内壁、及连接于该第一环绕内壁底部及该第二环绕内壁底部的第二底部所形成,又该第二底部与至少一个排气管相连通;/n涂布模块,其包括:/n旋转驱动单元,其具有旋转轴心,又该旋转轴心贯穿该第二环绕内壁所形成的中央穿孔;/n至少一个升降驱动单元,其驱动该旋转驱动单元进行升降动作;及/n载盘,结合于该旋转轴心的顶部,又该载盘用以承载待涂布件;/n第一杯罩,其具有第一开口,该第一杯罩的端部与该环绕杯壁结合为一体;以及/n第二杯罩,其具有第二开口,该第二杯罩位于该第二开口侧的端部结合于该第二环绕内壁上,又该第二杯罩跨越该第一环绕内壁后形成于该环绕杯壁与该第一环绕内壁间;/n其中该第一底部的位置低于该第二底部的水平高度。/n

【技术特征摘要】
1.一种消除扰流的液气分离式涂布机结构,其特征在于,其包括:
杯体,其为杯底部及由该杯底部端部向上延伸的环绕杯壁所形成,其中该杯底部包括:
第一凹部,其是由该环绕杯壁、位于该环绕杯壁内侧的第一环绕内壁、及连接于该环绕杯壁底部及该第一环绕内壁底部的第一底部所形成,又该第一底部与液体回收管相连通;及
第二凹部,其是由该第一环绕内壁、位于该第一环绕内壁内侧的第二环绕内壁、及连接于该第一环绕内壁底部及该第二环绕内壁底部的第二底部所形成,又该第二底部与至少一个排气管相连通;
涂布模块,其包括:
旋转驱动单元,其具有旋转轴心,又该旋转轴心贯穿该第二环绕内壁所形成的中央穿孔;
至少一个升降驱动单元,其驱动该旋转驱动单元进行升降动作;及
载盘,结合于该旋转轴心的顶部,又该载盘用以承载待涂布件;
第一杯罩,其具有第一开口,该第一杯罩的端部与该环绕杯壁结合为一体;以及
第二杯罩,其具有第二开口,该第二杯罩位于该第二开口侧的端部结合于该第二环绕内壁上,又该第二杯罩跨越该第一环绕内壁后形成于该环绕杯壁与该第一环绕内壁间;
其中该第一底部的位置低于该第二底部的水平高度。


2.如权利要求1所述的液气分离式涂布机结构,其特征在于,其设置于涂布机腔室中,该涂布机腔室进气端,在第一控制器的调节控制下,提供下降气流;又于该至少一...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈茂全苏啟郎廖崇文
申请(专利权)人:聚昌科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾;71

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