【技术实现步骤摘要】
引线键合设备
本申请涉及引线键合
,尤其涉及引线键合设备。
技术介绍
在集成电路半导体封装制造过程中,对于贴装于料条上的晶片进行引线键合的工艺流程会直接影响封装后的半导体产品及模块的良率。此外,随着集成电路半导体产品不断朝向小型化的方向发展,对于如何设计更好的引线键合工艺设备及工艺流程,提出了更高的要求。
技术实现思路
根据本申请的一些实施例,一种引线键合设备,包括:控制器,其经配置以发送真空吸附指令;及真空吸附装置,其与所述控制器通讯连接,并经配置以在接收到所述真空吸附指令时形成真空以吸附和固定位于所述真空吸附装置上的料条;其中,所述料条上设置有待键合的晶片。根据本申请的一些实施例,一种操作方法,应用于所述的引线键合设备,包括以下步骤:控制器发送真空吸附指令;及真空吸附装置在接收到所述真空吸附指令时形成真空以吸附和固定位于所述真空吸附装置上的料条。根据本申请的一些实施例,一种引线键合设备,包括:装载装置,其用于装载所述料条,其中所述料条上设置有待键合的晶片;控制器,其经配置以发送真空吸附指令;及真空吸附装置,其与所述控制器通讯连接,并经配置以在接收到所述真空吸附指令时形成真空以吸附和固定位于所述真空吸附装置上的所述装载装置上的所述料条。根据本申请的一些实施例,一种操作方法,应用于所述的引线键合设备,包括以下步骤:控制器发送真空吸附指令;及真空吸附装置在接收到所述真空吸附指令时形成真空以吸附和固定位于所述真空吸附装置上的料条;其中,所述料条位于装载装置中。 ...
【技术保护点】
1.一种引线键合设备,其特征在于,包括:/n控制器,其经配置以发送真空吸附指令;及/n真空吸附装置,其与所述控制器通讯连接,并经配置以在接收到所述真空吸附指令时形成真空以吸附和固定位于所述真空吸附装置上的料条;/n其中,所述料条上设置有待键合的晶片。/n
【技术特征摘要】
1.一种引线键合设备,其特征在于,包括:
控制器,其经配置以发送真空吸附指令;及
真空吸附装置,其与所述控制器通讯连接,并经配置以在接收到所述真空吸附指令时形成真空以吸附和固定位于所述真空吸附装置上的料条;
其中,所述料条上设置有待键合的晶片。
2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,其进一步包括压合装置;其中,所述压合装置由所述控制器控制并下降至所述料条的上方,以与所述真空吸附装置相对。
3.根据权利要求2所述的设备,其特征在于,所述压合装置包括:
压合主体,其具有窗口,所述窗口用于在所述压合装置位于所述料条上方时显露所述料条中的待键合的晶片;及
触手,所述触手的一端安置于所述压合主体上,所述触手的另一端通过所述窗口与所述料条的上表面接触。
4.根据权利要求3所述的设备,其特征在于,所述触手的另一端与所述料条的上表面之间接触,但无相互作用力。
5.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述真空吸附装置具有真空吸附平面,所述真空吸附平面具有若干第一通孔;所述真空吸附装置在所述若干第一通孔内形成真空以吸附和固定所述料条。
6.根据权利要求1-5任一项所述的设备,其特征在于,其进一步包括:
传送装置,与所述控制器通讯连接,经配置以在接收到传送指令时通过轨道将所述料条传送至与所述真空吸附装置对应的位置。
7.根据权利要求6所述的设备,其特征在于,所述传送装置还包括:
传送针组件,所述传送针组件设置于所述轨道的两侧;
其中,所述传送针组件包括传送针,所述传送针组件用于通过所述传送针与所述料条中的步进孔结合以进行传送。
8.根据权利要求6所述的设备,其特征在于,所述传送装置还包括:
夹爪组件,所述夹爪组件位于所述轨道的两侧;
其中,所述夹爪组件包括夹爪,所述夹爪组件用于通过所述夹爪夹紧所述料条的侧边以进行传送。
9.根据权利要求6所述的设备,其特征在于,其进一步包括:
上料装置,其与所述控制器通讯连接,并经配置以在接收到上料指令时将所述料条送入轨道。
10.根据权利要求9所述的设备,其特征在于,其进一步包括:
焊线作业装置,其与控制器通讯连接,并经配置以在接收到开始焊接指令时对所述料条上的晶片进行引线焊接。
11.一种引线键合设备,其特征在于,包括:
装载装置,其用于装载料条,其中所述料条上设置有待键合的晶片;
控制器,其经配置以发送真空吸附指令;及
真空吸附装置,其与所述控制器通讯连接,并经配置以在接收到所述真空吸附指令时形成真空以吸附和固定位于所述真空吸附装置上的所述装载装置上的所述料条。
12.根据权利要求11所述的设备,其特征在于,其进一步包括压合装置;其中,所述压合装置由所述控制器控制并下降至所述料条的上方,以与所述真空吸附装置相对。
13.根据权利要求12所述的设备,其特征在于,所述压合装置包括:
压合主体,其具有窗口,所述窗口用于在所述压合装置位于所述料条上方时显露所述料条中的待键合的晶片;及
触手,所述触手的一端安置于所述压合主体上,所述触手的另一端通过所述窗口与所述料条的上表面接触。
14.根据权利要求13所述的设备,其特征在于,所述触手的另一端与所述的上表面之间接触,但无相互作用力。
15.根据权利要求11所述的设备,其特征在于,所述真空吸附装置包括腔体真空吸附结构,所述腔体真空吸附结构与所述装载装置的下表面接触,所述真...
【专利技术属性】
技术研发人员:周猛,林子翔,
申请(专利权)人:苏州日月新半导体有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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