【技术实现步骤摘要】
一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具
本技术涉及掩膜版制造
，具体是一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具。
技术介绍
掩膜版在制造过程中因为各种原因，会产生各种各样的缺陷。常见的缺陷有铬点、针孔铬突出、铬缺失等，这些缺陷在使用中会造成晶圆的大量报废。所以为保证掩模版在晶圆厂使用过程中的良率，晶圆厂在掩模版出货前都要求对缺陷进行修补。快速有精准的修补工艺是对掩模版质量以及交货期的重要保证。目前在掩模版制造行业中，比较常见的修补工艺主要有两种，一是使用镭射激光产生高温将缺陷气化，从而达到修补的目的。二是使用聚焦离子束辅助以催化气体将缺陷蚀刻。镭射激光修补工艺的特点是修补速度快但修补精度较差。而聚焦离子束则反之，修补精度比较高但修补速度较慢。一般为了满足不同客户不同技术等级的需求，掩模厂都会配备这两种不同的修补工艺，以达到不同的修补目的。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：<...
【技术保护点】
1.一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具，包括六吋底座（1）、五吋板（2）、光罩夹（3）、底座（4）、站脚（5）、第一滑块（6）、压板（7）和第二滑块（8），其特征在于，所述六吋底座（1）内侧安装有五吋板（2），六吋底座（1）外侧安装有底座（4），底座（4）底端安装有站脚（5），底座（4）侧边中部安装有第一滑块（6），第一滑块（6）上端安装有压板（7），压板（7）上端安装有第二滑块（8），五吋板（2）上方设有光罩夹（3），光罩夹（3）连接底座（4）侧边。/n
【技术特征摘要】
1.一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具，包括六吋底座（1）、五吋板（2）、光罩夹（3）、底座（4）、站脚（5）、第一滑块（6）、压板（7）和第二滑块（8），其特征在于，所述六吋底座（1）内侧安装有五吋板（2），六吋底座（1）外侧安装有底座（4），底座（4）底端安装有站脚（5），底座（4）侧边中部安装有第一滑块（6），第一滑块（6）上端安装有压板（7），压板（7）上端安装有第二滑块（8），五吋板（2）上方设有光罩夹（3），光罩夹（3）连接底座（4）侧边。
2.根据权利要求1所述的适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具，其特征在于，所述底座（4）设有两块,底座（4）的形状为U形,每块底座（4）底部设有两个站脚（5）。
3.根据权利要求2所述的适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具，其特征在于，所述第一滑块（6）、压板（7）和第二滑块（8）...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈杰，姜巍，
申请(专利权)人：上海凸版光掩模有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
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