掩模修复设备和掩模修复方法技术

提供了一种掩模修复设备和一种掩模修复方法，所述掩模修复设备可以包括：平台；立体成像单元，测量平台上的掩模的立体图像；控制单元，将立体图像与掩模的正常图像进行比较并产生掩模的缺陷图像；以及激光单元，在控制单元的控制下，将激光束照射到掩模的缺陷部分上。基于缺陷图像，控制单元可以控制激光单元，使得激光束在彼此交叉的第一方向和第二方向上重复地移动的同时顺序地照射到缺陷部分的m个多层上。

Mask repair equipment and method

【技术实现步骤摘要】
掩模修复设备和掩模修复方法于2018年10月24日在韩国知识产权局提交的且专利技术名称为“掩模修复设备和掩模修复方法”的第10-2018-0127506号韩国专利申请通过引用全部包含于此。
本公开涉及一种掩模修复设备和一种掩模修复方法。
技术介绍
因为有机发光二极管(OLED)显示装置提供了优异的亮度和视角特性而不需要如液晶显示(LCD)装置所需的光源单元，所以有机发光二极管(OLED)显示装置作为下一代平板显示装置已经引起关注。由于不需要光源单元，因此OLED显示装置可以制造得比LCD装置轻且薄。此外，OLED显示装置具有其他技术优势(例如，低功耗、高亮度和高响应速度)。OLED显示装置包括多个有机发光器件，有机发光器件中的每个包括阳极、有机发光层和阴极。当空穴和电子分别从阳极和阴极注入到有机发光层中时，在有机发光层中形成激子。当激子经历到基态的转变时，从有机发光器件发射光。制造有机发光器件的工艺包括：将掩模放置在基底上并且通过掩模的开口将有机材料提供到基底上。随着近来技术上的进步，对高分辨率的显示装置的需求不断增加，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模修复设备，所述掩模修复设备包括：/n平台；/n立体成像单元，测量所述平台上的掩模的立体图像；/n控制单元，将所述立体图像与所述掩模的正常图像进行比较以产生所述掩模的缺陷图像；以及/n激光单元，在所述控制单元的控制下，将激光束照射到所述掩模的缺陷部分上，/n其中，基于所述缺陷图像，所述控制单元控制所述激光单元，使得所述激光束在沿彼此交叉的第一方向和第二方向重复地移动的同时顺序地照射到所述缺陷部分的m个多层上，其中m是正整数。/n

【技术特征摘要】
20181024 KR 10-2018-01275061.一种掩模修复设备，所述掩模修复设备包括：
平台；
立体成像单元，测量所述平台上的掩模的立体图像；
控制单元，将所述立体图像与所述掩模的正常图像进行比较以产生所述掩模的缺陷图像；以及
激光单元，在所述控制单元的控制下，将激光束照射到所述掩模的缺陷部分上，
其中，基于所述缺陷图像，所述控制单元控制所述激光单元，使得所述激光束在沿彼此交叉的第一方向和第二方向重复地移动的同时顺序地照射到所述缺陷部分的m个多层上，其中m是正整数。


2.根据权利要求1所述的掩模修复设备，其中，所述激光束的光斑的直径等于或大于0μm并且小于20μm。


3.根据权利要求1所述的掩模修复设备，其中，所述激光束的波长范围为500nm至550nm。


4.根据权利要求1所述的掩模修复设备，其中，
在所述掩模中限定的多个开口中的正常开口中的每个具有在从所述掩模的第一表面到所述掩模的第二表面的方向上增加的宽度，并且
所述第二表面背对所述第一表面并且在所述第一表面上方。


5.根据权利要求4所述的掩模修复设备，其中，
所述立体成像单元位于所述掩模上，以测量当在所述掩模的俯视平面图中观看时被暴露的所述掩模的暴露表面的立...

【专利技术属性】
技术研发人员：文英慜，任星淳，高政佑，李尚玟，李宁哲，黄圭焕，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR