芯片制造设备的监控方法、系统和装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种芯片制造设备的监控方法、系统和装置。其中，该方法包括：上位机确定芯片制造设备当前所执行的任务和任务所处的阶段；上位机确定与任务和阶段对应的工艺参数采集视图，工艺参数采集视图用于指示数据采集参数，数据采集参数包括：采集项目和/或采集频率；上位机向至少一个控制器发送监控指令，其中，监控指令包括数据采集参数；上位机接收至少一个控制器根据数据采集参数采集的反应腔室内的工艺数据，反应腔室为至少一个控制器所控制的芯片制造设备的反应腔室。本发明专利技术解决了芯片制造设备的监控系统将工艺数据在工艺结束后上传系统，导致无法满足监控需求的技术问题。

Monitoring methods, systems and devices of chip manufacturing equipment

【技术实现步骤摘要】
芯片制造设备的监控方法、系统和装置
本专利技术涉及数据监控领域，具体而言，涉及一种芯片制造设备的监控方法、系统和装置。
技术介绍
随着化合物半导体器件(如GaAsMMIC、InPMMIC以及GaN蓝光LED)市场的不断扩大，金属有机物化学气相沉积(Metal-OrganicChemicalVaporDeposition，MOCVD)系统的需求量不断增长。MOCVD是在气相外延(VapourPhaseEpitaxy，VPE)生长的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术。该生长工艺的特点是工艺窗口小、时间长，稳定性要求高，对产品质量的影响参数多，尤其是采用多腔室设计结构的MOCVD设备中，生长工艺的参数实时采集、存储与监控的技术难度和复杂度还会成倍增加。目前的数据采集系统方案，在采用C/S设计架构时，有的将工艺数据批量缓存到下位机，在工艺结束后上传到上位机，这种设计虽然减小了下位机与上位机数据采集任务的通信开销，但数据的可视化监控功能达不到实时控制的要求，不能满足工艺调试任务的监控需求。针对上述现有技术中芯片制造设备的监控系统将工艺数据在工艺结束后上传系统，导致无法满足监控需求的技术问题，目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种芯片制造设备的监控方法、系统和装置，以至少解决芯片制造设备的监控系统将工艺数据在工艺结束后上传系统，导致无法满足监控需求的技术问题。根据本专利技术实施例的一个方面，提供了一种芯片制造设备的监控方法，包括：上位机确定芯片制造设备当前所执行的任务和任务所处的阶段；上位机确定与任务和阶段对应的工艺参数采集视图，工艺参数采集视图用于指示数据采集参数，数据采集参数包括：采集项目和/或采集频率；上位机向至少一个控制器发送监控指令，其中，监控指令包括数据采集参数；上位机接收至少一个控制器根据数据采集参数采集的反应腔室内的工艺数据，反应腔室为至少一个控制器所控制的芯片制造设备的反应腔室。进一步地，在上位机确定与任务和阶段对应的工艺参数采集视图之前，创建工艺参数采集视图，创建工艺参数采集视图包括：根据至少一个控制器所控制的芯片制造设备当前所执行的任务，确定任务中包括的至少一个任务阶段；根据任务确定任务对应的工艺配方，工艺配方用于表示任务对应的一组参数集合；根据工艺配方和至少一个任务阶段创建对应的工艺参数采集视图。进一步地，上位机根据控制器所控制的芯片制造设备当前所执行的任务确定工艺配方，工艺配方用于表示任务对应的一组参数集合；上位机根据任务所处的阶段和工艺配方确定与任务和阶段对应的工艺参数采集视图。进一步地，在根据接收到的采集参数生成工艺参数采集视图之后，上述方法还包括：将工艺参数采集视图保存到数据库或本地。进一步地，在接收至少一个控制器根据数据采集参数采集的反应腔室内的工艺数据之后，显示至少一个控制器上传的工艺数据；显示至少一个控制器上传的工艺数据，包括：根据至少一个控制器上传的工艺数据，绘制对应的参数实时曲线；在预设的图像显示区域，显示参数实时曲线。进一步地，在显示至少一个控制器上传的工艺数据之前，或在显示至少一个控制器上传的工艺数据的过程中，上述方法还包括：调整显示方式，其中，调整显示方式包括：接收隐藏指令，并根据隐藏指令对参数实时曲线进行隐藏；或接收显示指令，并根据显示指令对参数实时曲线进行显示；接收曲线参数调整指令，并根据曲线参数调整指令调整参数实时曲线的曲线参数，其中，曲线参数包括：曲线线性和/或曲线颜色；接收缩放指令，并根据缩放指令调整参数实时曲线的显示比例。根据本专利技术实施例的另一方面，还提供了一种芯片制造设备的监控方法，包括：至少一个控制器接收上位机发送的监控指令，监控指令包括数据采集参数；至少一个控制器将监控指令对应的任务与反应腔室执行的任务进行比对；如果监控指令对应的任务与反应腔室执行的任务相同，则根据数据采集参数采集的反应腔室内的工艺数据；如果监控指令对应的任务与反应腔室执行的任务不同，则禁止根据数据采集参数采集的反应腔室内的工艺数据。根据本专利技术实施例的另一方面，还提供了一种芯片制造设备的监控系统，包括：上位机，包括上述的上位机；至少一个控制器，包括上述的控制器。根据本专利技术实施例的另一方面，还提供了一种芯片制造设备的监控装置，包括：第一确定模块，用于上位机确定芯片制造设备当前所执行的任务和任务所处的阶段；第二确定模块，用于上位机确定与任务和阶段对应的工艺参数采集视图，工艺参数采集视图用于指示数据采集参数，数据采集参数包括：采集项目和/或采集频率；发送模块，用于上位机向至少一个控制器发送监控指令，其中，监控指令包括数据采集参数；接收模块，用于上位机接收至少一个控制器根据数据采集参数采集的反应腔室内的工艺数据，反应腔室为至少一个控制器所控制的芯片制造设备的反应腔室。进一步地，上述装置还包括：创建模块，用于在上位机确定与任务和阶段对应的工艺参数采集视图之前，创建工艺参数采集视图，创建模块包括：第一确定子模块，用于根据至少一个控制器所控制的芯片制造设备当前所执行的任务，确定任务中包括的至少一个任务阶段；第二确定子模块，用于根据任务确定任务对应的工艺配方，工艺配方用于表示任务对应的一组参数集合；创建子模块，用于根据工艺配方和至少一个任务阶段创建对应的工艺参数采集视图。进一步地，第二确定模块包括:第三确定子模块，用于上位机根据控制器所控制的芯片制造设备当前所执行的任务确定工艺配方，工艺配方用于表示任务对应的一组参数集合；第四确定子模块，用于上位机根据任务所处的阶段和工艺配方确定与任务和阶段对应的工艺参数采集视图。进一步地，上述装置还包括：保存模块，用于在根据接收到的采集参数生成工艺参数采集视图之后，将工艺参数采集视图保存到数据库或本地。进一步地，上述装置还包括：显示模块，用于在接收至少一个控制器根据数据采集参数采集的反应腔室内的工艺数据之后，显示至少一个控制器上传的工艺数据；显示模块包括：绘制子模块，用于根据至少一个控制器上传的工艺数据，绘制对应的参数实时曲线；显示子模块，用于在预设的图像显示区域，显示参数实时曲线。进一步地，上述装置还包括：调整模块，用于在显示至少一个控制器上传的工艺数据之前，或在显示至少一个控制器上传的工艺数据的过程中，调整显示方式，调整显示方式包括如下任意一项或多项：接收隐藏指令，并根据隐藏指令对参数实时曲线进行隐藏；或接收显示指令，并根据显示指令对参数实时曲线进行显示。接收曲线参数调整指令，并根据曲线参数调整指令调整参数实时曲线的曲线参数，其中，曲线参数包括：曲线线性和/或曲线颜色；接收缩放指令，并根据缩放指令调整参数实时曲线的显示比例。根据本专利技术实施例的另一方面，还提供了一种存储介质，存储介质包括存储的程序，其中，在程序运行时控制存储介质所在设备执行上述任意一种的芯片制造设备的监控方法。根据本专利技术实施例的另一方面，还提供了一种处理器，处理器用于运行程序，其中，程序运行时执行上述任意一种的芯片制造设备的监控方法。...

【技术保护点】
1.一种芯片制造设备的监控方法，其特征在于，包括：/n上位机确定所述芯片制造设备当前所执行的任务和所述任务所处的阶段；/n所述上位机确定与所述任务和所述阶段对应的工艺参数采集视图，所述工艺参数采集视图用于指示数据采集参数，所述数据采集参数包括：采集项目和/或采集频率；/n所述上位机向至少一个控制器发送监控指令，其中，所述监控指令包括所述数据采集参数；/n所述上位机接收所述至少一个控制器根据所述数据采集参数采集的反应腔室内的工艺数据，所述反应腔室为所述至少一个控制器所控制的芯片制造设备的反应腔室。/n

【技术特征摘要】
1.一种芯片制造设备的监控方法，其特征在于，包括：
上位机确定所述芯片制造设备当前所执行的任务和所述任务所处的阶段；
所述上位机确定与所述任务和所述阶段对应的工艺参数采集视图，所述工艺参数采集视图用于指示数据采集参数，所述数据采集参数包括：采集项目和/或采集频率；
所述上位机向至少一个控制器发送监控指令，其中，所述监控指令包括所述数据采集参数；
所述上位机接收所述至少一个控制器根据所述数据采集参数采集的反应腔室内的工艺数据，所述反应腔室为所述至少一个控制器所控制的芯片制造设备的反应腔室。


2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述上位机确定与所述任务和所述阶段对应的工艺参数采集视图之前，所述方法还包括：
创建所述工艺参数采集视图，创建所述工艺参数采集视图包括：
根据所述至少一个控制器所控制的芯片制造设备当前所执行的任务，确定所述任务中包括的至少一个任务阶段；
根据所述任务确定所述任务对应的工艺配方，所述工艺配方用于表示任务对应的一组参数集合；
根据所述工艺配方和所述至少一个任务阶段创建对应的工艺参数采集视图。


3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述上位机确定与所述任务和所述阶段对应的工艺参数采集视图，包括:
所述上位机根据所述控制器所控制的芯片制造设备当前所执行的任务确定工艺配方，所述工艺配方用于表示所述任务对应的一组参数集合；
所述上位机根据所述任务所处的阶段和所述工艺配方确定与所述任务和所述阶段对应的工艺参数采集视图。


4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在根据接收到的所述采集参数生成所述工艺参数采集视图之后，所述方法还包括：
将所述工艺参数采集视图保存到数据库或本地。


5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在接收所述至少一个控制器根据所述数据采集参数采集的反应腔室内的工艺数据之后，所述方法还包括；显示所述至少一个控制器上传的所述工艺数据；显示所述至少一个控制器上传的所述工艺数据，包括：
根据所述至少一个控制器上传的工艺数据，绘制对应的参数实时曲线；
在预设的...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢凯，段丽霞，
申请(专利权)人：深圳市永盛隆科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44