一种双面自动对位曝光的设备及方法技术

技术编号:24453452 阅读:50 留言:0更新日期:2020-06-10 14:53
本发明专利技术提供一种双面自动对位曝光的设备及方法,其设备在工件上下料区设置有一下晒框组件,在曝光区设置有上晒框组件与另一下晒框组件,上晒框组件包括上晒框与驱动上晒框进行平移调整对位的上对位机构,下晒框组件包括下晒框、工件定位销以及驱动工件定位销进行平移调整对位的下对位机构,其曝光区还设置有驱动上晒框组件升降的升降动力机构、位于上晒框组件上方的上对位CCD视觉组件以及位于下晒框组件下方的下对位CCD视觉组件,其工件上下料区与其工件曝光区之间还设置有驱动两下晒框组件之间进行交替换位的下晒框动力组件。本技术方案,其可有效解决现有双面自动对位曝光的方法中存在对位精度低、生产效率低、菲林使用成本高等技术问题。

A kind of equipment and method of double-sided automatic contraposition exposure

【技术实现步骤摘要】
一种双面自动对位曝光的设备及方法
本专利技术涉及印刷电路板加工
,尤其涉及一种双面自动对位曝光的设备及方法。
技术介绍
目前在印制电路图形转移制程中应用最广泛的双面自动对位又同时曝光的方法是:在上、下料工位,将工件(或PCB)放入由下晒框和上晒框组合成一体的晒框之中(上下晒框玻璃内分别贴附有上下菲林);首先闭合上、下晒框,由机械定位销固定上下菲林的相对位置,再由CCD视觉系统控制安装在下晒框上的自动对位机构调节处于上、下菲林中间的工件来同时完成工件与上、下菲林的双面对位;然后才进入曝光工位完成双面同时曝光。然而,在实际生产过程中,上述方法存在以下主要问题:1.由于上、下菲林固定,只是移动工件进行两面同时对位,导致基准不重合误差大,对位精度低。2.由于晒框开合,取放工件,双面对位都是在上、下料工位完成,造成与曝光工位的生产节奏相差较大,降低了生产效率。3.设备工作时,两套晒框在上、下料和曝光工位交替运行,需要四张菲林,使得菲林使用成本大大增高。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种双面自动对位曝光的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双面自动对位曝光的设备,其特征在于,所述设备包括工件上下料区与工件曝光区,所述工件上下料区设置有一下晒框组件,所述曝光区设置有上下相对设置的上晒框组件与另一下晒框组件,所述上晒框组件包括上晒框与驱动所述上晒框进行平移调整对位的上对位机构,所述下晒框组件包括下晒框、设于所述下晒框上的工件定位销以及驱动所述工件定位销进行平移调整对位的下对位机构,所述曝光区还设置有驱动所述上晒框组件升降的升降动力机构、位于所述上晒框组件上方的上对位CCD视觉组件以及位于所述下晒框组件下方的下对位CCD视觉组件,所述工件上下料区与所述工件曝光区之间还设置有驱动两所述下晒框组件之间进行交替换位的下晒框动力组件。...

【技术特征摘要】
1.一种双面自动对位曝光的设备,其特征在于,所述设备包括工件上下料区与工件曝光区,所述工件上下料区设置有一下晒框组件,所述曝光区设置有上下相对设置的上晒框组件与另一下晒框组件,所述上晒框组件包括上晒框与驱动所述上晒框进行平移调整对位的上对位机构,所述下晒框组件包括下晒框、设于所述下晒框上的工件定位销以及驱动所述工件定位销进行平移调整对位的下对位机构,所述曝光区还设置有驱动所述上晒框组件升降的升降动力机构、位于所述上晒框组件上方的上对位CCD视觉组件以及位于所述下晒框组件下方的下对位CCD视觉组件,所述工件上下料区与所述工件曝光区之间还设置有驱动两所述下晒框组件之间进行交替换位的下晒框动力组件。


2.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述上晒框包括上晒框玻璃、环绕固定所述上晒框玻璃的上晒框边框以及对所述上晒框玻璃的下表面进行抽真空处理的若干第一真空气嘴,所述若干第一真空气嘴固设在所述上晒框玻璃上,所述下晒框包括下晒框玻璃、环绕固定所述下晒框玻璃的下晒框边框以及对所述下晒框玻璃的上表面进行抽真空处理的若干第二真空气嘴,所述若干第二真空气嘴固设在所述下晒框玻璃上。


3.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述工件上下料区还设置有用于将待曝光工件由上一工位转移到所述下晒框组件上的上料机械手以及用于将已曝光工件由所述下晒框组件上转移到下一工位的下料机械手;所述上料机械手包括上料吸附抓手、驱动所述上料吸附抓手升降的上料升降机构以及驱动所述上料吸附抓手在所述上一工位与所述下晒框组件之间平移的上料平移机构;所述下料机械手包括下料吸附抓手、驱动所述下料吸附抓手升降的下料升降动力电机以及驱动所述下料吸附抓手在所述下晒框组件与所述下一工位之间平移的下料平移机构。


4.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述工件上下料区与所述工件曝光区之间的相接处上方设置有下菲林清洁滚筒,以对所述下晒框组件上的下菲林进行滚涂清洁。


5.如权利要求2所述的设备,其特征在于,一所述下晒框组件的所述下晒框边框的一侧还设置有上菲林清洁滚筒,以对所述上晒框组件上的上菲林进行滚涂清洁。


6.一种双面自动对位曝光的设备,其特征在于,所述设备包括工件上下料区与工件曝光区,所述工件上下料区设置有一下晒框组件,所述曝光区设置有上下相对设置的上晒框组件与另一下晒框组件,所述上晒框组件包括上晒框与驱动所述上晒框进行平移调整对位的上对位机构,所述下晒框组件包括下晒框以及设于所述下晒框上的工件定位销,所述工件上下料区还设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员:戴童庆代毓平
申请(专利权)人:深圳市大川光电设备有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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