温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种双面自动对位曝光的设备及方法，其设备在工件上下料区设置有一下晒框组件，在曝光区设置有上晒框组件与另一下晒框组件，上晒框组件包括上晒框与驱动上晒框进行平移调整对位的上对位机构，下晒框组件包括下晒框、工件定位销以及驱动工件定位销进...
该专利属于深圳市大川光电设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市大川光电设备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。