一种自动曝光机制造技术

本发明专利技术提供一种自动曝光机，其包括用于对待曝光基板进行对位操作的第一气浮式对位装置、用于对待曝光基板进行第一表面的曝光操作的第一气浮式曝光装置、用于对待曝光基板进行板面翻转操作的气浮式翻转装置、用于对翻转后的待曝光基板进行再次对位操作的第二气浮式对位装置、用于对待曝光基板进行第二表面的曝光操作的第二气浮式曝光装置以及用于对曝光完成的待曝光基板进行出料操作的气浮式出料装置。本发明专利技术的自动曝光机，其整个自动化曝光流程单向流动，没有等待时间，可有效提高生产效率，同时，待曝光基板在经过洁净处理的气垫上全程处于无表面接触摩擦的状态，可实现无摩擦的运动定位和高效传送，以及避免了接触摩擦造成的产品质量问题。

【技术实现步骤摘要】
一种自动曝光机
本专利技术涉及印刷电路板在图形影像转移过程中的自动化
，尤其涉及一种自动曝光机。
技术介绍
目前，在印制电路图形的自动曝光机中，都是通过机械滚轮摩擦传送工件、机械手吸盘摄取工件表面来实现工件的定位、交替和工位之间的自动衔接。存在机械结构复杂，传送链长；占地面积大；机械动作循环周期长，生产效率低等问题。特别是近年来印制电路的高密度精细化，使在生产过程中与工件表面接触造成的静电、污染、划伤等成为影响产品质量的突出难题。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种自动曝光机，其整个自动化曝光流程单向流动，没有等待时间，可有效提高生产效率，同时，待曝光基板在经过洁净处理的气垫上全程处于无表面接触摩擦的状态，可实现无摩擦的运动定位和高效传送，以及避免了接触摩擦造成的产品质量问题。为实现上述目的，本专利技术提出一种自动曝光机，所述自动曝光机包括：第一气浮式对位装置，用于通过气浮式结构对待曝光基板进行对位操作；第一气浮式曝光装置，用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行第一表面的曝光操作；气浮式翻转装置，用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行板面翻转操作；第二气浮式对位装置，用于通过气浮式结构对翻转后的所述待曝光基板进行再次对位操作；第二气浮式曝光装置，用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行第二表面的曝光操作；气浮式出料装置，用于通过气浮式结构对曝光完成的所述待曝光基板进行出料操作；所述第一气浮式对位装置、所述第一气浮式曝光装置、所述气浮式翻转装置、所述第二气浮式对位装置、所述第二气浮式曝光装置以及所述气浮式出料装置依次对接设置。可选地，所述第一气浮式对位装置、所述第一气浮式曝光装置、所述气浮式翻转装置、所述第二气浮式对位装置、所述第二气浮式曝光装置以及所述气浮式出料装置呈一字排列设置。可选地，所述第一气浮式对位装置、所述第一气浮式曝光装置、所述气浮式翻转装置、所述第二气浮式对位装置、所述第二气浮式曝光装置以及所述气浮式出料装置呈两排设置，使得所述第一气浮式对位装置与所述气浮式出料装置相邻设置、所述第一气浮式曝光装置与所述第二气浮式曝光装置相邻设置、所述气浮式翻转装置与所述第二气浮式对位装置相邻设置。可选地，所述第一气浮式对位装置及所述第二气浮式对位装置分别包括气浮对位平台与移载对位装置，所述气浮对位平台包括气浮对位平面，所述移载对位装置包括与待曝光基板的大小相适配的基板定位框以及驱动所述待曝光基板由所述气浮对位平面的上方平移到所述第一气浮式曝光装置的上方的平移运动机构。可选地，所述基板定位框包括对位挡板、第一活动挡板、两间隔设置的第二活动挡板、第一驱动机构以及两第二驱动机构；所述对位挡板的长度与所述待曝光基板的长度或宽度相适配；所述第一活动挡板与所述对位挡板相互平行设置；所述第一驱动机构与所述第一活动挡板驱动连接，以驱动所述第一活动挡板远离或靠近所述对位挡板；每一所述第二活动挡板分别与所述对位挡板相互垂直设置；两所述第二驱动机构与两所述第二活动挡板一一对应驱动连接，以驱动相应的两所述第二活动挡板相向或相离远动，使得所述对位挡板、所述第一活动挡板、两所述第二活动挡板活动围成与所述待曝光基板的大小相适配的所述基板定位框。可选地，所述第一气浮式曝光装置及所述第二气浮式曝光装置分别包括气浮曝光平台、底片框、对位相机以及曝光光源，所述气浮曝光平台包括气浮吸附一体曝光平面，所述底片框、所述对位相机以及所述曝光光源依次设于所述气浮吸附一体曝光平面的上方。可选地，所述气浮式翻转装置包括第一气浮翻转平台、第二气浮翻转平台以及翻转机构；所述第一气浮翻转平台包括第一气浮翻转平面，所述第二气浮翻转平台包括第二气浮翻转平面，所述第一气浮翻转平面与所述第二气浮翻转平面上下相对间隔设置，使得所述待曝光基板悬浮于所述第一气浮翻转平面与所述第二气浮翻转平面之间；所述第一气浮翻转平台与所述第二气浮翻转平台之间通过若干挡板结构连接固定，所述翻转机构驱动连接所述第二气浮翻转平台的底部，以实现所述第一气浮翻转平台与所述第二气浮翻转平台的共同翻转。可选地，若干所述挡板结构在所述第一气浮翻转平台与所述第二气浮翻转平台之间形成进料口与出料口，所述进料口的进料方向与所述出料口的出料方向相同或相互垂直设置。可选地，所述气浮式翻转装置还包括推板机构，所述推板机构包括一在所述第一气浮平面与所述第二气浮平面之间自由移动的推板以及驱动所述推板工作的推板电机。可选地，所述气浮式出料装置包括升降式气浮出料平台以及出料滚轮机构，所述升降式气浮出料平台包括出料气浮平面以及驱动所述出料气浮平面升降的升降驱动电机，所述出料气浮平面镂空设置形成若干均匀分布的滚轮轴安装位，所述出料滚轮机构包括若干出料滚轮轴以及驱动所述若干出料滚轮轴转动的滚轮轴驱动电机，所述若干出料滚轮轴一一对应安置于相应的所述滚轮轴安装位中。本专利技术提供的自动曝光机，其包括依次对接设置的第一气浮式对位装置、第一气浮式曝光装置、气浮式翻转装置、第二气浮式对位装置、第二气浮式曝光装置以及气浮式出料装置，由于每一装置均采用气浮式结构将待曝光基板悬浮在经过洁净处理的气垫上进行高效传送，使待曝光基板在无表面接触摩擦的状态下，靠推动待曝光基板侧边进行工件的对位、交替曝光和翻面传送操作。可见，本自动曝光机，其整个自动化曝光流程单向流动，没有等待时间，可有效提高生产效率，同时，待曝光基板在经过洁净处理的气垫上全程处于无表面接触摩擦的状态，可实现无摩擦的运动定位和高效传送，以及避免了接触摩擦造成的产品质量问题。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例一自动曝光机的结构示意图。图2为图1所示自动曝光机的结构示意简图。图3为图1所示自动曝光机的气浮式翻转装置的结构示意简图。图4为本专利技术实施例二自动曝光机的结构示意简图。具体实施方式下面结合附图对本专利技术的具体实施方式作进一步说明。在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本专利技术，但并不构成对本专利技术的限定。此外，下面所描述的本专利技术各个实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。实施例一如图1及图2所示，本实施例提供一种自动曝光机100，该自动曝光机100包括第一气浮式对位装置110、第一气浮式曝光装置120、气浮式翻转装置130、第二气浮式对位装置140、第二气浮式曝光装置150以及气浮式出料装置160。其中，第一气浮式对位装置110主要用于通过气浮式结构对待曝光基板2进行对位操作。第一气浮式曝光装置120主要用于通过气浮式结构对待曝光基板2进行第一表面的曝光操作。气浮式翻转装置130主要用于通过气浮式结构对待曝光基板2进行板面翻转操作。第二气浮式对位装置140主要用于通过气浮式结构对翻转后的待曝光基板2进行再次对位操作。第二气浮式曝光装置150主要用于通过气浮式结构对待曝光基板2进行第二表面的曝光操作。气浮式出料装置160主要用于通过气浮式结构对曝光完成的待曝光基板2进行出料操作。第一气浮式对位装置1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种自动曝光机，其特征在于，所述自动曝光机包括：第一气浮式对位装置，用于通过气浮式结构对待曝光基板进行对位操作；第一气浮式曝光装置，用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行第一表面的曝光操作；气浮式翻转装置，用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行板面翻转操作；第二气浮式对位装置，用于通过气浮式结构对翻转后的所述待曝光基板进行再次对位操作；第二气浮式曝光装置，用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行第二表面的曝光操作；气浮式出料装置，用于通过气浮式结构对曝光完成的所述待曝光基板进行出料操作；所述第一气浮式对位装置、所述第一气浮式曝光装置、所述气浮式翻转装置、所述第二气浮式对位装置、所述第二气浮式曝光装置以及所述气浮式出料装置依次对接设置。

【技术特征摘要】
1.一种自动曝光机，其特征在于，所述自动曝光机包括：第一气浮式对位装置，用于通过气浮式结构对待曝光基板进行对位操作；第一气浮式曝光装置，用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行第一表面的曝光操作；气浮式翻转装置，用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行板面翻转操作；第二气浮式对位装置，用于通过气浮式结构对翻转后的所述待曝光基板进行再次对位操作；第二气浮式曝光装置，用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行第二表面的曝光操作；气浮式出料装置，用于通过气浮式结构对曝光完成的所述待曝光基板进行出料操作；所述第一气浮式对位装置、所述第一气浮式曝光装置、所述气浮式翻转装置、所述第二气浮式对位装置、所述第二气浮式曝光装置以及所述气浮式出料装置依次对接设置。2.如权利要求1所述的自动曝光机，其特征在于，所述第一气浮式对位装置、所述第一气浮式曝光装置、所述气浮式翻转装置、所述第二气浮式对位装置、所述第二气浮式曝光装置以及所述气浮式出料装置呈一字排列设置。3.如权利要求1所述的自动曝光机，其特征在于，所述第一气浮式对位装置、所述第一气浮式曝光装置、所述气浮式翻转装置、所述第二气浮式对位装置、所述第二气浮式曝光装置以及所述气浮式出料装置呈两排设置，使得所述第一气浮式对位装置与所述气浮式出料装置相邻设置、所述第一气浮式曝光装置与所述第二气浮式曝光装置相邻设置、所述气浮式翻转装置与所述第二气浮式对位装置相邻设置。4.如权利要求1-3任一所述的自动曝光机，其特征在于，所述第一气浮式对位装置及所述第二气浮式对位装置分别包括气浮对位平台与移载对位装置，所述气浮对位平台包括气浮对位平面，所述移载对位装置包括与待曝光基板的大小相适配的基板定位框以及驱动所述待曝光基板由所述气浮对位平面的上方平移到所述第一气浮式曝光装置的上方的平移运动机构。5.如权利要求4所述的自动曝光机，其特征在于，所述基板定位框包括对位挡板、第一活动挡板、两间隔设置的第二活动挡板、第一驱动机构以及两第二驱动机构；所述对位挡板的长度与所述待曝光基板的长度或宽度相适配；所述第一活动挡板与所述对位挡板相互平行设置；所述第一驱动机构与所述第一活动挡板驱动连接，以驱动所述第一活动挡板远离或靠...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴童庆，刘虎，袁璧辉，
申请(专利权)人：深圳市大川光电设备有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44