一种双台面直写曝光机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种双台面直写曝光机，包括扫描平台、用于设置曝光机构的曝光横梁、用于设置对准机构的对准横梁，所述曝光横梁、对准横梁从左向右依次设置，所述扫描平台设置在位于曝光横梁和对准横梁下方的运动轨道上，所述曝光横梁用于设置曝光机构的固定面与对准横梁用于设置对准机构的固定面在扫描方向上相对设置。本实用新型专利技术能够有利于对准和曝光的相对坐标稳定性、有利于曝光产能、有利于曝光机构和对准机构的装配。

Double table top direct writing exposure machine

The utility model discloses a double mesa lithography machine, including scanning platform for exposure beam, set the exposure mechanism for beam alignment setting alignment mechanism, the exposure beam and beam alignment are sequentially arranged from left to right, the scanning platform set in motion in orbit exposure under the beam and beam alignment and the exposure beam for fixed surface set exposure mechanism and alignment beam for fixing is arranged relative to the alignment mechanism in the scanning direction. The utility model can be beneficial to the relative coordinate stability of alignment and exposure, to the exposure capacity, to the exposure mechanism and to the alignment mechanism assembly.

【技术实现步骤摘要】
一种双台面直写曝光机
本技术属于双台面直写式曝光
，具体涉及一种双台面直写曝光机。
技术介绍
目前双台面直写光刻装置的曝光系统和对准系统在布局上，中间都隔有一根横梁，导致曝光系统中心和对准系统中心在扫描方向上的距离一般都相对较大，且曝光系统和对准横梁的空间一般都相对较小；这样，由于距离大，不利于对准和曝光的相对坐标稳定性；对准后，移动到曝光位置，空行程较大，不利于产能；装配曝光系统的空间小，不利于装配等。
技术实现思路
有鉴于此，本技术的主要目的在于提供一种双台面直写曝光机。为达到上述目的，本技术的技术方案是这样实现的：本技术实施例提供一种双台面直写曝光机，包括扫描平台、用于设置曝光机构的曝光横梁、用于设置对准机构的对准横梁，所述曝光横梁、对准横梁从左向右依次设置，所述扫描平台设置在位于曝光横梁和对准横梁下方的运动轨道上，所述曝光横梁用于设置曝光机构的固定面与对准横梁用于设置对准机构的固定面在扫描方向上相对设置。上述方案中，所述曝光横梁相对于对准横梁反向布局设置。上述方案中，所述曝光机构和对准机构错位设置。上述方案中，所述曝光横梁、对准横梁均通过固定件设置在基面上方，所述运动轨道设置在基面上方并且位于固定件之间。与现有技术相比，本技术的有益效果：本技术能够有利于对准和曝光的相对坐标稳定性、有利于曝光产能、有利于曝光机构和对准机构的装配、能够减少对准后移动到曝光位置的空行程。附图说明图1为本技术实施例提供一种双台面直写曝光机的结构示意图；图2为图1的俯视图。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。本技术实施例提供一种双台面直写曝光机，如图1、2所示，包括扫描平台1、用于设置曝光机构2的曝光横梁4、用于设置对准机构3的对准横梁5，所述曝光横梁4、对准横梁5从左向右依次设置，所述扫描平台1设置在位于曝光横梁4和对准横梁5下方的运动轨道6上；所述曝光横梁4用于设置曝光机构2的固定面与对准横梁5用于设置对准机构3的固定面在扫描方向上相对设置，通过这样的设置，相对于现有技术，所述曝光机构2与对准机构3之间的中心距离减小，有利于对准和曝光的相对坐标稳定性。进一步地，由于所述曝光横梁4用于设置曝光机构2的固定面与对准横梁5用于设置对准机构3的固定面在扫描方向上相对设置，所述曝光横梁4与对准横梁5之间间隙的间距较大，这样，所述曝光机构2与对准机构3安装在该间隙内，在装配时，能够将曝光机构2和对准机构3错位安装，即安装某一个机构时，将另一个机构移至另一侧，利用空间进行装配作业。所述曝光横梁4相对于对准横梁5反向布局设置，这样，所述曝光机构2与对准机构3在两根横梁之间，从而使得所述曝光机构2与对准机构3在行程中互不干扰，两者之间的中心距离能够尽量减小，有利于对准和曝光的相对坐标稳定性。所述曝光机构2与对准机构3之间的中心距离较小，使得所述扫描平台1在对准机构3下方对准之后，再沿运动轨道6移动到曝光机构2进行曝光的空行程减少，优化了空行程较大的问题。所述曝光机构2和对准机构3错位设置。所述扫描平台1、曝光横梁4、对准横梁5均通过固定件设置在基面上方，所述运动轨道6设置在基面上方并且位于固定件之间。具体地，所述曝光横梁4、对准横梁5的左右两端均通过固定件固定在基面上方，所述运动轨道6位于曝光横梁4两端的两个固定件之间间隙、以及对准横梁5两端的两个固定件之间间隙，使得所述扫描平台1沿运行轨道顺畅地进行运动。所述基面为支撑座或者支架的台面，用于确保装置的稳定。以上所述，仅为本技术的较佳实施例而已，并非用于限定本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双台面直写曝光机，其特征在于，包括扫描平台、用于设置曝光机构的曝光横梁、用于设置对准机构的对准横梁，所述曝光横梁、对准横梁从左向右依次设置，所述扫描平台设置在位于曝光横梁和对准横梁下方的运动轨道上，所述曝光横梁用于设置曝光机构的固定面与对准横梁用于设置对准机构的固定面在扫描方向上相对设置。

【技术特征摘要】
1.一种双台面直写曝光机，其特征在于，包括扫描平台、用于设置曝光机构的曝光横梁、用于设置对准机构的对准横梁，所述曝光横梁、对准横梁从左向右依次设置，所述扫描平台设置在位于曝光横梁和对准横梁下方的运动轨道上，所述曝光横梁用于设置曝光机构的固定面与对准横梁用于设置对准机构的固定面在扫描方向上相对设置。2.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡志国，王友车，胥涛朋，朱亮，
申请(专利权)人：苏州微影激光技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32