光源装置、照明装置、曝光装置和用于制造物品的方法制造方法及图纸

本申请涉及光源装置、照明装置、曝光装置和用于制造物品的方法。本发明专利技术针对通过使用包括发光二极管(LED)阵列的光源装置将照射目标表面上的光强度分布调整为期望的分布。一种光源装置包括：LED阵列，包括多个LED芯片；以及控制器，被配置为控制该多个LED芯片。从多个LED芯片中的每一个获取的光强度分布在预定表面上被叠加在以彼此不同的方向取向的光强度分布上。控制器控制多个LED芯片中的至少一个的输出，从而改变多个LED芯片在预定表面上形成的光强度分布。

Light source apparatus, lighting apparatus, exposure apparatus and method for making articles

【技术实现步骤摘要】
光源装置、照明装置、曝光装置和用于制造物品的方法
本公开涉及光源装置、照明装置、曝光装置和用于制造物品的方法。
技术介绍
曝光装置用在制造半导体器件或平板显示器(FPD)的处理中。在光刻处理中，曝光装置经由投影光学系统将原版(掩模版或掩模)的图案转印到感光基板(例如，其表面上形成有抗蚀剂层的晶片或玻璃板)上。例如，汞灯已经被用作投影曝光装置的光源，但是，近年来，代替汞灯，已经期望节能发光二极管(LED)来替代它。LED还具有长寿命的特征，因为在向控制光发射的基板电路施加电流之后能够在短时间内稳定光的输出，并且与汞灯不同，它不必一直持续光发射。但是，与汞灯的光输出相比，每个LED的光输出非常小。因此，当采用LED代替使用汞灯的光源时，需要通过使用包括排列在基板上的多个LED的LED阵列来增加总光输出。日本专利申请特开No.2018-4868讨论了一种技术，该技术用于通过使用与排列在基板上的多个LED中的每一个对应的道威棱镜(Doveprism)在照射目标表面上实现均匀的光强度分布。另外，日本专利申请特开No.2018-22本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光源装置，其特征在于，包括：/n发光二极管LED阵列，所述LED阵列包括多个LED芯片；以及/n控制器，所述控制器被配置为控制所述多个LED芯片，/n其中从所述多个LED芯片获取的光强度分布在预定表面上被叠加在不同的光强度分布上，以及/n其中所述控制器控制所述多个LED芯片中的至少一个的输出，从而改变所述多个LED芯片在所述预定表面上形成的光强度分布。/n

【技术特征摘要】
20181130 JP 2018-2254861.一种光源装置，其特征在于，包括：
发光二极管LED阵列，所述LED阵列包括多个LED芯片；以及
控制器，所述控制器被配置为控制所述多个LED芯片，
其中从所述多个LED芯片获取的光强度分布在预定表面上被叠加在不同的光强度分布上，以及
其中所述控制器控制所述多个LED芯片中的至少一个的输出，从而改变所述多个LED芯片在所述预定表面上形成的光强度分布。


2.如权利要求1所述的光源装置，
其中所述LED阵列包括多个子单元，每个子单元包括以相同取向布置在基板上的多个LED芯片，以及
其中包括在第一子单元中的LED芯片与包括在不同于第一子单元的第二子单元中的LED芯片以彼此不同的角度取向。


3.如权利要求2所述的光源装置，其中所述控制器使得在包括以彼此不同的角度取向的LED芯片的所述多个子单元之间产生不同的输出。


4.如权利要求3所述的光源装置，其中所述控制器通过共同控制每个子单元中包括的多个LED芯片的输出，来使得在所述多个子单元之间从LED芯片产生不同的输出。


5.如权利要求1所述的光源装置，其中，通过旋转来自所述多个LED芯片的光束来在所述预定表面上形成彼此不同的光强度分布。


6.如权利要求1所述的光源装置，还包括透镜阵列，所述透镜阵列配备有与所述多个LED芯片中的每一个对应的每个透镜。


7.一种照明装置，其特征在于，包括：
光源装置，所述光源装置包括LED阵列和控制器，所述LED阵列包括多个LED芯片，所述控制器被配置为控制所述多个LED芯片；
聚光透镜；以及
光学积分器，
其中从所述多个LED芯片获取的光强度分布经由所述聚光透镜在所述光学积分器的入射平面上被叠加在不同的光强度分布上，以及
其中所述控制器控制所述多个LED芯片中的至少一个的输出，从而改变所述多个LED芯片在所述入射平面上形成的光强度分布。


8.如权利要求7所述的照明装置，其中所述光学积分器...

【专利技术属性】
技术研发人员：大阪昇，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP