光刻设备、确定方法和制造物品的方法技术

本申请涉及光刻设备、确定方法和制造物品的方法，提供了一种能够在较短时间段中检测原版的异常保持的光刻设备。该光刻设备被配置为通过使用原版在基板上形成图案，并且该光刻设备包括：被配置为保持其上形成有第一标记的原版的保持单元；被配置为拾取第一标记的图像的测量单元；和控制单元，该控制单元被配置为：在测量单元的焦点位置被调整到基准位置的情况下使得测量单元获得在由保持单元保持的原版上的第一标记的图像；并且在作为第一标记的图像的对比度的第一对比度相对于基准对比度的变化超出可允许范围时，确定原版正在被保持单元异常保持。

Lithography equipment, method of determination and method of making articles

【技术实现步骤摘要】
光刻设备、确定方法和制造物品的方法
技术介绍
本公开涉及光刻设备、确定方法和制造物品的方法。
在半导体器件、微机电系统(MEMS)、平板显示器或其他此类物品的制造中，作为光刻设备的示例的曝光设备将绘制在原版(母版(reticle)或掩模(mask))上的图案转印到基板(晶圆(wafer)或面板)上。由于要在基板上形成的图案变得越来越细，因此需要以更高的精度对准要转印到基板上的图案。导致对准精度降低的原因包括夹在原版和保持该原版的原版台之间的异物。当原版被保持在原版台上而在原版和原版台之间夹有异物时，要转印到基板上的图案可能会错位。鉴于此，需要曝光设备包括能够检测到原版已经在由于所夹的异物或其他此类原因引起的异常状态下被保持在原版台上的装置。在日本专利申请公开No.2004-186313中公开了一种曝光设备，该曝光设备被配置为通过使用测量单元测量原版的高度来确定异物的存在或不存在。在日本专利申请公开No.2004-186313中，原版的高度是从在改变测量单元的焦距的同时反复执行测量时所呈现的对比度变化中获得的。在日本专利申本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种被配置为通过使用原版在基板上形成图案的光刻设备，其特征在于，所述光刻设备包括：/n保持单元，所述保持单元被配置为保持所述原版，第一标记形成于所述原版上；/n测量单元，所述测量单元被配置为拾取所述第一标记的图像；和/n控制单元，所述控制单元被配置为：/n在所述测量单元的焦点位置被调整到基准位置的情况下，使得所述测量单元获得由所述保持单元保持的原版上的所述第一标记的图像；以及/n在作为所述第一标记的图像的对比度的第一对比度相对于基准对比度的变化超出可允许范围时，确定所述原版正在由所述保持单元异常保持。/n

【技术特征摘要】
20181130 JP 2018-225476;20190726 JP 2019-1377851.一种被配置为通过使用原版在基板上形成图案的光刻设备，其特征在于，所述光刻设备包括：
保持单元，所述保持单元被配置为保持所述原版，第一标记形成于所述原版上；
测量单元，所述测量单元被配置为拾取所述第一标记的图像；和
控制单元，所述控制单元被配置为：
在所述测量单元的焦点位置被调整到基准位置的情况下，使得所述测量单元获得由所述保持单元保持的原版上的所述第一标记的图像；以及
在作为所述第一标记的图像的对比度的第一对比度相对于基准对比度的变化超出可允许范围时，确定所述原版正在由所述保持单元异常保持。


2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述第一对比度的变化包括所述第一对比度和所述基准对比度之间的比率和差值中的一者。


3.根据权利要求1所述的光刻设备，
其中，所述保持单元包括第二标记，
其中，所述测量单元被配置为拾取所述第二标记的图像，以及
其中，所述基准对比度是第二对比度，所述第二对比度是在所述测量单元的焦点位置被调整到所述基准位置的情况下由所述测量单元获得的所述第二标记的图像的对比度。


4.根据权利要求3所述的光刻设备，
其中，所述保持单元被配置为保持所述原版，以使得从所述第一标记到所述测量单元的光的光路和从所述第二标记到所述测量单元的光的光路相互重叠，以及
其中，所述基准位置位于所述第一标记和所述第二标记之间。


5.根据权利要求3所述的光刻设备，其中，所述基准位置是所述第一对比度和所述第二对比度彼此相等的位置。


6.根据权利要求3所述的光刻设备，其中，所述第一标记和所述第二标记具有相同的形状。


7.根据权利要求3所述的光刻设备，其中，所述控制单元被配置为：在所述第一对比度相对于所述第二对比度的所述变化超出所述可允许范围时确定所述原版正在被所述保持单元异常保持，所述第一对比度已经基于指示所述测量单元的焦点位置和所述第一对比度之间的关系的第一对比度信息被校正，所述第二对比度已经基于指示所述测量单元的焦点位置和所述第二对比度之间的关系的第二对比度信息被校正。


8.根据权利要求1所述的光刻设备，
其中，所述控制单元被配置为通过使得所述测量单元事先测量所述第一标记来获得所述基准位置，以及
其中，所述基准对比度是在获得所述基准位置时获得的所述第一标记的图像的对比度。


9.一种被配置为通过使用原版在基板上形成图案的光刻设备，其特征在于，所述光刻设备包括：
保持单元，所述保持单元被配置为保持所述原版，第一标记形成于所述原版上。
投影光学系统，所述投影光学系统被配置为投影所述第一标记的图像；
可移动的台，第二标记形成于所述台上；
测量单元，所述测量单元被配置为测量穿过所述第二标记透射的光的光量；和
控制单元，所述控制单元被配置为：
使得所述测量单元在所述第二标记被所述台定位在基准位置的情况下测量穿过所述第二标记透射的光的光量，所述第一标记的图像已经被投影在所述第二标记上；以及
在所测量的光量相对于基准光量的变化超出可允许范围时，确定所述原版正在被所述保持单元异常保持。


10.根据权利要求9所述的光刻设备，其中，所述光量的变化包括所测量的光量和所述基准光量之间的比率和差值中的一者。


11.根据权利要求9所述的光刻设备，
其中，所述基准位置是焦点位置，所述第一标记的图像在所述焦点位置处形成，以及
其中，所述基准光量是由...

【专利技术属性】
技术研发人员：荒原幸士郎，田中一将，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP