清洁装置及清洁方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种清洁装置及清洁方法，清洁装置包括静电除尘器，静电除尘器包括集尘极及电晕极；驱动部件，驱动部件至少包括两个伸缩单元及一个旋转单元；伸缩单元与静电除尘器相连接，通过伸缩单元控制静电除尘器的位移；旋转单元与伸缩单元相连接，位于伸缩单元之间，通过旋转单元控制伸缩单元的方向。本发明专利技术的清洁装置及清洁方法，通过清洁装置中的驱动部件调试静电除尘器的位置，提高操作便捷性；通过静电除尘器，进行静电除尘；从而在半导体设备中可有效清洁悬浮于空气中的颗粒、清洁耗时短、清洁效率高、清洁效果好、在清洁过程中不会引入外来颗粒，因此可节约资源及提高产品的良率。

Cleaning device and cleaning method

【技术实现步骤摘要】
清洁装置及清洁方法
本专利技术属于半导体集成电路领域，涉及一种清洁装置及清洁方法。
技术介绍
在半导体集成电路领域中，光刻工艺一直被认为是集成电路制造中最关键的步骤，其在整个工艺过程中需要被多次使用，对产品的质量有着重要的影响。光刻工艺即利用光学与化学反应和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。在对晶圆表面进行涂胶的涂胶机中以及在对晶圆的表面所涂覆的光刻胶进行曝光的光刻机中，通常会具有反应副产物，该部分反应副产物虽然大部分被移出工艺腔室，但仍会有少数反应副产物残留在工艺腔室中，从而影响晶圆的质量，尤其是残留在用于放置晶圆的卡盘上。因此为确保产品质量，工作人员常常需采用相应的工具和化学药品对工艺腔室进行定期的维护保养，如采用无尘布以擦拭的方式对卡盘及工艺腔室进行维护保养。但采用无尘布进行擦拭的方式会造成清洁耗时长、清洁效率低、清洁效果差、无法清洁悬浮于空气中的颗粒、清洁过程中可能会引入外来颗粒的问题，因此会造成资源的浪费以及对产品的良率产生潜在的危害。因此，有必要提供一种清洁装置及清洁方法，以解决清洁过程中造成的资源的浪费以及对产品的良率产生潜在的危害的问题。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种清洁装置及清洁方法，用于解决现有技术中，在对半导体设备进行清洁时所产生的上述一系列的清洁问题。为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种清洁装置，所述清洁装置包括：静电除尘器，所述静电除尘器包括集尘极及电晕极；驱动部件，所述驱动部件至少包括两个伸缩单元及一个旋转单元；所述伸缩单元与所述静电除尘器相连接，通过所述伸缩单元控制所述静电除尘器的位移；所述旋转单元与所述伸缩单元相连接，位于所述伸缩单元之间，通过所述旋转单元控制所述伸缩单元的方向。可选地，所述静电除尘器包括单层静电除尘器及多层静电除尘器中的一种或组合。可选地，所述集尘极包括金属网板，所述静电除尘器还包括沉积板，所述沉积板设置于所述金属网板下方。可选地，所述电晕极包括圆形线电晕极、星形线电晕极、锯齿线电晕极及芒刺线电晕极中的一种或组合。可选地，所述清洁装置还包括高压供电设备，所述高压供电设备用于给所述静电除尘器供电，所述高压供电设备的输出电压范围包括50kV～120kV。可选地，所述伸缩单元的伸缩范围包括0mm～1000mm。可选地，所述伸缩单元包括伸缩杆，所述伸缩杆的直径范围包括20mm～100mm。可选地，所述清洁装置还包括静电除尘箱体，所述静电除尘箱体包括长度范围为600mm～1000mm，宽度范围为200mm～350mm，高度范围为350mm～600mm的矩形箱体。可选地，上述清洁装置包括应用于半导体设备中的清洁装置，其中，所述半导体设备包括光刻机或涂胶机。本专利技术还提供一种清洁方法，包括以下步骤：提供上述清洁装置，并将所述清洁装置中的所述静电除尘器处于闲置位置；通过所述清洁装置中的所述驱动部件调试所述静电除尘器的位置，使所述静电除尘器处于工作位置；通过所述静电除尘器，进行清洁；通过所述驱动部件将所述静电除尘器恢复至所述闲置位置。如上所述，本专利技术的清洁装置及清洁方法，通过清洁装置中的驱动部件调试静电除尘器的位置，提高操作便捷性；通过静电除尘器，进行静电除尘；从而在半导体设备中可有效清洁悬浮于空气中的颗粒、清洁耗时短、清洁效率高、清洁效果好、在清洁过程中不会引入外来颗粒，因此可节约资源及提高产品的良率。附图说明图1显示为实施例一中的清洁装置的结构示意图。图2显示为图1中的静电除尘器沿A-A’的剖面结构示意图。图3显示为实施例二中的清洁装置的剖面结构示意图。图4显示为图3中的静电除尘器沿B-B’的剖面结构示意图。图5显示为实施例三中的清洁方法的工艺流程图。元件标号说明100、110静电除尘器101、111集尘极102、112电晕极103沉积板300、310壳体200、210驱动部件201、202、211、212伸缩单元203、213旋转单元S1～S4步骤具体实施方式以下通过特定的具体实例说明本专利技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其他优点与功效。本专利技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本专利技术的精神下进行各种修饰或改变。请参阅图1～图5。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本专利技术的基本构想，遂图式中仅显示与本专利技术中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。实施例一如图1～图2，本实施例提供一种清洁装置，所述清洁装置包括：静电除尘器100及驱动部件200；所述静电除尘器100包括集尘极101及电晕极102；所述驱动部件200包括两个伸缩单元201、202及一个旋转单元203；所述伸缩单元201与所述静电除尘器100相连接，通过所述伸缩单元201、202控制所述静电除尘器100的位移；所述旋转单元203与所述伸缩单元201、202相连接，位于所述伸缩单元201、202之间，通过所述旋转单元203控制所述伸缩单元201的方向。本实施例中，通过所述清洁装置中的所述驱动部件200调试所述静电除尘器100的位置，提高操作便捷性；通过静电除尘器，进行静电除尘，清洁耗时短、清洁效率高、清洁效果好，且在清洁过程中不会引入外来颗粒，因此可节约资源。具体的，本专利技术所述静电除尘器100利用静电除尘的原理，即利用静电力从气流中分离悬浮颗粒的装置，包括三个基本过程，悬浮颗粒荷电、带电颗粒在电场内迁移和捕集、捕集物清除。含有粉尘颗粒的气体在通过接有高压直流电源的阴极线(电晕极)和接地的阳极板(集尘极)之间所形成的高压电场时，由于阴极线发生电晕放电、气体被电离，此时带负电的气体离子在电场力的作用下向阳极板运动，在运动中与粉尘颗粒相碰，则使粉尘颗粒荷以负电，荷电后的粉尘颗粒在电场力的作用下，亦向阳极运动，到达阳极后放出所带的电子，粉尘颗粒则沉积于阳极板上，从而得到净化的气体。如图1，本实施例中，所述清洁装置中包括2个所述伸缩单元，即所述伸缩单元201、202，所述伸缩单元201与所述壳体300相连接，所述伸缩单元202用于固定支撑所述清洁装置，具体安装位置可根据需要进行选择，所述伸缩单元不局限于2个，也可根据需要选择大于2个的数量，如3个、6个、8个等，此处不作限制。通过所述伸缩单元201、202可改变所述静电除尘器100的位移，包括水平位移及垂直位移中的一种或组合。所述旋转单元203位于所述伸缩单元201及202之间，通过所述旋转单元203的旋转本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洁装置，其特征在于，所述清洁装置包括：/n静电除尘器，所述静电除尘器包括集尘极及电晕极；/n驱动部件，所述驱动部件至少包括两个伸缩单元及一个旋转单元；所述伸缩单元与所述静电除尘器相连接，通过所述伸缩单元控制所述静电除尘器的位移；所述旋转单元与所述伸缩单元相连接，位于所述伸缩单元之间，通过所述旋转单元控制所述伸缩单元的方向。/n

【技术特征摘要】
1.一种清洁装置，其特征在于，所述清洁装置包括：
静电除尘器，所述静电除尘器包括集尘极及电晕极；
驱动部件，所述驱动部件至少包括两个伸缩单元及一个旋转单元；所述伸缩单元与所述静电除尘器相连接，通过所述伸缩单元控制所述静电除尘器的位移；所述旋转单元与所述伸缩单元相连接，位于所述伸缩单元之间，通过所述旋转单元控制所述伸缩单元的方向。


2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：所述静电除尘器包括单层静电除尘器及多层静电除尘器中的一种或组合。


3.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：所述集尘极包括金属网板，所述静电除尘器还包括沉积板，所述沉积板设置于所述金属网板下方。


4.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：所述电晕极包括圆形线电晕极、星形线电晕极、锯齿线电晕极及芒刺线电晕极中的一种或组合。


5.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：所述清洁装置还包括高压供电设备，所述高压供电设备用于给所述静电除尘器供电，所述高压供电设备的输出电压范围包括50kV～120kV。

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【专利技术属性】
技术研发人员：左权，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34