【技术实现步骤摘要】
一种显示基板及其制备方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
近年来，随着显示技术的发展，制备显示装置的工艺也越来越成熟。显示装置包括多个过孔，以方便处于不同层的导电层之间相互电连接。当导电层之间的绝缘层的厚度过大时，因工艺原因，过孔通常无法顺利形成。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，可确保刻蚀后的无机绝缘层的形貌为预先设计的尺寸。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：第一方面，提供一种显示基板的制备方法，包括：在衬底上形成无机绝缘薄膜；利用刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，以得到无机绝缘层；其中，所述刻蚀液包括氢氟酸。可选的，在形成所述无机绝缘薄膜之前，所述显示基板的制备方法还包括：依次在所述衬底上形成导电层、缓冲薄膜、以及薄膜晶体管的有源图案、栅绝缘层、栅极；所述无机绝缘层用作所述薄膜晶体管的层间绝缘层。可选的，利用刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，以得到所述...
【技术保护点】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：/n在衬底上形成无机绝缘薄膜；/n利用刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，以得到无机绝缘层；其中，所述刻蚀液包括氢氟酸。/n
【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底上形成无机绝缘薄膜；
利用刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，以得到无机绝缘层；其中，所述刻蚀液包括氢氟酸。
2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在形成所述无机绝缘薄膜之前，所述显示基板的制备方法还包括：
依次在所述衬底上形成导电层、缓冲薄膜、以及薄膜晶体管的有源图案、栅绝缘层、栅极；
所述无机绝缘层用作所述薄膜晶体管的层间绝缘层。
3.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，利用刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，以得到所述无机绝缘层，包括：
在所述栅极背离所述衬底一侧依次形成所述无机绝缘薄膜和光刻胶；
利用半色调掩模板对所述光刻胶进行曝光，显影后形成完全保留部分、半保留部分和完全去除部分；所述完全去除部分与待形成的第一过孔对应，所述半保留部分与待形成的第二过孔对应，所述完全保留部分与其他区域对应；
利用所述刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，形成无机绝缘图案；
采用灰化工艺去除所述半保留部分；
利用所述刻蚀液对所述无机绝缘图案和所述缓冲薄膜进行刻蚀，得到所述无机绝缘层和缓冲层，所述第一过孔露出所述导电层，所述第二过孔露出所述有源图案。
4.根据权利要求3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述有源图案的材料包括金属氧化物；
在利用所述刻蚀液对所述无机绝缘图案和所述缓冲薄膜进行刻蚀后，所述显示基板的制备方法还包括：
采用干法刻...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘宁，王海涛，胡迎宾，王庆贺，宋威，倪柳松，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34
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