【技术实现步骤摘要】
薄膜晶体管阵列基板及其制作方法
本专利技术涉及液晶显示
，特别是涉及一种薄膜晶体管阵列基板及其制作方法。
技术介绍
随着显示技术的发展，液晶显示面板(LiquidCrystalDisplay，LCD)因其轻便、低辐射等优点越来越受到人们的欢迎。液晶显示面板包括对置的彩色滤光片基板(ColorFilter，CF)和薄膜晶体管阵列基板(TFTarray)以及夹置在两者之间的液晶层(LClayer)。在传统的薄膜晶体管阵列基板制造流程中，公共电极图形化后，形成覆盖公共电极的绝缘层，在绝缘层上进行像素电极的图形化，以形成条状的像素电极，为了争取进一步超低能耗属性的高竞争力产品和提高制程Margin，需要将条状像素电极之间的绝缘层挖空，为了达到将条状像素电极之间的绝缘层挖空，需增加绝缘层的蚀刻时间，会出现下方公共电极裸露的问题，所以为了避免这个问题，在公共电极上增加了氧化硅的保护。可是在形成像素电极与薄膜晶体管(TFT)导电连接的接触孔时，需要在对应接触孔的位置挖掉像素电极下方的绝缘层、氧化硅层和氧化硅层下方的绝...
【技术保护点】
1.一种薄膜晶体管阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：/n在基板上形成呈阵列排布的多个TFT；/n形成覆盖多个所述TFT的第一绝缘层；/n形成覆盖所述第一绝缘层的平坦层，并对所述平坦层进行图案化，在对应于每个接触孔的位置处去除所述平坦层而露出下方的所述第一绝缘层；/n在所述平坦层上沉积导电层，并对所述导电层进行蚀刻图案化，以形成导电条；/n在所述平坦层和所述导电条上沉积第一透明导电薄膜；/n形成覆盖所述第一透明导电薄膜的第二绝缘层，并对所述第二绝缘层进行图案化，在对应每个接触孔的位置去除所述第二绝缘层，并在所述第二绝缘层的去除位置露出下方的所述第一透明导电薄膜；/n对所述...
【技术特征摘要】
1.一种薄膜晶体管阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：
在基板上形成呈阵列排布的多个TFT；
形成覆盖多个所述TFT的第一绝缘层；
形成覆盖所述第一绝缘层的平坦层，并对所述平坦层进行图案化，在对应于每个接触孔的位置处去除所述平坦层而露出下方的所述第一绝缘层；
在所述平坦层上沉积导电层，并对所述导电层进行蚀刻图案化，以形成导电条；
在所述平坦层和所述导电条上沉积第一透明导电薄膜；
形成覆盖所述第一透明导电薄膜的第二绝缘层，并对所述第二绝缘层进行图案化，在对应每个接触孔的位置去除所述第二绝缘层，并在所述第二绝缘层的去除位置露出下方的所述第一透明导电薄膜；
对所述第一透明导电薄膜进行图案化，在对应于每个接触孔的位置去除所述第一透明导电薄膜而露出下方的所述平坦层和所述第一绝缘层，所述第一透明导电薄膜在图案化之后形成公共电极，所述公共电极与所述第二绝缘层上下重叠；
形成覆盖所述第二绝缘层的第三绝缘层，所述第三绝缘层还同时覆盖露出的所述平坦层和所述第一绝缘层；
在显示区内对所述第三绝缘层和所述第一绝缘层进行图案化，对应于每个接触孔的位置去除所述第三绝缘层和所述第一绝缘层，以在每个接触孔的位置处露出每个所述TFT的一个导电极；
在所述第三绝缘层上沉积第二透明导电薄膜，所述第二透明导电薄膜填入每个所述TFT的接触孔中并与每个所述TFT露出的导电极接触；
在所述第二透明导电薄膜上涂布光阻，并利用光罩对所述光阻进行曝光显影，然后以留下的所述光阻为遮罩对所述第二透明导电薄膜进行图案化，所述第二透明导电薄膜在图案化之后形成多个像素电极，其中每个所述像素电极为具有像素电极条与第一狭缝的图案化结构，且每个所述像素电极通过接触孔与对应的TFT的一个导电极连接；
在所述第二透明导电薄膜被图案化形成所述多个像素电极之后，继续以留下的所述光阻为遮罩对所述第三绝缘层进行蚀刻工艺，使所述第三绝缘层被蚀刻而形成相互间隔的多个绝缘层图案，每个所述绝缘层图案与一个像素电极相对应，所述绝缘层图案与所述像素电极上下重叠；
去除所述光阻。
2.根据权利要求1所述的薄膜晶体管阵列基板的制作方法，其特征在于，在所述基板上沉积第一金属层，对所述第一金属层进行图案化制作形成扫描线和所述TFT的栅极，所述扫描线与所述栅极连接，在所述扫描线和所述TFT的栅极上形成栅极绝缘层，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：李治朝，郑玮玮，马晓旭，张伟，
申请(专利权)人：昆山龙腾光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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