【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本专利技术涉及一种基板处理装置。
技术介绍
在制造半导体设备或显示设备时，实施照相、蚀刻、刻板、离子注入、薄膜层积、清洗等各种工艺。在此，照相工艺包括涂抹、曝光及显像工艺。在基板上涂抹涂渍溶液(即，涂抹工艺)，在形成有感光膜的基板上曝光电路图案(即，曝光工艺)，有选择地显像基板的曝光处理的区域(即，显像工艺)。对一个基板而执行各种工艺处理，对于各个工艺处理在相互不同的单独的腔执行。因此，在腔之间执行基板的移动，以用于执行对基板的完全的工艺处理。专利技术的内容专利技术要解决的技术问题本专利技术要解决的技术问题为提供一种基板处理装置。本专利技术的课题并非通过上述言及的课题限定，未言及的或其它课题通过下面的记载而使本领域技术人员明确理解。用于解决问题的技术方案用于实现所述课题的本专利技术的基板处理装置的一方面(aspect)包括：移送部，供移送透明方形基板；基板支撑部，支撑所述被移送的透明方形基板；光产生部，向移动中的所述透明方形基板照射相互不同的两束光...
【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其特征在于，/n包括：/n移送部，移送透明方形基板；/n基板支撑部，支撑所述被移送的透明方形基板；/n光产生部，向移动中的所述透明方形基板照射相互不同的两束光，并检测被照射的光；及/n控制装置，参照所述检测的光，判断所述透明方形基板的姿态，控制所述移送部，以使按提前设定的基本姿态而将所述透明方形基板安装在所述基板支撑部，/n所述控制装置利用在所述透明方形基板的边缘，未透过所述相互不同的两束光中的第一光的时刻及未透过所述相互不同的两束光中的第二光的时刻之间的时间差，而判断所述基本姿态对应的所述透明方形基板的姿态。/n
【技术特征摘要】
20181128 KR 10-2018-01497611.一种基板处理装置，其特征在于，
包括：
移送部，移送透明方形基板；
基板支撑部，支撑所述被移送的透明方形基板；
光产生部，向移动中的所述透明方形基板照射相互不同的两束光，并检测被照射的光；及
控制装置，参照所述检测的光，判断所述透明方形基板的姿态，控制所述移送部，以使按提前设定的基本姿态而将所述透明方形基板安装在所述基板支撑部，
所述控制装置利用在所述透明方形基板的边缘，未透过所述相互不同的两束光中的第一光的时刻及未透过所述相互不同的两束光中的第二光的时刻之间的时间差，而判断所述基本姿态对应的所述透明方形基板的姿态。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述光产生部包括：
第一及第二光照射部，以与地面垂直的方向分别照射第一光及第二光；及
第一及第二光检测部，在所述第一及第二光照射部的上部或下部而配置在与地面平...
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