基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置。基板处理装置包括：移送部，移送透明方形基板；基板支撑部，支撑所述被移送的透明方形基板；光产生部，向移动中的所述透明方形基板照射相互不同的两束光，并检测被照射的光；及控制装置，参照所述检测的光，判断所述透明方形基板的姿态，并控制所述移送部，以使按提前设定的基本姿态而将所述透明方形基板安装在所述基板支撑部，其中，所述控制装置利用在所述透明方形基板的边缘中未透过所述相互不同的两束光中的第一光的时刻及为透过所述相互不同的两束光中的第二光的时刻之间的时间差，而判断所述基本姿态对应的所述透明方形基板的姿态。

Substrate treatment device

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本专利技术涉及一种基板处理装置。
技术介绍
在制造半导体设备或显示设备时，实施照相、蚀刻、刻板、离子注入、薄膜层积、清洗等各种工艺。在此，照相工艺包括涂抹、曝光及显像工艺。在基板上涂抹涂渍溶液(即，涂抹工艺)，在形成有感光膜的基板上曝光电路图案(即，曝光工艺)，有选择地显像基板的曝光处理的区域(即，显像工艺)。对一个基板而执行各种工艺处理，对于各个工艺处理在相互不同的单独的腔执行。因此，在腔之间执行基板的移动，以用于执行对基板的完全的工艺处理。专利技术的内容专利技术要解决的技术问题本专利技术要解决的技术问题为提供一种基板处理装置。本专利技术的课题并非通过上述言及的课题限定，未言及的或其它课题通过下面的记载而使本领域技术人员明确理解。用于解决问题的技术方案用于实现所述课题的本专利技术的基板处理装置的一方面(aspect)包括：移送部，供移送透明方形基板；基板支撑部，支撑所述被移送的透明方形基板；光产生部，向移动中的所述透明方形基板照射相互不同的两束光，检测所照射的光；及控制装置，参照所述检测的光，判断所述透明方形基板的姿态，并控制所述移送部，以使按提前设定的基本姿态而将所述透明方形基板安装在所述基板支撑部，其中，所述控制装置利用在所述透明方形基板的边缘，所述相互不同的两束光中的第一光未透过的时刻及所述相互不同的两束光中的第二光未透过的时刻之间的时间差，而判断所述基本姿态对应的所述透明方形基板的姿态。所述光产生部包括：第一及第二光照射部，以垂直于地面的方向而分别照射第一光及第二光；及第一及第二光检测部，在所述第一及第二光照射部的上部或下部而配置在与地面平行的一个直线上，分别检测所述照射的第一光及第二光。所述移送部在所述透明方形基板的宽的面平行配置于地面的状态下，以垂直于所述第一光及第二光的光照射方向的方向，移动所述透明方形基板，以使所述透明方形基板通过所述第一光及第二光。基本姿态对应的透明方形基板的姿态包括配置有第一光检测部及第二光检测部的方向与形成于透明方形基板的边缘之间的角度。所述控制装置利用在所述透明方形基板的一侧边缘未透过所述第一光及第二光的时刻与在所述一侧边缘的对侧边缘未透过所述第一光及第二光的时刻之间的时间差而判断所述透明方形基板的中心线。所述控制装置控制所述移送部，以使所述透明方形基板的中心线与所述基板支撑部的中心线保持一致。其它实施例的具体事项包含于具体说明及附图中。附图说明图1为显示本专利技术的实施例的基板处理装置的附图；图2为显示本专利技术的实施例的透明方形基板的附图；图3为显示向本专利技术的实施例的透明方形基板照射光的附图；图4及图5为显示本专利技术的实施例的透明方形基板通过光产生部的附图；图6为显示本专利技术的实施例的透明方形基板以不吻合基本姿态的姿态通过光产生部的附图；图7为显示本专利技术的实施例的透明方形基板通过光产生部而检测的光图案的附图；图8为显示确定本专利技术的实施例的透明方形基板的姿态及中心线的附图；图9及图10为显示移送本专利技术的实施例的透明方形基板的附图。附图标记说明10：基板处理装置20：透明方形基板100：移送部110：固定部120：移动部130：机械臂140：手臂200：基板支撑部210：安装面220：支撑销310、320：光产生部311、321：光照射部312、322：光检测部400：控制装置具体实施方式下面，参照附图而对本专利技术的优选的实施例进行具体说明。本专利技术的优点及特征及其实现其的方法参照与附图一起而具体说明的实施例而变得明确。但本专利技术并非通过下面公开的实施例进行限定，能够以相互不同的各种形式实现，仅本实施例完全公开本专利技术，并用于向本专利技术所属
的普通技术人员完全告知专利技术的范围而提供，本专利技术仅通过权利要求范围定义。整个说明书相同的参照符号表示相同的构成要素。对于元件(elements)或层处于不同的元件或层的“上(on)”或“上面(on)”包含直接处于其它元件或层上，也包含在中间介有其它层或其它元件的情况。而对于称元件为“直接处于上(directlyon)”或“直接处于上面”的情况，显示在中间未介有其它元件或层的情况。空间上相对的用语即“下(below)”、“下面(beneath)”、“下部(lower)”、“上(above)”、“上部(upper)”等如显示于附图上所示，用于容易记述一个元件或构成要素与其它元件或构成要素的相互关系而使用。空间上相对的用语在对于显示于附图中的方向而使用时或运行时，应以按包含元件的相互不同的方向的用语理解。例如，对于翻转显示于附图的元件的情况，记述为其它元件的“下(below)”或“下面(beneath)”的元件被放置在其它元件的“上(above)”。因此，例示的用语即“下”全部包含下与上的方向。元件也能够按其它方向配置，由此，空间上相对的用语按配向解释。即使第一、第二等用于叙述不同的元件、构成要素及/或部分而使用，但该多个元件、构成要素及/或部分未通过该多个用语限定。该用语仅将一个元件、构成要素或部分与其它元件、构成要素或部分区别而使用。因此，下面言及的第一元件、第一构成要素或第一部分在本专利技术的技术的思想内也能够指第二元件、第二构成要素或第二部分。在本说明书中使用的用语为用于说明实施例，并非限制本专利技术。在本说明书中，单数型在文中未作特别言及的，也包含复数型。对于说明书中所使用的“包括(comprises)”及/或“包含的(comprising)”所言及的构成要素、步骤、动作及/或元件未排除一个以上其它构成要素、步骤、动作及/或元件的存在或增加。在不存在其它定义的情况下，本说明书中使用的所有用语(包含技术及科学用语)，在本专利技术所属
中，按普通技术人员共同理解的意义使用。或者一般使用的词典定义的用语未作明确特别定义的，未以异常或夸张的形式解释。下面，参照附图对本专利技术的实施例进行具体说明，在参照附图而进行说明时，与附图符号无关，相同或对应的构成要素赋予相同的参照符号，并省略对其的重复说明。图1为显示本专利技术的实施例的基板处理装置的附图，图2为显示本专利技术的实施例的透明方形基板的附图，图3为显示向本专利技术的实施例的透明方形基板照射光的附图。参照图1，基板处理装置10包括：移送部100、基板支撑部200、光产生部310、320及控制装置400。移送部100执行移送透明方形基板20的作用。移送部100包括：固定部110、移动部120、机械臂130及手臂140。固定部110被固定于地面。地面为具有基板处理装置10的腔(未图示)的底面。移动部120以能够移动的方式与固定部110结合。例如，移动部120对于固定部110，以垂直于地面的方向移动或以垂直于地面的旋转轴为中心旋转。机械臂130具有多个。多个机械臂130以能够旋转的方式而相邻的相互之间结合。例如，以垂直于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其特征在于，/n包括：/n移送部，移送透明方形基板；/n基板支撑部，支撑所述被移送的透明方形基板；/n光产生部，向移动中的所述透明方形基板照射相互不同的两束光，并检测被照射的光；及/n控制装置，参照所述检测的光，判断所述透明方形基板的姿态，控制所述移送部，以使按提前设定的基本姿态而将所述透明方形基板安装在所述基板支撑部，/n所述控制装置利用在所述透明方形基板的边缘，未透过所述相互不同的两束光中的第一光的时刻及未透过所述相互不同的两束光中的第二光的时刻之间的时间差，而判断所述基本姿态对应的所述透明方形基板的姿态。/n

【技术特征摘要】
20181128 KR 10-2018-01497611.一种基板处理装置，其特征在于，
包括：
移送部，移送透明方形基板；
基板支撑部，支撑所述被移送的透明方形基板；
光产生部，向移动中的所述透明方形基板照射相互不同的两束光，并检测被照射的光；及
控制装置，参照所述检测的光，判断所述透明方形基板的姿态，控制所述移送部，以使按提前设定的基本姿态而将所述透明方形基板安装在所述基板支撑部，
所述控制装置利用在所述透明方形基板的边缘，未透过所述相互不同的两束光中的第一光的时刻及未透过所述相互不同的两束光中的第二光的时刻之间的时间差，而判断所述基本姿态对应的所述透明方形基板的姿态。


2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述光产生部包括：
第一及第二光照射部，以与地面垂直的方向分别照射第一光及第二光；及
第一及第二光检测部，在所述第一及第二光照射部的上部或下部而配置在与地面平...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙德铉，金炯俊，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR