陶瓷电极、具有其的薄膜传感器及该陶瓷电极的制作方法技术

本发明专利技术提供的陶瓷电极、具有其的薄膜传感器及该陶瓷电极的制作方法，属于薄膜传感器技术领域，其中，陶瓷电极包括：陶瓷基底、定电极层和支撑结构，所述支撑结构采用电镀方式沉积在陶瓷基底的与所述定电极层所在的同一面上，所述支撑结构与所述陶瓷基底之间具有镀层，所述镀层与所述定电极层的厚度相等；本发明专利技术的陶瓷电极，在陶瓷基底的设置电极层的一面，采用丝网印刷或物理气相沉积的方式还设置有电铸前的镀层，然后再在该镀层上设置支撑结构，并且所述支撑结构为通过电铸的方式精确控制厚度，不仅可避免丝网印刷或物理气相沉积的电极层厚度对电极间距的影响，而且还可以精确控制支撑结构的厚度，从而保证传感器的精度。

Ceramic electrode, film sensor with the ceramic electrode and manufacturing method of the ceramic electrode

【技术实现步骤摘要】
陶瓷电极、具有其的薄膜传感器及该陶瓷电极的制作方法
本专利技术涉及薄膜传感器
，具体涉及一种陶瓷电极、具有其的薄膜传感器及该陶瓷电极的制作方法。
技术介绍
薄膜传感器通常使用金属膜片做成的动电极和以陶瓷等绝缘材料为基底的定电极构成。金属动电极与陶瓷定电极间隔有固定的距离，以便建立电容。由电容公式C＝Aereo/d(其中A为两个电极对应面积、er为材料的相对介电常数、eo为真空介电常数、d为两个极板间的距离距离)可知，在电极面积和介电常数固定的情况下，影响电容值主要取决与d值。在高真空测量中，若想精确测量待测腔的真空度，d越小越好。通常，我们将d值设定在100um～200um之间，通常传感器不同量程和同种量程不同批次极板的加工，需要通过一个可调厚度的垫片来选择合适的间距d。目前常用的方法为加工不同厚度梯度的带材以供选择。并且,由于传感器内要保证陶瓷电极与膜片电极之间的腔体能够抽真空，因此需要在带材上刻蚀导气槽，成为导气垫片来使用。由于带材太薄，所需梯度厚度众多，加工成本及其的大，并且在这么薄的带材上刻蚀导气槽也比较困难。另一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.陶瓷电极，用于设置在薄膜传感器的参考压力腔(5)内并与膜片电极(4)相对，其特征在于，包括：/n陶瓷基底(10)；/n定电极层(7)，采用丝网印刷或物理气相沉积的方式设置在所述陶瓷基底(10)的用于与所述膜片电极(4)相对的一面上；/n支撑结构(8)，采用电镀方式沉积在所述陶瓷基底(10)的与所述定电极层(7)所在的同一面上，所述支撑结构(8)与所述陶瓷基底(10)之间具有镀层(9)，所述镀层(9)与所述定电极层(7)的厚度相等。/n

【技术特征摘要】
1.陶瓷电极，用于设置在薄膜传感器的参考压力腔(5)内并与膜片电极(4)相对，其特征在于，包括：
陶瓷基底(10)；
定电极层(7)，采用丝网印刷或物理气相沉积的方式设置在所述陶瓷基底(10)的用于与所述膜片电极(4)相对的一面上；
支撑结构(8)，采用电镀方式沉积在所述陶瓷基底(10)的与所述定电极层(7)所在的同一面上，所述支撑结构(8)与所述陶瓷基底(10)之间具有镀层(9)，所述镀层(9)与所述定电极层(7)的厚度相等。


2.根据权利要求1所述的陶瓷电极，其特征在于，所述支撑结构(8)位于定电极层(7)的外圈。


3.根据权利要求1所述的陶瓷电极，其特征在于，所述支撑结构(8)具有多个，多个所述支撑结构(8)沿圆周方向均匀设置。


4.根据权利要求3所述的陶瓷电极，其特征在于，多个所述支撑结构(8)构成非封闭的环形。


5.根据权利要求4所述的陶瓷电极，其特征在于，所述支撑结构(8)为弧形结构。


6.薄膜传感器，其特征在于，包括：
壳体(1)，具有内腔；
膜片电极(4)，设置在所述壳体(1)内，并将所述壳体(1)的内腔分割为参考压力腔(5)和外压力测试腔(6)，所述外压力测试腔(6)通过入口管(2)与外界连通；
陶瓷电极(3)，位于...

【专利技术属性】
技术研发人员：张心强，陈林，
申请(专利权)人：中科九微科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51