柔性显示基板、显示装置及其控制方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种柔性显示基板、显示装置及其控制方法，其中，柔性显示基板，包括：柔性衬底基板；位于所述柔性衬底基板上的发光器件；位于所述发光器件的非出光侧的压电膜层，所述压电膜层在接收到电压信号时发生与所述电压信号对应的形变，以带动所述发光器件形变。本发明专利技术提供的柔性显示基板、显示装置及其控制方法，能够提高显示装置的显示效果。

Flexible display base plate, display device and control method

【技术实现步骤摘要】
柔性显示基板、显示装置及其控制方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种柔性显示基板、显示装置及其控制方法。
技术介绍
目前，虚拟现实(VirtualReality，简称VR)显示设备和增强现实(AugmentedReality，简称AR)显示设备中有用以向用户提供真实的沉浸式环境的光学透镜，但光线在经过光学透镜处理后，显示图像会发生畸变。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种柔性显示基板、显示装置及其控制方法，以解决相关技术中VR显示设备或AR显示设备的发出的光线在经过光学透镜处理后，图像会发生畸变的问题。为了解决上述技术问题，本专利技术提供技术方案如下：第一方面，本专利技术实施例提供一种柔性显示基板，包括：柔性衬底基板；位于所述柔性衬底基板上的发光器件；位于所述发光器件的非出光侧的压电膜层，所述压电膜层在接收到电压信号时发生与所述电压信号对应的形变，以带动所述发光器件形变。进一步地，所述压电膜层位于所述柔性衬底基板与所述发光器件之间，或者，所述压电膜层位于所述柔性衬底基板远离所述发光器件的一侧。进一步地，所述发光器件包括N个阵列排布的子像素，所述N为正整数；所述压电膜层包括M个阵列排布的压电块，其中，每个子像素在所述柔性衬底基板上的正投影包含K个压电块在所述柔性衬底基板上的正投影；所述M为大于等于N的正整数，所述K为正整数，所述M等于所述K与所述N的乘积。进一步地，每个子像素在所述柔性衬底基板上的正投影包含X行Y列的压电块在所述柔性衬底基板上的正投影，其中，X与Y的乘积等于K，所述X和所述Y为小于或等于所述K的正整数。进一步地，所述M等于所述N，所述K等于1。第二方面，本专利技术实施例还提供一种显示装置，包括如上所述的柔性显示基板。进一步地，所述显示装置还包括透镜组，所述透镜组位于所述柔性显示基板的出光面。第三方面，本专利技术实施例还提供一种显示装置的控制方法，所述方法包括：在所述显示装置输出的图像存在畸变的情况下，对所述压电膜层提供电压信号，使得所述压电膜层形变后带动所述显示装置的发光器件形变，以优化所述显示装置输出的图像。进一步地，所述对所述压电膜层提供电压信号，使得所述压电膜层形变后带动所述显示装置的发光器件形变，以优化所述显示装置输出的图像的步骤，包括：对K个第一压电块提供第一电压信号，使得所述K个第一压电块形变后带动与所述K个第一压电块对应的目标子像素形变；获取所述目标子像素形变后输出的第一局部图像；若所述第一局部图像无畸变，则向第二压电块提供与所述第一电压信号对应的第二电压信号，所述第二压电块对应的子像素与所述第一压电块对应的子像素不同。进一步地，所述第二电压信号等于所述第一电压信号；或者，所述第二电压信号与所述第一电压信号的比值与所述第二压电块与所述第一压电块之间的间隔距离成正比。本专利技术提供的技术方案中，通过利用压电膜层形变带动发光器件形变，即使得光线的发射角度改变，使原本因透镜对光线处理过度或不足而导致图像畸变的光线恢复正常，从而使显示装置呈现正常的显示图像，提高显示装置的显示效果。因此，本专利技术提供的技术方案能够提高显示装置的显示效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对本专利技术实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术一实施例提供的柔性显示基板的结构示意图；图2为本专利技术另一实施例提供的柔性显示基板的结构示意图；图3为现有技术中发生畸变的示意图；图4为针对图3通过形变发光器件以实现反畸变处理的原理示意图；图5为本专利技术另一实施例提供的柔性显示基板中压电块与子像素的位置示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种柔性显示基板，如图1和图2所示，包括：柔性衬底基板110；位于所述柔性衬底基板110上的发光器件120；位于所述发光器件120的非出光侧的压电膜层130，所述压电膜层130在接收到电压信号时发生与所述电压信号对应的形变，以带动所述发光器件120形变。本专利技术实施例中，通过利用压电膜层形变带动发光器件形变，即使得光线的发射角度改变，使原本因透镜对光线处理过度或不足而导致图像畸变的光线恢复正常，从而使显示装置呈现正常的显示图像，提高显示装置的显示效果。因此，本专利技术提供的技术方案能够提高显示装置的显示效果。上述柔性衬底基板110可以但不限于聚酰亚胺薄膜。通过薄膜封装工艺在柔性衬底基板110上形成保护膜，能够使得柔性显示基板弯曲。上述发光器件120可以为有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，简称OLED)，所述OLED包括阳极、阴极和位于阳极和阴极之间的发光层。当然，发光器件还可以是其他发光二极管，例如：量子发光二极管(QuantumDotLightEmittingDiodes，简称QLED)、多分区布光独立控制发光二极管ULED等。上述压电膜层130由压电材料制备得到，通过对压电膜层130提供电信号，使得压电膜层130发生逆压电效应，发生形变从而带动发光器件120形变，进而改变发光器件120射向透镜组的光线的发射角度。其中，所述压电膜层130位于所述柔性衬底基板110与所述发光器件120之间，或者，所述压电膜层130位于所述柔性衬底基板110远离所述发光器件120的一侧。如图1所示，压电膜层130位于所述柔性衬底基板110与所述发光器件120之间时，压电膜层130形变对发光器件120的形变调节效果较强，但是对提供电信号给压电膜层130的信号线屏蔽要求较高。如图2所示，压电膜层130位于柔性衬底基板110远离发光器件120的一侧，压电膜层130形变对发光器件120的形变调节效果较弱，不过对提供电信号给压电膜层130的信号线屏蔽要求较低。相关技术中，如图3所示，在显示基板的发光器件为平面形状显示正常的基础图像时，光线通过透镜组得到的显示图像为枕形畸变的图像。本专利技术实施例中，针对图3所示的情况，如图4所示，通过反畸变处理调整柔性显示基板中发光器件120的形状，使发光器件120显示类似发生桶形畸变的基础图像，这样光线通过透镜组得到的显示图像即可为正常的图像，从而能够提高显示装置的显示效果。需要说明的是，本专利技术实施例中提到的基础图像为显示基板中发光器件120显示的图像，是未被透镜组处理过的光线形成的图像；提到的显示图像为发光器件120发出的光线经过透镜组处理后本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种柔性显示基板，其特征在于，包括：/n柔性衬底基板；/n位于所述柔性衬底基板上的发光器件；/n位于所述发光器件的非出光侧的压电膜层，所述压电膜层在接收到电压信号时发生与所述电压信号对应的形变，以带动所述发光器件形变。/n

【技术特征摘要】
1.一种柔性显示基板，其特征在于，包括：
柔性衬底基板；
位于所述柔性衬底基板上的发光器件；
位于所述发光器件的非出光侧的压电膜层，所述压电膜层在接收到电压信号时发生与所述电压信号对应的形变，以带动所述发光器件形变。


2.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述压电膜层位于所述柔性衬底基板与所述发光器件之间，或者，所述压电膜层位于所述柔性衬底基板远离所述发光器件的一侧。


3.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述发光器件包括N个阵列排布的子像素，所述N为正整数；
所述压电膜层包括M个阵列排布的压电块，其中，每个子像素在所述柔性衬底基板上的正投影包含K个压电块在所述柔性衬底基板上的正投影；所述M为大于等于N的正整数，所述K为正整数，所述M等于所述K与所述N的乘积。


4.根据权利要求3所述的柔性显示基板，其特征在于，每个子像素在所述柔性衬底基板上的正投影包含X行Y列的压电块在所述柔性衬底基板上的正投影，其中，X与Y的乘积等于K，所述X和所述Y为小于或等于所述K的正整数。


5.根据权利要求3所述的柔性显示基板，其特征在于，所述M等于所述N，所述K等于1。


6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5中任一项所述的柔性显示基板。...

【专利技术属性】
技术研发人员：何玉婷，王宇鹏，王建俊，曹薇，张吉亮，王健，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11