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一种用于化学机械抛光的浆料分布设备制造技术

技术编号:24332945 阅读:42 留言:0更新日期:2020-05-29 20:38
本发明专利技术公开了一种用于化学机械抛光的浆料分布设备,其结构包括第一电机、工件吸盘、顶架、浆料集中分布装置、导液管、液箱、底架、底座,本发明专利技术具有的效果:通过多向排液机构形成的浆液循环结构,能够在工件化学抛光中使研磨浆液在集液圆框和液箱之间循环,利用回液滤杂环筒作为研磨浆液过滤介质,能够滤化使用后的研磨浆液,使含有的研磨颗粒继续回流至集液圆框,从而减少研磨浆液的过量浪费,通过集中汇液机构形成的浆液汇流结构,能够使转盘沿集液圆框转动中,对排入集液圆框中的浆液进行定向集流,使新鲜的浆料及时不断输到工件下面,同时也可以及时地将研磨产生的副产物排除,提高了工件和浆液的反应效果,降低了工件抛光的时间。

A slurry distribution equipment for chemical mechanical polishing

【技术实现步骤摘要】
一种用于化学机械抛光的浆料分布设备
本专利技术涉及化学抛光领域,尤其是涉及到一种用于化学机械抛光的浆料分布设备。
技术介绍
化学机械抛光技术是集成电路制造中获得全局平坦化的一种手段,这种工艺就是为了能够获得既平坦、又无划痕和杂质玷污的表面而专门设计的,化学机械抛光技术属于化学作用和机械作用相结合的技术,通过在化学作用过程和机械作用过程的交替进行中完成工件表面抛光,现有化学机械抛光设备的工件是固定在一个旋转的吸盘上,该吸盘又与一个旋转的抛光盘沿边相接触,之间产生的旋转动能,使浆料在抛光盘表面多向分布,这导致浆料难以及时集中不断输到工件下面,降低了工件和浆液的反应效果,延长了工件抛光时间,因此需要研制一种用于化学机械抛光的浆料分布设备,以此来解决现有化学机械抛光设备的工件是固定在一个旋转的吸盘上,该吸盘又与一个旋转的抛光盘沿边相接触,之间产生的旋转动能,使浆料在抛光盘表面多向分布,这导致浆料难以及时集中不断输到工件下面,降低了工件和浆液的反应效果,延长了工件抛光时间的问题。本
技术实现思路
针对现有技术的不足,本专利技术是通过如下的技术方案来实现:一种用于化学机械抛光的浆料分布设备,其结构包括第一电机、工件吸盘、顶架、浆料集中分布装置、导液管、液箱、底架、底座,所述的底座顶部设有底架,所述的底架垂直安装在底座上,所述的底架内部设有液箱,所述的液箱安装在底架上,所述的底架两侧设有导液管,所述的导液管和液箱连接,所述的底架顶部设有浆料集中分布装置,所述的浆料集中分布装置垂直安装在底架上,所述的浆料集中分布装置顶部设有顶架,所述的顶架和浆料集中分布装置连接,所述的顶架底部中心位置设有工件吸盘,所述的顶架顶部中心位置设有第一电机。作为本技术方案的进一步优化,所述的浆料集中分布装置由多向排液机构、集中汇液机构、回液滤杂环筒、液压杆、稳向外架、第二电机组成,所述的多向排液机构内部设有集中汇液机构,所述的集中汇液机构和多向排液机构相配合,所述的集中汇液机构底部设有回液滤杂环筒,所述的回液滤杂环筒和集中汇液机构相配合,所述的回液滤杂环筒下方设有稳向外架,所述的稳向外架和底架相焊接,所述的稳向外架中心位置设有液压杆,所述的液压杆垂直安装在稳向外架上,所述的液压杆和集中汇液机构相配合,所述的液压杆底部设有第二电机。作为本技术方案的进一步优化,所述的多向排液机构由集液圆框、排液环管、排液嘴、集液槽、轴套、出液孔组成,所述的集液圆框顶部设有排液环管,所述的排液环管嵌合安装在集液圆框凹槽上,所述的排液环管内圈上设有排液嘴,所述的集液圆框中心位置设有集液槽,所述的集液槽和集液圆框为一体化结构,所述的集液槽中心位置设有轴套,所述的轴套垂直安装在集液槽的槽口上,所述的集液槽内部均匀分布有出液孔,所述的出液孔和集液槽为一体化结构。作为本技术方案的进一步优化,所述的集中汇液机构由转盘、导流隔条、集液抛光盘、防溢圆环组成,所述的转盘外圈上设有防溢圆环,所述的防溢圆环和转盘相扣合,所述的转盘中心位置设有集液抛光盘,所述的集液抛光盘扣合固定在转盘上,所述的转盘顶部均匀等距设有导流隔条,所述的导流隔条和转盘为一体化结构。作为本技术方案的进一步优化,所述的集液抛光盘由集液叶片、抛光盘、圆盘、排液孔组成,所述的圆盘顶部中心位置设有抛光盘,所述的抛光盘和圆盘相扣合,所述的圆盘内圈上设有集液叶片,所述的集液叶片和圆盘相焊接,所述的抛光盘外圈上设有排液孔,所述的排液孔和圆盘为一体化结构。作为本技术方案的进一步优化,所述的排液嘴由上向下倾斜设置在排液环管上。作为本技术方案的进一步优化,所述的防溢圆环所形成的圆周直径等于集液圆框内圈所形成的圆周直径。作为本技术方案的进一步优化,所述的所述的抛光盘设置在高度低于各个集液叶片设置的高度,所述的排液孔设置的高度低于抛光盘设置的高度。有益效果本专利技术一种用于化学机械抛光的浆料分布设备,设计合理,功能性强,具有以下有益效果:本专利技术浆料集中分布装置主要由多向排液机构和集中汇液机构组成,通过多向排液机构形成的浆液循环结构,能够在工件化学抛光中使研磨浆液在集液圆框和液箱之间循环,利用回液滤杂环筒作为研磨浆液过滤介质,能够滤化使用后的研磨浆液,使含有的研磨颗粒继续回流至集液圆框,从而减少研磨浆液的过量浪费,通过集中汇液机构形成的浆液汇流结构,能够使转盘沿集液圆框转动中,对排入集液圆框中的浆液进行定向集流,使新鲜的浆料及时不断输到工件下面,同时也可以及时地将研磨产生的副产物排除,提高了工件和浆液的反应效果,降低了工件抛光的时间;本专利技术通过导液管和排液环管以及排液嘴形成的排液结构,能够在排液中使浆液分布成环型结构,多方向排入集液圆框,浆液经过集中汇液机构后,集中流入集液槽内,通过出液孔排入回液滤杂环筒进行滤化,使浆液中含有的研磨杂质被拦截,含有磨料的浆液重新回流至液箱进行利用,以此来提高浆液进液以及排液的速度,使新鲜浆液不断流入集液槽进行利用,从而减少研磨浆液的过量浪费;本专利技术转盘在液压杆产生的直线运动带动下,能够使中心位置设有的抛光盘贴合在工件表面,工件固定在旋转中的工件吸盘上,工件吸盘与旋转的转盘相接触,通过各个导流隔条和各个集液叶片形成的浆液集流结构,能够使多向排入集液圆框中的浆液,高效快速向转盘中心位置集中,使新鲜的浆料及时不断输到抛光盘,使工件在研磨中不断以新鲜浆料作为介质与抛光盘接触,从而提高工件的抛光速度,同时抛光盘随转盘旋转,在转动过程中产生的分散动能,能够使经过研磨后的浆料快速从抛光盘表面向四周散出,通过排液孔排入集液槽内部,有效避免含有杂质的浆料和新鲜的浆料相互混合,造成工件表面出现划痕的情况。附图说明通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本专利技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显:图1为本专利技术一种用于化学机械抛光的浆料分布设备的前视结构示意图。图2为本专利技术浆料集中分布装置的侧视剖面结构示意图;图3为本专利技术多向排液机构的俯视剖面结构示意图;图4为本专利技术集中汇液机构的俯视结构示意图;图5为本专利技术集液抛光盘的俯视结构示意图。图中:第一电机-1、工件吸盘-2、顶架-3、浆料集中分布装置-4、多向排液机构-41、集液圆框-41a、排液环管-41b、排液嘴-41c、集液槽-41d、轴套-41e、出液孔-41f、集中汇液机构-42、转盘-42a、导流隔条-42b、集液抛光盘-42c、集液叶片-42c1、抛光盘-42c2、圆盘-42c3、排液孔-42c4、防溢圆环-42d、回液滤杂环筒-43、液压杆-44、稳向外架-45、第二电机-46、导液管-5、液箱-6、底架-7、底座-8。具体实施方式为使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式以及附图说明,进一步阐述本专利技术的优选实施方案。实施例1请参阅图1-3,本专利技术提供一种用于化学机械抛光的浆料分布设备的具体实施方式:请参阅图1,一种用于化学机械抛光的浆料分本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于化学机械抛光的浆料分布设备,其结构包括第一电机(1)、工件吸盘(2)、顶架(3)、浆料集中分布装置(4)、导液管(5)、液箱(6)、底架(7)、底座(8),其特征在于:/n所述的底座(8)顶部设有底架(7),所述的底架(7)内部设有液箱(6),所述的底架(7)两侧设有导液管(5),所述的底架(7)顶部设有浆料集中分布装置(4),所述的浆料集中分布装置(4)顶部设有顶架(3),所述的顶架(3)底部设有工件吸盘(2),所述的顶架(3)顶部设有第一电机(1)。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于化学机械抛光的浆料分布设备,其结构包括第一电机(1)、工件吸盘(2)、顶架(3)、浆料集中分布装置(4)、导液管(5)、液箱(6)、底架(7)、底座(8),其特征在于:
所述的底座(8)顶部设有底架(7),所述的底架(7)内部设有液箱(6),所述的底架(7)两侧设有导液管(5),所述的底架(7)顶部设有浆料集中分布装置(4),所述的浆料集中分布装置(4)顶部设有顶架(3),所述的顶架(3)底部设有工件吸盘(2),所述的顶架(3)顶部设有第一电机(1)。


2.根据权利要求1所述的一种用于化学机械抛光的浆料分布设备,其特征在于:所述的浆料集中分布装置(4)由多向排液机构(41)、集中汇液机构(42)、回液滤杂环筒(43)、液压杆(44)、稳向外架(45)、第二电机(46)组成,所述的多向排液机构(41)内部设有集中汇液机构(42),所述的集中汇液机构(42)底部设有回液滤杂环筒(43),所述的回液滤杂环筒(43)下方设有稳向外架(45),所述的稳向外架(45)中心位置设有液压杆(44),所述的液压杆(44)底部设有第二电机(46)。


3.根据权利要求2所述的一种用于化学机械抛光的浆料分布设备,其特征在于:所述的多向排液机构(41)由集液圆框(41a)、排液环管(41b)、排液嘴(41c)、集液槽(41d)、轴套(41e)、出液孔(41f)组成,所述的集液圆框(41a)顶部设有排液环管(41b),所述的排液环管(41b)内圈上设有排液嘴(41c),所述的集液圆框(41a)中心位置设有集液槽(41d),所述的集液槽(...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨老又
申请(专利权)人:杨老又
类型:发明
国别省市:江苏;32

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