一种高效且方便清洁的碳化硅化学抛光机制造技术

一种高效且方便清洁的碳化硅化学抛光机，包括底座，所述底座的上侧面设有固定板以及由电机带动进行旋转的第一抛光平台和第二抛光平台。该高效且方便清洁的碳化硅化学抛光机，通过设有的第一抛光平台和第二抛光平台并且通过打磨装置和抛光装置对于碳化硅进行抛光，这样可以对于碳化硅有一个初步的磨平棱角的工序，不仅方便了下面的抛光工序，而且使得抛光更为彻底，通过环形废液槽和废液收集槽可以对于使用过的抛光液进行收集，使得抛光液不会到处流淌，方便了工作之后的清洁，而且从一定程度上还可以节约抛光时间和成本，具有很强的实用性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及碳化硅化学抛光机
，具体为一种高效且方便清洁的碳化硅化学抛光机。
技术介绍
随着高亮度LED在照明工程领域需求量的急剧增长，带动了国内碳化硅衬底材料制备产业的发展。由于碳化硅晶体(α-Al2O3)具有耐高温、耐腐蚀、透光波段宽等显著特点，是外延长GaN的首选衬底材料，但也正是由于碳化硅硬度极高、脆性大、化学性质稳定的特点，给材料加工，尤其是晶片表面纳米级抛光在技术上带来很多困难，在加工碳化硅的工序中需要对碳化硅的表面进行抛光处理，目前的抛光技术为单一面的加工，当加工一面完毕之后再对另一面进行抛光处理，加工工序繁琐，工作效率低下，不利于生产，而且加工一般不具备化学抛光机，这样使得抛光不彻底，而且化学抛光机的废液不易收集，对此我们提出一种高效且方便清洁的碳化硅化学抛光机。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种高效且方便清洁的碳化硅化学抛光机，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。本技术的设计方案为：一种高效且方便清洁的碳化硅化学抛光机，包括底座，所述底座的上侧面设有固定板以及由电机带动进行旋转的第一抛光平台和第二抛光平台，所述第一抛光平台的一侧设有垂直安装于底座的打磨装置，所述打磨装置包括位于第一抛光平台正上
方的打磨棒；所述的固定板上设置有储液仓和抛光装置，储液仓底端连通抛光液输送管一端，抛光液输送管另一端连接有位于第二抛光平台正上方的喷头，在第二抛光平台底端环绕第二抛光平台设有环形废液槽，所述环形废液槽经一导流槽与废液收集槽连通；所述的抛光装置包括位于第二抛光平台正上方的抛光片。工作时，把需要加工的碳化硅放在第一抛光平台上进行初步加工，启动电机和打磨装置，转动第一抛光平台利用打磨棒进行打磨，对碳化硅上一些较大的棱角进行磨平，之后再把初步加工过的碳化硅放在第二抛光平台上，通过喷头在碳化硅上喷洒抛光液，再启动电机和抛光装置，转动第二抛光平台利用抛光片进行抛光，对碳化硅进行最后的精抛光工作，喷洒出来的抛光液在使用之后，回流进环形废液槽内，再通过导流槽流进废液收集槽内，这样不仅可以对于碳化硅进行精准完善的抛光，而且还便于清洁，经济实用。所述底座为中空结构，且底座的内部设有与第一抛光平台和第二抛光平台位置对应的转动轴，所述的转动轴下端连接电机，上端贯穿底座并且与第一抛光平台和第二抛光平台连接。电机通过转动轴带动第一抛光平台和第二抛光平台转动。为了保证环形废液槽与废液收集槽之间具有一定高度差，废液能够顺利流入废液收集槽，所述的废液收集槽位于底座一侧，所述的导流槽设于底座上。优选的，所述底座通过轴承与转动轴连接。摩擦阻力小，减小转动轴与底座之间的摩擦损伤，提高机械效率，便于安装拆卸，维修方便。
本技术的有益效果是：该高效且方便清洁的碳化硅化学抛光机，通过设有的第一抛光平台和第二抛光平台并且通过打磨装置和抛光装置对于碳化硅进行抛光，这样可以对于碳化硅有一个初步的磨平棱角的工序，不仅方便了下面的抛光工序，而且使得抛光更为彻底，通过环形废液槽和废液收集槽可以对于使用过的抛光液进行收集，使得抛光液不会到处流淌，方便了工作之后的清洁，而且从一定程度上还可以节约抛光时间和成本，具有很强的实用性。附图说明图1为本技术结构示意图；图2为本技术的电机示意图。图中：1底座、2第一抛光平台、3第二抛光平台、4环形废液槽、5打磨装置、6抛光装置、7抛光液输送管、8喷头、9废液收集槽、10打磨棒、11电机、12固定板、13储液仓、14导流槽、15抛光片、16转动轴。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。如图1-2中所示，一种高效且方便清洁的碳化硅化学抛光机，包括底座1，所述底座1的上侧面设有固定板12以及由电机11带动进行旋转的第一抛光平台2和第二抛光平台3，所述第一抛光平台2的一侧设有垂直安装于底座1的打磨装置5，所述打磨装置5包括位于第一抛光平台2正上方的打磨棒10；所述的固定板12上设置有储液仓13和抛光装置6，储液仓13底端连通
抛光液输送管7一端，抛光液输送管7另一端连接有位于第二抛光平台3正上方的喷头8，在第二抛光平台3底端环绕第二抛光平台3设有环形废液槽4，所述环形废液槽4经一导流槽14与废液收集槽9连通；所述的抛光装置6包括位于第二抛光平台3正上方的抛光片15。所述底座1为中空结构，且底座1内部设有与第一抛光平台2和第二抛光平台3位置对应的转动轴16，所述的转动轴16下端连接电机11，上端贯穿底座1并且与第一抛光平台2和第二抛光平台3连接，所述底座1通过轴承与转动轴16连接。工作流程：首先，把需要加工的碳化硅放在第一抛光平台2上，启动电机11和打磨装置5，边转动边打磨，对碳化硅上一些较大的棱角进行磨平，之后再把初步加工过的碳化硅放在第二抛光平台3上，通过喷头在碳化硅上喷洒抛光液，再启动电机11和抛光装置6，边转动边抛光，对碳化硅进行最后的精抛光工作，喷洒出来的抛光液在使用之后，回流进环形废液槽4内，在通过导流槽14流进废液收集槽9内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高效且方便清洁的碳化硅化学抛光机，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的上侧面设有固定板(12)以及由电机(11)带动进行旋转的第一抛光平台(2)和第二抛光平台(3)，所述第一抛光平台(2)的一侧设有垂直安装于底座(1)的打磨装置(5)，所述打磨装置(5)包括位于第一抛光平台(2)正上方的打磨棒(10)；所述的固定板(12)上设置有储液仓(13)和抛光装置(6)，储液仓(13)底端连通抛光液输送管(7)一端，抛光液输送管(7)另一端连接有位于第二抛光平台(3)正上方的喷头(8)，在第二抛光平台(3)底端环绕第二抛光平台(3)设有环形废液槽(4)，所述环形废液槽(4)经一导流槽(14)与废液收集槽(9)连通；所述的抛光装置(6)包括位于第二抛光平台(3)正上方的抛光片(15)。

【技术特征摘要】
1.一种高效且方便清洁的碳化硅化学抛光机，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的上侧面设有固定板(12)以及由电机(11)带动进行旋转的第一抛光平台(2)和第二抛光平台(3)，所述第一抛光平台(2)的一侧设有垂直安装于底座(1)的打磨装置(5)，所述打磨装置(5)包括位于第一抛光平台(2)正上方的打磨棒(10)；所述的固定板(12)上设置有储液仓(13)和抛光装置(6)，储液仓(13)底端连通抛光液输送管(7)一端，抛光液输送管(7)另一端连接有位于第二抛光平台(3)正上方的喷头(8)，在第二抛光平台(3)底端环绕第二抛光平台(3)设有环形废液槽(4)，所述环形废液槽(4)经一导流槽(14)与废液收集槽(9)连通...

【专利技术属性】
技术研发人员：宗艳民，
申请(专利权)人：山东天岳晶体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37