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本发明公开了一种用于化学机械抛光的浆料分布设备，其结构包括第一电机、工件吸盘、顶架、浆料集中分布装置、导液管、液箱、底架、底座，本发明具有的效果：通过多向排液机构形成的浆液循环结构，能够在工件化学抛光中使研磨浆液在集液圆框和液箱之间循环，利...
该专利属于杨老又所有，仅供学习研究参考，未经过杨老又授权不得商用。

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