一种真空蒸镀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及真空蒸镀技术领域，公开了一种真空蒸镀装置，包括真空容器以及设置在真空容器内的承载台，真空容器的顶部设有活动门板，真空容器的底部与承载台的台面之间设有多个蒸发源，且承载台的台面上设有与多个蒸发源一一对应的开孔；其中，每个蒸发源的腔体内设有坩埚，且坩埚的开口处设有向外突出的边沿；针对每一个坩埚，还包括坩埚载板以及用于控制坩埚载板上升或下降的升降机构，坩埚载板上设有与坩埚配合的通孔，且坩埚的边沿卡在通孔上。在升降机构的作用下，可以将坩埚升至真空容器的顶部，从而便于更换坩埚或向坩埚中填料；并且，坩埚相对蒸发源在竖直方向运动，避免了与蒸发源的腔壁发生碰撞。

A vacuum evaporation device

【技术实现步骤摘要】
一种真空蒸镀装置
本技术涉及真空蒸镀
，尤其涉及一种真空蒸镀装置。
技术介绍
真空蒸镀是一种重要的成膜技术，广泛应用于显示器、电子电路、光学、模具等行业。例如，在有机发光二极管(OLED)显示技术中，有机材料和金属材料通过真空蒸镀形成OLED元件。目前为止，在真空蒸镀过程中，当需要进行蒸镀坩埚的更换或者填料时，工作人员需要进入真空容器内部取出坩埚，而真空容器内部的空间较为狭窄，工作人员的身体很容易和真空容器的内壁接触，造成粘附在真空容器内壁上的材料剥落，从而对坩埚及坩埚内的蒸发材料造成污染的情况；并且，工作人员在将坩埚放入蒸发源的腔体内或从蒸发源的腔体内取出的过程中，容易使坩埚碰撞蒸发源的腔壁从而对坩埚造成损坏。
技术实现思路
本技术提供一种真空蒸镀装置，在需要更换坩埚或向坩埚中填料时，通过升降机构将坩埚抬升或将坩埚送入蒸发源的腔体内，减少了人为因素而造成的损坏，降低了工作难度。本技术实施例提供了一种真空蒸镀装置，该真空蒸镀装置包括真空容器以及设置在所述真空容器内的承载台，所述真空容器的顶部设有活动门板，所述真空容器的底部与所述承载台的台面之间设有多个蒸发源，且所述承载台的台面上设有与所述多个蒸发源一一对应的开孔；其中，每个蒸发源的腔体内设有坩埚，且所述坩埚的开口处设有向外突出的边沿；针对每一个坩埚，还包括坩埚载板以及用于控制所述坩埚载板上升或下降的升降机构，所述坩埚载板上设有与所述坩埚配合的通孔，且所述坩埚的边沿卡在所述通孔上。上述实施例中，由于坩埚卡在坩埚载板中，坩埚可以随坩埚载板同步上升或下降，在升降机构的控制下，坩埚载板能够将坩埚从蒸发源腔体内垂直向上托起，或将坩埚垂直放入蒸发源腔体内，从而避免了坩埚与蒸发源的腔体之间发生碰撞，大大减小了工作人员的工作难度，有效减少了人为因素而造成的损坏。可选的，所述坩埚载板上设有与所述坩埚的边沿配合的凹槽。可选的，所述凹槽在所述承载台上的投影与所述坩埚的边沿在所述承载台上的投影完全重合。可选的，所述坩埚载板包括沿所述通孔的直径方向分开的第一部分以及第二部分，且所述第一部分与所述第二部分可拆卸固定连接。进一步的，还包括：压力传感器，设置在所述承载台的台面上；控制装置，与所述压力传感器以及所述升降机构信号连接，用于在所述坩埚载板抵压到所述压力传感器上时控制所述升降机构停止驱动所述坩埚载板下降。可选的，所述升降机构包括两个丝杆以及驱动每个丝杆转动的电机；所述两个丝杆分别位于所述坩埚的两侧，且每个丝杆穿过所述承载台的台面并与所述坩埚载板连接。或者，所述升降机构包括两个液压缸，所述两个液压缸分别位于所述坩埚的两侧，且每个液压缸的活塞杆穿过所述承载台的台面并与所述坩埚载板固定连接。可选的，所述坩埚载板为耐高温材料制成的载板结构。附图说明图1为本技术实施例提供的真空蒸镀装置的剖视图；图2为本技术实施例提供的坩埚的结构示意图；图3为本技术实施例提供的坩埚载板的俯视图。附图标记：10-真空容器11-活动门板20-承载台30-蒸发源40-坩埚401-边沿50-坩埚载板51第一部分52-第二部分501-通孔502-凹槽60-升降机构601-丝杆602-电机70-压力传感器具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面结合附图对本技术作进一步详细地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术实施例提供了一种真空蒸镀装置，通过设置坩埚载板以及控制坩埚载板上升或下降的升降机构，从而在更换坩埚或向坩埚中填料时，能够保证坩埚相对蒸发源垂直向上运动或垂直向下运动，避免了坩埚与蒸发源的腔壁发生碰撞。具体的，该真空蒸镀装置包括真空容器以及设置在真空容器内的承载台，真空容器的顶部设有活动门板，真空容器的底部与承载台的台面之间设有多个蒸发源，且承载台的台面上设有与多个蒸发源一一对应的开孔；其中，每个蒸发源的腔体内设有坩埚，且坩埚的开口处设有向外突出的边沿；针对每一个坩埚，还包括坩埚载板以及用于控制坩埚载板上升或下降的升降机构，坩埚载板上设有与坩埚配合的通孔，且坩埚的边沿卡在通孔上。上述实施例中，由于坩埚边沿的外圈直径大于通孔的直径，在将坩埚放置在坩埚载板的通孔内时，坩埚的边沿被通孔卡住，从而使得坩埚能够随坩埚载板发生同步运动，即，当需要更换坩埚或向坩埚中填料时，在升降机构的控制下，坩埚载板能够将坩埚从蒸发源的腔体内垂直向上托起，到达真空容器的顶部后，工作人员打开位于真空容器顶部的活动门板即可更换坩埚或向坩埚中填料，避免了工作人员进入真空容器内进行上述操作；操作完成后，在升降机构的控制下，坩埚载板将坩埚垂直向下送入蒸发源的腔体内，在这一过程中，坩埚相对蒸发源在竖直方向上运动，也避免了坩埚与蒸发源的腔体之间发生碰撞，大大减小了工作人员的工作难度，有效避免了人为因素而造成的损坏。为了更加清楚的了解本技术实施例提供的真空蒸镀装置的结构，现结合附图进行详细的描述。如图1所示，该真空蒸镀装置包括真空容器10，真空容器10内设置有承载台20，真空容器10的顶部设有活动门板11，真空容器10的底部与承载台20的台面之间形成容置空间，在该容置空间内设有多个蒸发源30，且承载台20的台面上设有与这些蒸发源30一一对应的开孔；每个蒸发源30的腔体内设有坩埚40，坩埚40的结构如图2所示，其中，坩埚40的开口处设有向外突出的边沿401；针对每一个坩埚40，还包括坩埚载板50以及用于控制坩埚载板50上升或下降的升降机构60，坩埚载板50上设有与坩埚40配合的通孔501，且坩埚40的边沿401的外圈直径大于通孔501的直径，在将坩埚40放置在坩埚载板50上的通孔501内时，坩埚40的边沿401被通孔501卡住，从而使得坩埚40能够随坩埚载板50发生同步运动，当需要更换坩埚40或向坩埚40中填料时，在升降机构60的控制下，坩埚载板50能够将坩埚40从蒸发源30的腔体内垂直向上托起，到达真空容器10的顶部后，工作人员打开位于真空容器10顶部的活动门板11即可更换坩埚40或向坩埚40中填料，避免了工作人员进入真空容器10内进行上述操作，如工作人员可以采用行车将活动门板11吊起；操作完成后，在升降机构60的控制下，坩埚载板50将坩埚40垂直向下送入蒸发源30的腔体内，并关闭活动门板11；在上述过程中，由于坩埚40相对蒸发源30在竖直方向上运动，从而避免了坩埚40与蒸发源30的腔体之间发生碰撞，大大减小了工作人员的工作难度，有效避免了人为因素而造成的损坏。具体设置时，坩埚载板50为耐高温材料制成的载板结构。坩埚载板50的具体结构如图3所示本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空蒸镀装置，其特征在于，包括真空容器以及设置在所述真空容器内的承载台，所述真空容器的顶部设有活动门板，所述真空容器的底部与所述承载台的台面之间设有多个蒸发源，且所述承载台的台面上设有与所述多个蒸发源一一对应的开孔；其中，/n每个蒸发源的腔体内设有坩埚，且所述坩埚的开口处设有向外突出的边沿；/n针对每一个坩埚，还包括坩埚载板以及用于控制所述坩埚载板上升或下降的升降机构，所述坩埚载板上设有与所述坩埚配合的通孔，且所述坩埚的边沿卡在所述通孔上。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空蒸镀装置，其特征在于，包括真空容器以及设置在所述真空容器内的承载台，所述真空容器的顶部设有活动门板，所述真空容器的底部与所述承载台的台面之间设有多个蒸发源，且所述承载台的台面上设有与所述多个蒸发源一一对应的开孔；其中，
每个蒸发源的腔体内设有坩埚，且所述坩埚的开口处设有向外突出的边沿；
针对每一个坩埚，还包括坩埚载板以及用于控制所述坩埚载板上升或下降的升降机构，所述坩埚载板上设有与所述坩埚配合的通孔，且所述坩埚的边沿卡在所述通孔上。


2.如权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述坩埚载板上设有与所述坩埚的边沿配合的凹槽。


3.如权利要求2所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述凹槽在所述承载台上的投影与所述坩埚的边沿在所述承载台上的投影完全重合。


4.如权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述坩埚载板包括沿所述通孔的直径方向分开的第一部分以及第二部分，...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈文祥，李佳乐，顾天宇，
申请(专利权)人：合肥欣奕华智能机器有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34