镀膜用容器制造技术

本申请公开了一种镀膜用容器，涉及镀膜用具的技术领域。本申请的镀膜用容器包括坩埚和衬锅，坩埚具有坩埚底盘和设于坩埚底盘的坩埚边框，坩埚边框围成坩埚容置空间；衬锅具有衬锅底盘和设于衬锅底盘的衬锅边框，衬锅设于坩埚容置空间中；其中，在装配状态下，坩埚底盘与衬锅底盘贴合，坩埚边框与衬锅边框之间留有间隙。本申请通过坩埚边框与衬锅边框之间设置间隙，从而减小产生的电极黑点数，甚至不会产生电极黑点，增强了保温效果，减小了所需功率，延长了衬锅的使用寿命。

Container for coating

【技术实现步骤摘要】
镀膜用容器
本申请涉及镀膜用具的
，具体而言，涉及一种镀膜用容器。
技术介绍
现有技术的一种镀膜方式下，往往利用通过10000V左右的电子枪灯丝打出的能量来将衬锅内金属材料融化。但是现有技术中镀膜用具容易产生电极黑点，所需功率较大，保温效果较差。
技术实现思路
本申请的目的在于提供一种镀膜用容器，其减小产生的电极黑点数，保温效果较好，所需功率较小。本申请的实施例是这样实现的：一种镀膜用容器，包括坩埚和衬锅，所述坩埚具有坩埚底盘和设于所述坩埚底盘的坩埚边框，所述坩埚边框围成坩埚容置空间；所述衬锅具有衬锅底盘和设于所述衬锅底盘的衬锅边框，所述衬锅设于所述坩埚容置空间中；其中，在装配状态下，所述坩埚底盘与所述衬锅底盘贴合，所述坩埚边框与所述衬锅边框之间留有间隙。于一实施例中，所述坩埚容置空间的深度大于所述衬锅的高度。于一实施例中，所述坩埚容置空间的内底面的面积大于所述衬锅底盘的底面面积。于一实施例中，所述坩埚底盘和所述衬锅底盘均为圆柱形结构；所述坩埚容置空间顶端的内径大于所述坩本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜用容器，其特征在于，包括：/n坩埚，具有坩埚底盘和设于所述坩埚底盘的坩埚边框，所述坩埚边框围成坩埚容置空间；以及/n衬锅，具有衬锅底盘和设于所述衬锅底盘的衬锅边框，所述衬锅设于所述坩埚容置空间中；/n其中，在装配状态下，所述坩埚底盘与所述衬锅底盘贴合，所述坩埚边框与所述衬锅边框之间留有间隙。/n

【技术特征摘要】
1.一种镀膜用容器，其特征在于，包括：
坩埚，具有坩埚底盘和设于所述坩埚底盘的坩埚边框，所述坩埚边框围成坩埚容置空间；以及
衬锅，具有衬锅底盘和设于所述衬锅底盘的衬锅边框，所述衬锅设于所述坩埚容置空间中；
其中，在装配状态下，所述坩埚底盘与所述衬锅底盘贴合，所述坩埚边框与所述衬锅边框之间留有间隙。


2.根据权利要求1所述的镀膜用容器，其特征在于，所述坩埚容置空间的深度大于所述衬锅的高度。


3.根据权利要求1所述的镀膜用容器，其特征在于，所述坩埚容置空间的内底面的面积大于所述衬锅底盘的底面面积。


4.根据权利要求1至3任一项所述的镀膜用容器，其特征在于，所述坩埚底盘和所述衬锅底盘均为圆柱形结构；
所述坩埚容置空间顶端的内径大于所述坩埚容置空间底端的内径；
所述衬锅边框顶端的外径大于所述衬锅边框底端的外径。


5.根据权利要求4所述的镀膜用容器，其特征在于，所述坩埚容置空间包括由上至下依次连接的第一孔段、第二孔段和...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏朋，杨国文，宋院鑫，张松涛，赵卫东，
申请(专利权)人：度亘激光技术苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32