定位标记、掩膜板及光刻定位方法技术

本发明专利技术提供一种定位标记、掩膜板及光刻定位方法，涉及光刻技术领域，包括第一透明区、第二透明区和测距结构；所述第一透明区为弧形，所述第一透明区具有第一弧形边缘；所述第二透明区设置在所述第一弧形边缘朝向所述第一透明区外部的一侧，所述第二透明区能够观察所述第一弧形边缘与工件边缘是否重叠；所述测距结构能够测量沿第一方向线所述第一弧形边缘与工件边缘之间的距离。能够使工件实现沿第一方向线的方向上对准，用户可以根据沿第一方向线第一弧形边缘与工件边缘之间的距离调整工件位置，使调整工件位置过程更加准确和便捷。使调整工件位置过程更加准确和便捷。使调整工件位置过程更加准确和便捷。

【技术实现步骤摘要】
定位标记、掩膜板及光刻定位方法


[0001]本专利技术涉及光刻
，尤其是涉及一种对晶圆进行套刻定位的定位标记、掩膜板及光刻定位方法。

技术介绍

[0002]光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将掩膜板上的图形转移到所在衬底上。
[0003]在外延生长后，为了对晶体的生长方向进行标记，将晶圆的左侧解理成平边。但是在光刻定位时，晶圆左边的平边能够定位晶圆的左右位置，晶圆的上下位置却无法定位。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种定位标记，以解决现有技术中无法对晶圆进行上下定位的技术问题。
[0005]本专利技术提供的定位标记，包括第一透明区、第二透明区和测距结构；
[0006]所述第一透明区为弧形，所述第一透明区具有第一弧形边缘；
[0007]所述第二透明区设置在所述第一弧形边缘朝向所述第一透明区外部的一侧，所述第二透明区能够观察所述第一弧形边缘与工件边缘是否重叠；
[0008]所述测距结构能够测量沿第一方向线所述第一弧形边缘与工件边缘之间的距离。
[0009]进一步地，所述第二透明区与所述第一透明区连通并形成阶梯结构。
[0010]进一步地，所述测距结构包括多个刻度线，多个所述刻度线沿第一方向线均匀间隔设置；
[0011]位于多个所述刻度线中一端的刻度线设置在所述第一透明区内，位于多个所述刻度线中另一端的刻度线设置在所述第二透明区内。
[0012]进一步地，所述第二透明区为弧形；
[0013]所述第二透明区具有相对设置的第二弧形边缘和第三弧形边缘；所述第二弧形边缘与所述第一弧形边缘共线设置；
[0014]所述第一弧形边缘所属圆的圆心与所述第三弧形边缘所属圆的圆心沿第一方向线间隔设置，所述第二透明区形成所述测距结构。
[0015]进一步地，所述第二透明区为多个；
[0016]多个所述第二透明区中的第三弧形边缘所属圆的圆心沿第一方向线均匀间隔设置，且多个所述第二透明区依次连通并形成阶梯结构；多个所述第二透明区形成所述测距结构。
[0017]进一步地，所述第二透明区为弧形；
[0018]所述第二透明区具有相对设置的第二弧形边缘和第三弧形边缘；所述第二弧形边缘与所述第一弧形边缘共线设置；
[0019]所述第一弧形边缘所属圆的圆心与所述第三弧形边缘所属圆的圆心沿第一方向
线间隔设置；沿所述第一弧形边缘的周向，所述第一透明区与所述第二透明区间隔设置；所述第一弧形边缘的半径、所述第二弧形边缘的半径和所述第三弧形边缘的半径相等；所述第二透明区形成所述测距结构。
[0020]进一步地，所述第二透明区为多个；
[0021]多个所述第二透明区中的第三弧形边缘所属圆的圆心沿第一方向线均匀间隔设置；
[0022]相邻的两个第二透明区中靠近第一透明区设置的为第二透明区a，远离所述第一透明区设置的为第二透明区b，沿所述第二透明区a的第三弧形边缘的周向，所述第二透明区a与所述第二透明区b间隔设置，所述第二透明区a的第三弧形边缘与所述第二透明区b的第二弧形边缘共线设置；多个所述第二透明区形成所述测距结构。
[0023]进一步地，所述第一透明区具有两个相对设置的第一弧形边缘；
[0024]两个所述第一弧形边缘朝向所述第一透明区外部的一侧均设有第二透明区。
[0025]本专利技术的目的还在于提供一种掩膜板，包括本专利技术提供的定位标记。
[0026]本专利技术的目的还在于提供一种光刻定位方法，使用本专利技术提供的定位标记或本专利技术提供的掩膜板进行光刻定位，包括以下步骤：
[0027]通过第一透明区和第二透明区观察预选的第一弧形边缘与工件边缘是否重叠；
[0028]预选的第一弧形边缘与工件边缘重叠时，工件与掩膜板对准；
[0029]预选的第一弧形边缘与工件边缘不重叠时，通过测距结构观察沿第一方向线预选的第一弧形边缘与工件边缘之间的距离，并根据沿第一方向线预选的第一弧形边缘与工件边缘之间的距离调整工件位置，以使预选的第一弧形边缘与工件边缘重叠。
[0030]本专利技术提供的定位标记，包括第一透明区、第二透明区和测距结构；所述第一透明区为弧形，所述第一透明区具有第一弧形边缘；所述第二透明区设置在所述第一弧形边缘朝向所述第一透明区外部的一侧，所述第二透明区能够观察所述第一弧形边缘与工件边缘是否重叠；所述测距结构能够测量沿第一方向线所述第一弧形边缘与工件边缘之间的距离。在对工件进行定位时，定位标记设置在掩膜板上，通过第一透明区和第二透明区观察第一弧形边缘与工件边缘是否重叠，如果第一弧形边缘与工件边缘重叠，则工件沿第一方向线的方向上对准，如果第一弧形边缘与工件边缘不重叠，通过测距结构得出沿第一方向线第一弧形边缘与工件边缘之间的距离，并根据沿第一方向线第一弧形边缘与工件边缘之间的距离调整工件位置，以使第一弧形边缘与工件边缘重叠，从而使工件实现沿第一方向线的方向上对准。测距结构能够使用户更加直观地观察到沿第一方向线第一弧形边缘与工件边缘之间的距离，以使工件边缘更加准确地与第一弧形边缘对准，并且在调整工件位置过程中能够观测沿第一方向线第一弧形边缘与工件边缘之间的距离，用户可以根据沿第一方向线第一弧形边缘与工件边缘之间的距离调整工件位置，使调整工件位置过程更加准确和便捷。
附图说明
[0031]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前
提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0032]图1是现有技术中晶圆的结构示意图；
[0033]图2是本专利技术实施例提供的一种实施方式中定位标记的结构示意图；
[0034]图3是本专利技术实施例提供的另一种实施方式中定位标记的结构示意图；
[0035]图4是本专利技术实施例提供的又一种实施方式中定位标记的结构示意图；
[0036]图5是本专利技术实施例提供的具有多个第二透明区的定位标记的结构示意图。
[0037]图标：1
‑
晶圆；2
‑
第一透明区；21
‑
第一弧形边缘；3
‑
第二透明区；31
‑
第三弧形边缘；32
‑
第二弧形边缘；33
‑
第二透明区a；34
‑
第二透明区b；35
‑
第一直边；36
‑
第二直边；37
‑
第三直边；4
‑
刻度线。
具体实施方式
[0038]下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种定位标记，其特征在于，包括第一透明区、第二透明区和测距结构；所述第一透明区为弧形，所述第一透明区具有第一弧形边缘；所述第二透明区设置在所述第一弧形边缘朝向所述第一透明区外部的一侧，所述第二透明区能够观察所述第一弧形边缘与工件边缘是否重叠；所述测距结构能够测量沿第一方向线所述第一弧形边缘与工件边缘之间的距离。2.根据权利要求1所述的定位标记，其特征在于，所述第二透明区与所述第一透明区连通并形成阶梯结构。3.根据权利要求2所述的定位标记，其特征在于，所述测距结构包括多个刻度线，多个所述刻度线沿第一方向线均匀间隔设置；位于多个所述刻度线中一端的刻度线设置在所述第一透明区内，位于多个所述刻度线中另一端的刻度线设置在所述第二透明区内。4.根据权利要求2所述的定位标记，其特征在于，所述第二透明区为弧形；所述第二透明区具有相对设置的第二弧形边缘和第三弧形边缘；所述第二弧形边缘与所述第一弧形边缘共线设置；所述第一弧形边缘所属圆的圆心与所述第三弧形边缘所属圆的圆心沿第一方向线间隔设置，所述第一弧形边缘的半径、所述第二弧形边缘的半径和所述第三弧形边缘的半径相等，所述第二透明区形成所述测距结构。5.根据权利要求4所述的定位标记，其特征在于，所述第二透明区为多个；多个所述第二透明区中的第三弧形边缘所属圆的圆心沿第一方向线均匀间隔设置，且多个所述第二透明区依次连通并形成阶梯结构；多个所述第二透明区形成所述测距结构。6.根据权利要求1所述的定位标记，其特征在于，所述第二透明区为弧形；所述第二透明区具有相对设置的第二弧形边缘和第三弧形边缘；所述第二弧形边缘与所述第一弧形边缘共线设置；所述第一弧形边缘所属圆的圆心与所述第三弧形边缘所属圆的圆心...

【专利技术属性】
技术研发人员：惠利省，杨国文，白龙刚，
申请(专利权)人：度亘激光技术苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：