一种任意安装角度有机真空蒸发源坩埚制造技术

技术编号:24230892 阅读:22 留言:0更新日期:2020-05-21 02:39
一种任意安装角度有机真空蒸发源坩埚,其特征在于,包括坩埚本体和密封带,所述坩埚本体包括顶盖和坩埚壁,所述坩埚本体为U形结构,所述坩埚本体顶部半圆形顶盖可拆卸,所述顶盖通过密封带与所述坩埚壁固定,所述顶盖与所述坩埚壁的连接面为波纹形连接面,且所述连接面表面经过磨砂处理以加强密封性,所述顶盖和坩埚壁靠近所述连接面一端都设有一环形限位密封槽,所述坩埚本体下端开口处设有向坩埚内部凹陷突起形成内部凹槽,所述密封带为环形橡胶密封带,所述密封带内环中间的两侧设置环形限位密封突起,所述环形限位密封突起位置及大小与所述顶盖和坩埚壁的环形限位密封槽匹配,保证密封性的同时便于拆装。

A kind of crucible with arbitrary installation angle for organic vacuum evaporation source

【技术实现步骤摘要】
一种任意安装角度有机真空蒸发源坩埚
本技术涉及一种任意安装角度有机真空蒸发源坩埚。
技术介绍
真空蒸发沉积是一种常规的薄膜制备方式,具有材料利用效率高、简单、均匀性好、可控性高的特点,广泛地应用于无机半导体材料、金属、有机半导体材料及其他功能性材料的薄膜制作。一般来讲,真空蒸发沉积是将所蒸发的源材料放置在一个材料容器中,通过不同加热方式使得源材料汽化,从而产生源材料的原子、分子或者团簇束流,并在真空中无碰撞地沉积在衬底上,其生长速率可由源材料的温度决定。而产生原子、分子或者团簇束流的设备统称蒸发源,其包括材料容器、加热组件、温度测量组件、控温组件组成。然而,无论是电子束蒸发源还是热阻蒸发源,其安装方向都有一定的限制:就是蒸发口朝上或者以一定的角度朝上。在朝下的情况下,其材料容器及其里边的蒸发材料会从容器中掉出来,从而无法进行蒸发使用。开口朝下的蒸发源将带来诸多便利,如样品无需反置、方便功能性集成和可实现原位实时监测等,所以因此亟需一种任意安装角度坩埚,同时也要方便清洗及加工。
技术实现思路
为解决现有技术中的问题,本技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种任意安装角度有机真空蒸发源坩埚,其特征在于,包括坩埚本体(1)和密封带(7),所述坩埚本体(1)包括顶盖(2)和坩埚壁(3),所述坩埚本体(1)为U形结构,所述坩埚本体(1)顶部半圆形顶盖(2)可拆卸,所述顶盖(2)通过密封带(7)与所述坩埚壁(3)固定,所述顶盖(2)与所述坩埚壁(3)的连接面(4)为波纹形连接面,且所述连接面(4)表面经过磨砂处理以加强密封性,所述顶盖(2)和坩埚壁(3)靠近所述连接面(4)一端都设有一环形限位密封槽(6),所述坩埚本体(1)下端开口处设有向坩埚内部凹陷突起形成内部凹槽。/n

【技术特征摘要】
1.一种任意安装角度有机真空蒸发源坩埚,其特征在于,包括坩埚本体(1)和密封带(7),所述坩埚本体(1)包括顶盖(2)和坩埚壁(3),所述坩埚本体(1)为U形结构,所述坩埚本体(1)顶部半圆形顶盖(2)可拆卸,所述顶盖(2)通过密封带(7)与所述坩埚壁(3)固定,所述顶盖(2)与所述坩埚壁(3)的连接面(4)为波纹形连接面,且所述连接面(4)表面经过磨砂处理以加强密封性,所述顶盖(2)和坩埚壁(3)靠近所述连接面(4)一端都设有一环形限位密封槽(6),所述坩埚本体(1)下端开口处设有向坩埚内部凹陷突起形成内部凹槽。

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【专利技术属性】
技术研发人员:王文冲王燕东迟力峰
申请(专利权)人:苏州驰鸣纳米技术有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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