一种待转移器件的位置识别方法及设备技术

技术编号:33087066 阅读:19 留言:0更新日期:2022-04-15 10:52
本申请提供一种待转移器件的位置识别方法及设备;在转移设备的目标基台上承载的Wafer的分布区域中,识别到目标标记区域后,确定目标标记区域对应的标记点的第一目标位置坐标,分布区域为待转移器件在Wafer中的占用区域,基于第一目标位置坐标和标记点对应的第一历史位置坐标,确定坐标转换关系,第一历史位置坐标是基于预先识别的Wafer中各个待转移器件的第二历史位置坐标中的至少一个确定的,第二历史位置坐标是相对辅助设备的位置坐标,且转移设备和辅助设备的坐标系相同;基于坐标转换关系,对Wafer中的各个待转移器件的第二历史位置坐标进行转换,获得各个待转移器件相对转移设备的第二目标位置坐标,缩短识别时间。间。间。

【技术实现步骤摘要】
一种待转移器件的位置识别方法及设备


[0001]本专利技术涉及器件转移
,尤其涉及一种待转移器件的位置识别方法及设备。

技术介绍

[0002]转移设备将分布在Wafer(晶圆)上的数千乃至数万枚待转移器件转移到基板的转移目标上时,通过Wafer与基板的相对移动,改变待转移器件与转移目标的相对位置,当确定待转移器件和转移目标的位置完全对正时,转移设备将待转移器件转移至转移目标上,完成一次转移。
[0003]在开始转移前,转移设备需要确定待转移器件和转移目标的位置坐标。由于不同的Wafer上,待转移器件相对Wafer的位置坐标不同,因此转移设备需要通过相机对Wafer上的待转移器件的位置坐标进行拍照识别,以确定Wafer上待转移器件的位置坐标。
[0004]在进行拍照识别时,一方面受限于设备机械结构及相机的最大分辨率,无法通过增加相机到Wafer的距离来实现在同一个相机视野内拍摄大量待转移器件,另一方面,相机视野的边缘存在畸变,识别精度较差。为了保证识别精度,相机一次拍摄少量的待转移器件,然后通过相机与Wafer的相对移动,多次切换相机视野进行拍照,并采用视觉的拼接算法计算得到所有待转移器件的位置坐标。
[0005]综上,相机需要与Wafer相对移动上百次才能完成所有待转移器件的位置识别,导致转移设备需要花费大量时间识别待转移器件的位置坐标,工作效率低。

技术实现思路

[0006]本申请提供一种待转移器件的位置识别方法及装置,用以缩短转移设备识别待转移器件的位置坐标的时间,提升转移效率。
[0007]第一方面,本申请实施例提供一种待转移器件的位置识别方法,该方法包括:
[0008]在转移设备的目标基台上承载的晶圆Wafer的分布区域中,识别到目标标记区域后,确定目标标记区域对应的标记点的第一目标位置坐标,其中,分布区域为待转移器件在Wafer中的占用区域;
[0009]基于第一目标位置坐标和标记点对应的第一历史位置坐标,确定坐标转换关系,其中,第一历史位置坐标是,基于预先识别的Wafer中各个待转移器件的第二历史位置坐标中,至少一个第二历史位置坐标确定的,第二历史位置坐标是相对辅助设备的位置坐标,且转移设备和辅助设备的坐标系相同;
[0010]基于坐标转换关系,对Wafer中的各个待转移器件的第二历史位置坐标进行转换,获得各个待转移器件相对转移设备的第二目标位置坐标。
[0011]第二方面,本申请实施例提供一种待转移器件的位置识别装置,该装置包括:
[0012]第一确定单元,用于在转移设备的目标基台上承载的晶圆Wafer的分布区域中,识别到目标标记区域后,确定目标标记区域对应的标记点的第一目标位置坐标,其中,分布区
域为待转移器件在Wafer中的占用区域;
[0013]第二确定单元,用于基于第一目标位置坐标和标记点对应的第一历史位置坐标,确定坐标转换关系,其中,第一历史位置坐标是,基于预先识别的Wafer中各个待转移器件的第二历史位置坐标中,至少一个第二历史位置坐标确定的,第二历史位置坐标是相对辅助设备的位置坐标,且转移设备和辅助设备的坐标系相同;
[0014]获得单元,用于基于坐标转换关系,对Wafer中的各个待转移器件的第二历史位置坐标进行转换,获得各个待转移器件相对转移设备的第二目标位置坐标。
[0015]第三方面,本申请实施例提供一种待转移器件的位置识别设备,包括:存储器和处理器,其中,存储器,用于存储计算机指令;处理器,用于执行计算机指令以实现本申请实施例提供的待转移器件的位置识别方法的步骤。
[0016]第四方面,本申请实施例提供一种计算机可读存储介质,计算机可读存储介质存储有计算机指令,计算机指令被处理器执行时实现本申请实施例提供的待转移器件的位置识别方法的步骤。
[0017]第五方面,本申请实施例提供一种计算机程序产品,其包括计算机指令,计算机指令存储在计算机可读存储介质中;当电子设备的处理器从计算机可读存储介质读取计算机指令时,处理器执行计算机指令,使得电子设备执行本申请实施例提供的待转移器件的位置识别方法的步骤。
[0018]本申请有益效果如下:
[0019]本申请实施例提供一种待转移器件的位置识别方法及装置,用以缩短转移设备识别待转移器件的位置坐标的时间,提升转移效率。在本申请实施例中,转移设备和辅助设备并行作业,通过辅助设备预先识别的Wafer中各个待转移器件的第二历史位置坐标后,将Wafer安置到转移设备的目标基台上,在转移设备的目标基台上承载的Wafer的分布区域中,识别到目标标记区域后,确定目标标记区域对应的标记点的第一目标位置坐标;然后,基于第一目标位置坐标和标记点对应的第一历史位置坐标,确定坐标转换关系,其中,第一历史位置坐标是,基于预先识别的第二历史位置坐标中的至少一个第二历史位置坐标确定的,转移设备和辅助设备的坐标系相同;最后,基于坐标转换关系,对Wafer中的各个待转移器件的第二历史位置坐标进行转换,获得各个待转移器件相对转移设备的第二目标位置坐标;
[0020]在相机视野分辨率有限及相机视野边缘存在畸变的限制下,将转移设备识别待转移器件时,相机视野移动拍摄的次数从上百次减少至几次,极大的减少了转移设备识别待转移器件的位置坐标所需的时间,提高转移效率;且本申请实施例中引入辅助设备,辅助设备与转移设备并行工作,在减少转移设备识别待转移器件的位置坐标时间的同时,保持识别精度。
[0021]本申请的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本申请而了解。本申请的目的和其他优点可通过在所写的说明书、权利要求书、以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使
用的附图作简要介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域的普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1为本申请实施例中一种待转移器件的位置识别方法的流程图;
[0024]图2为本申请实施例中一种转移设备的结构图;
[0025]图3为本申请实施例中一种辅助设备的结构图;
[0026]图4为本申请实施例中一种将Wafer从辅助设备转移至转移设备上的示意图;
[0027]图5为本申请实施例中一种转移设备上确定待转移器件位置坐标的示意图;
[0028]图6为本申请实施例中第一种在Wafer的分布区域中确定目标标记区域的示意图;
[0029]图7为本申请实施例中第二种在Wafer的分布区域中确定目标标记区域的示意图;
[0030]图8为本申请实施例中第三种在Wafer的分布区域中确定目标标记区域的示意图;
[0031]图9为本申请实施例中一种在Wafer的分布区域中确定至少一个子区域的示意图;
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种待转移器件的位置识别方法,其特征在于,所述方法包括:在转移设备的目标基台上承载的晶圆Wafer的分布区域中,识别到目标标记区域后,确定所述目标标记区域对应的标记点的第一目标位置坐标,其中,所述分布区域为待转移器件在所述Wafer中的占用区域;基于所述第一目标位置坐标和所述标记点对应的第一历史位置坐标,确定坐标转换关系,其中,所述第一历史位置坐标是,基于预先识别的所述Wafer中各个待转移器件的第二历史位置坐标中,至少一个第二历史位置坐标确定的,所述第二历史位置坐标是相对辅助设备的位置坐标,且所述转移设备和所述辅助设备的坐标系相同;基于所述坐标转换关系,对所述Wafer中的各个待转移器件的第二历史位置坐标进行转换,获得所述各个待转移器件相对所述转移设备的第二目标位置坐标。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述识别到目标标记区域之后,基于所述第一目标位置坐标和所述标记点对应的第一历史位置坐标,确定坐标转换关系之前,还包括:对所述分布区域进行划分,获得至少一个子区域;针对任一子区域,在所述子区域中,识别验证区域中包含的各个目标待转移器件对应的第三目标位置坐标,并基于识别的所述各个目标待转移器件的第三目标位置坐标,确定所述各个目标待转移器件之间的目标相对位置;基于所述各个目标待转移器件之间的目标相对位置,与所述各个目标待转移器件之间的历史相对位置,确定偏移量;若确定所述偏移量在误差允许范围内,则基于所述第一目标位置坐标和所述标记点对应的第一历史位置坐标,确定所述坐标转换关系。3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述对所述分布区域进行划分,包括:基于识别到的所述目标标记区域对应的所述标记点的第一目标位置坐标,将所述分布区域划分成与所述标记点数量一致的至少一个所述子区域,其中,每个所述子区域中包含一个所述目标标记区域。4.如权利要求1~3任一所述的方法,其特征在于,所述在转移设备的目标基台上承载的晶圆Wafer的分布区域中,识别到目标标记区域,具体包括:基于历史标记区域相对所述Wafer中分布区域的位置信息,识别所述分布区域中与所述位置信息相同的位置上的待转移器件,并确定识别到的所述待转移器件组成的目标区域;在确定所述目标区域与历史标记区域的轮廓一致后,确定识别到所述目标标记区域;其中,所述历史标记区域是在辅助设备中,针对所述Wafer中各个待转移器件,识别获得相应的第二历史位置坐标后,进行标记的。5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述确定所述目标标记区域对应的标记点的目标位置坐标,包括:若所述标记区域中包含一个待转移器件,则将所述一个待转移器件相对所述转移设备的第二目标位置坐标,作为所述标记点的第一目标位置坐标;若所述标记区域中包含有多个待转移器件,则确定各个待转移器件的相对所述转移设备的第二目标位置坐标,并将所有第二目标位置坐标进行平均,将平均值作为所述标记点的第一目标位置坐标。
6.一种待转移器件的位置识...

【专利技术属性】
技术研发人员:何烽光周致远王文超冯晓庆李建中
申请(专利权)人:合肥欣奕华智能机器有限公司
类型:发明
国别省市:

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