【技术实现步骤摘要】
扇出型半导体封装件本申请要求于2018年11月16日在韩国知识产权局提交的第10-2018-0141648号韩国专利申请的优先权的权益,所述韩国专利申请的公开内容通过整体引用被包含于此。
本公开涉及一种半导体封装件,例如,扇出型半导体封装件。
技术介绍
近年来与半导体芯片相关的技术开发中的主要趋势之一是减小组件的尺寸。因此,在封装领域中,根据随着对小型半导体芯片等的需求的激增,需要实现大量的具有小尺寸的引脚。为了满足这种需求,提出的半导体封装件技术中的一种是扇出型半导体封装件。扇出型半导体封装件可将电连接结构重新分布在其中设置有半导体芯片的区域之外,从而能够在保持小尺寸的同时实现大量引脚。另一方面,近来,为了改善高端智能手机产品的电特性并有效利用空间,并且应用包括不同半导体芯片的半导体封装件的层叠封装(POP),需要在半导体封装件结构中形成背侧电路,并且对背侧电路的线和空间的需求根据芯片特性的增强和面积减小的需求而不断增加。
技术实现思路
本公开的一方面在于提供一种扇出型半导体封装件,该扇出型半导体封装件具有背侧电路,能够应用于层叠封装(POP)结构,能够确保优异的信号和功率特性,并且还能够确保产品的轻量化、纤薄化、缩短化和紧凑性。本公开的一方面在于提供设置在封装件的背侧上的不同高度上的第一金属图案层和第二金属图案层,其中,所述第一金属图案层设置为电连接到诸如框架的电连接构件,设置用于封装件的通过经过所述第二金属图案层的路径的在竖直方向上的电连接。根据本公开 ...
【技术保护点】
1.一种扇出型半导体封装件,包括:/n框架,具有通孔并且包括一个或更多个布线层;/n半导体芯片,设置在所述框架的所述通孔中;/n连接结构,设置在所述框架和所述半导体芯片中的每个的下方,并且包括一个或更多个重新分布层;/n包封剂,覆盖所述框架和所述半导体芯片中的每个的上表面,并且填充所述框架的所述通孔的壁表面和所述半导体芯片的侧表面之间的空间;/n第一金属图案层,设置在所述包封剂的上表面上;/n绝缘材料,设置在所述包封剂的上表面上并覆盖所述第一金属图案层;以及/n第二金属图案层,设置在所述绝缘材料的上表面上,/n其中,所述第一金属图案层位于所述第二金属图案层的下表面和所述框架的所述布线层之中的最上面的布线层的上表面之间的高度上,并且/n所述第一金属图案层通过经过所述第二金属图案层的路径电连接到所述最上面的布线层。/n
【技术特征摘要】
20181116 KR 10-2018-01416481.一种扇出型半导体封装件,包括:
框架,具有通孔并且包括一个或更多个布线层;
半导体芯片,设置在所述框架的所述通孔中;
连接结构,设置在所述框架和所述半导体芯片中的每个的下方,并且包括一个或更多个重新分布层;
包封剂,覆盖所述框架和所述半导体芯片中的每个的上表面,并且填充所述框架的所述通孔的壁表面和所述半导体芯片的侧表面之间的空间;
第一金属图案层,设置在所述包封剂的上表面上;
绝缘材料,设置在所述包封剂的上表面上并覆盖所述第一金属图案层;以及
第二金属图案层,设置在所述绝缘材料的上表面上,
其中,所述第一金属图案层位于所述第二金属图案层的下表面和所述框架的所述布线层之中的最上面的布线层的上表面之间的高度上,并且
所述第一金属图案层通过经过所述第二金属图案层的路径电连接到所述最上面的布线层。
2.根据权利要求1所述的扇出型半导体封装件,所述扇出型半导体封装件还包括:
第一金属过孔,穿过所述绝缘材料并且使所述第一金属图案层和所述第二金属图案层电连接;以及
第二金属过孔,穿过所述绝缘材料和所述包封剂并且使所述第二金属图案层和所述最上面的布线层电连接,
其中,所述路径依次穿过所述第一金属过孔、所述第二金属图案层和所述第二金属过孔或者依次穿过所述第二金属过孔、所述第二金属图案层和所述第一金属过孔。
3.根据权利要求2所述的扇出型半导体封装件,其中,在所述第一金属图案层和所述最上面的布线层之间不存在使所述第一金属图案层和所述最上面的布线层直接连接的金属过孔。
4.根据权利要求2所述的扇出型半导体封装件,其中,所述第二金属过孔高于所述第一金属过孔。
5.根据权利要求1所述的扇出型半导体封装件,其中,所述第一金属图案层比所述最上面的布线层薄。
6.根据权利要求1所述的扇出型半导体封装件,其中,所述第一金属图案层比所述第二金属图案层薄。
7.根据权利要求6所述的扇出型半导体封装件,其中,所述第二金属图案层比所述最上面的布线层薄。
8.根据权利要求1所述的扇出型半导体封装件,其中,所述第一金属图案层包括接地图案,而不包括信号图案,
所述第二金属图案层包括接地图案和信号图案,并且
所述最上面的布线层包括接地图案和信号图案。
9.根据权利要求8所述的扇出型半导体封装件,其中,所述第一金属图案层的接地图案通过经过所述第二金属图案层的接地图案的路径电连接到所述最上面的布线层的接地图案。
10.根据权利要求8所述的扇出型半导体封装件,其中,所述第一金属图案层的覆盖所述包封剂的上表面的平面区域大于所述第二金属图案层的覆盖所述绝缘材料的上表面的平面区域。
11.根据权利要求1所述的扇出型半导体封装件,其中,所述半导体芯片具有其上设置有电连接到所述重新分布层的连接垫的有效表面和与所述有效表面相对的无效表面,并且
所述有效表面与所述连接结构接触。
12.根据权利要求1所述的扇出型半导体封装...
【专利技术属性】
技术研发人员:金俊成,李斗焕,朴振嫙,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
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